太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備及方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及光伏行業(yè),尤其涉及一種太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備及方法。
【背景技術】
[0002]在光伏行業(yè)中,硅片的濕法制絨處理一般采用將硅片浸泡于腐蝕性液體中進行表面處理,因反應區(qū)內的腐蝕性液體量很大,參與反應的腐蝕液以及反應后的生成物和未參與反應的腐蝕液摻雜在一起,造成反應槽內的藥液濃度出現(xiàn)區(qū)域性濃度不一致,這將導致硅片表面處理的均勻性大大降低,對生產加工出來的硅片質量影響非常大。
[0003]因此,如何提供一種有效提高硅片表面處理質量的太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備及方法是業(yè)界亟待解決的技術問題。
【發(fā)明內容】
[0004]本發(fā)明針對上述問題提供了一種有效提高硅片表面處理質量的太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備及方法。
[0005]本發(fā)明提出的技術方案是,設計太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備,包括:運送組件,包括縱向均勻排列的滾筒、驅動滾筒的電動元件,運送組件用于向前運送硅片。噴淋組件,包括位于滾筒上方、縱向間隔設置的噴淋盒,噴淋盒底面均勻設有漏液孔。供液組件,包括設于運送組件下方的接液槽,位于接液槽下方并與接液槽連通的副槽,與所述副槽和噴淋組件連接的循環(huán)管道,以及位于副槽出口與循環(huán)管道連接的循環(huán)泵。
[0006]較優(yōu)的,循環(huán)泵的出口設有兩路管道,第一路管道接入噴淋盒內,第二路管道接回副槽內。
[0007]較優(yōu)的,噴淋盒的進口處設有流量閥,第一路管道經(jīng)過流量閥再接入噴淋盒,循環(huán)泵連接有變頻器,通過變頻器控制循環(huán)泵的轉速。
[0008]較優(yōu)的,噴淋盒的漏液孔呈錐形,漏液孔的孔徑由上至下逐漸加大;或者,噴淋盒的漏液孔呈直筒形,直筒的底面設有一圈錐形凹環(huán),該錐形凹環(huán)的孔徑由直筒孔向下逐漸加大。
[0009]進一步的,該設備還包括補液系統(tǒng),補液系統(tǒng)內設有:位于運送組件的上料口的計數(shù)傳感器、與計數(shù)傳感器連接的控制器、以及與控制器連接的補液裝置,計數(shù)傳感器對硅片計數(shù),達到設定數(shù)量后發(fā)送信號給控制器,控制器控制補液裝置向副槽內補充新藥液。
[0010]補液系統(tǒng)包括:設于副槽上方的補液罐,聯(lián)通該補液罐底部的帶有進液控制的輸液管道,所述補液罐的底部還聯(lián)通一補液管,該補液管中并接有粗補閥和精補閥,補液罐的頂部設有一用于補液罐液位檢測的超聲波液位儀,該超聲波液位儀與控制器連接。
[0011]在一實施例中,副槽內頂部設有一用于副槽內液位檢測的液位檢測器,該液位檢測器與控制器連接。
[0012]本發(fā)明還提供了一種利用上述I一7任一權利要求所述設備進行太陽能硅片濕法制絨的方法,包括以下步驟: 步驟1、將硅片間隔放置在滾筒傳送帶上并按照設定的速度通過噴淋組件;
步驟2、運送組件向前運送硅片,控制噴淋組件向硅片噴淋藥液,噴淋盒的進口設置流量閥,保證每個噴淋盒內的液位高度一致,使藥液呈連續(xù)的水滴狀從噴淋盒滴下;
步驟3、將處理完成后的硅片轉送至下一工序運送組件上流下的藥液在接液槽內聚合。
[0013]較優(yōu)的,將循環(huán)泵出口的藥液一部分返回副槽,用于對副槽內的藥液進行攪拌,使藥液混合均勻。
[0014]在一較優(yōu)實施例中,運送組件的運送速度為1.8-2.5M/Min,硅片之間的間隔距離約為20mm,當計數(shù)感應器計數(shù)到200片后,觸發(fā)補液系統(tǒng)向副槽補充新液,保證循環(huán)藥液的動態(tài)平衡。
[0015]與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明淋浴的方式將藥液噴灑或滴到硅片上,硅片反應后的生成物及未參與反應的藥液可隨著多余的藥液迅速流道接液槽,避免了傳統(tǒng)浸泡反應方式中硅片周圍藥液濃度不均勻的情況,有效保證單片硅片表面的腐蝕均勻性和多片硅片之間的腐蝕均勻性,大大提高了硅片的生產質量及降低生產不良率。更優(yōu)的,為了節(jié)約材料,聚合在接液槽內的剩余藥液還可以抽回噴液盒循環(huán)使用,使藥液被充分利用,進一步的,還可以設置補液系統(tǒng),藥液在一段時間的循環(huán)后,濃度會出現(xiàn)偏差,補液系統(tǒng)可以在藥液濃度出現(xiàn)偏差后,向接液槽補充新的藥液,以平衡藥液濃度,提高生產自動化程度。
【附圖說明】
[0016]下面結合實施例和附圖對本發(fā)明進行詳細說明,其中:
圖1是本發(fā)明的設備結構示意圖;
圖2是本發(fā)明的補液系統(tǒng)結構示意圖。
【具體實施方式】
[0017]在太陽能硅片的濕法制絨處理中,一般將硅片浸泡于腐蝕性液體中進行表面處理,參與反應的腐蝕液以及反應后的生成物和未參與反應的腐蝕液摻雜在一起,造成反應槽內的藥液濃度出現(xiàn)區(qū)域性濃度不一致,影響硅片的生產質量,本發(fā)明采用淋浴的方式將腐蝕液噴灑或滴到硅片上,多余藥液及反應生成物能及時流回副槽,避免硅片上的藥液濃度不均勻的問題。
[0018]本發(fā)明提出的太陽能硅片的淋浴式濕法制絨設備,包括:運送組件、噴淋組件及供液組件。
[0019]運送組件包括縱向均勻排列的滾筒2、驅動滾筒2的電動元件,運送組件用于向前運送硅片3。噴淋組件包括位于滾筒2上方、縱向間隔設置的噴淋盒4,噴淋盒4底面均勻設有漏液孔。供液組件包括接液槽1、副槽7、循環(huán)管道5及循環(huán)泵6,接液槽I開口朝上設于運送組件的下方,用于接收運送組件上流下的藥液,副槽7位于接液槽I下方并與接液槽I連通,接液槽I接收的藥液流向副槽7匯集,循環(huán)管道5連接在副槽7和噴淋組件之間,循環(huán)管道5的進口連接在副槽7上,出口分為多個并聯(lián)的管道分別接入各個噴淋盒4,循環(huán)泵6位于副槽7的出口,循環(huán)泵6連接在循環(huán)管道5上,用于將副槽內的藥液抽送至噴淋盒4內。
[0020]副槽7與接液槽I之間通過多條連接管接通,接液槽I內的液體從連接管中進入副槽7,設置多條連接管的作用是讓接液槽I內的液體能較快的進入副槽7。副槽7底部還設有排污孔,便于定期清理副槽7。由于流回副槽7的腐蝕液再次參與硅片腐蝕需要較長的時間,參與反應的腐蝕液以及反應后的生成物和未參與反應的腐蝕液在副槽7混溶得更好。
[0021 ] 循環(huán)泵6的出口設有兩路管道,第一路管道接入噴淋盒4內,第二路管道接回副槽7內,接回副槽7的目的是利用液體的沖擊力對副槽7內的藥液進行攪拌,使藥液混合的更均勻。在副槽7和循環(huán)泵6的共同作用下,藥液充分混勻,這就使得每次參與化學反應的循環(huán)藥液濃度接近一致,保證硅片3反應質量。
[0022]噴淋盒4的進口處設有流量閥8,第一路管道經(jīng)過流量閥8再接入噴淋盒4,循環(huán)泵6連接有變頻器,通過變頻器控制循環(huán)泵6的轉速。由于噴淋盒4設置有多個,噴淋盒4內的液位高度可決定藥液滴下的快慢速度,在噴淋盒4的進口設置流量閥8可保證每個噴淋盒4內的液位高度一致,變頻器根據(jù)流量閥8的開度控制循環(huán)泵6抽液速度,從而使噴淋盒4保持同等的速度滴液。在實際應用中,可根據(jù)不同的工藝需求調整流量閥8的開度。
[0023]噴淋盒4的漏液孔呈錐形,漏液孔的孔徑由上至下逐漸加大.或者,噴淋盒4的漏液孔呈直筒形,直筒的底面設有一圈錐形凹環(huán),該錐形凹環(huán)的孔徑由直筒孔向下逐漸加大。噴淋盒4通過漏液孔控制藥液呈水滴狀滴下。藥液呈直線型從噴淋盒流下時藥液剛接觸硅片即被后續(xù)的藥液沖走,流速快且沖擊力較大,不利于硅片反應,水滴狀落下可保證藥液與硅片3能有較長的反應時間,保證