用于從襯底去除靜電的設(shè)備和方法
【專利說明】用于從襯底去除靜電的設(shè)備和方法
[0001]本申請(qǐng)要求于2013年10月10日向韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2013-0120653號(hào)韓國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，其全部公開通過引用并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及用于從襯底去除靜電的設(shè)備和方法。
【背景技術(shù)】
[0003]用于顯示器(例如有機(jī)發(fā)光顯示器、液晶顯示器和等離子體顯示器)的襯底在成為成品之前需要經(jīng)過多個(gè)制造處理。例如，用于顯示器的襯底經(jīng)過處于大氣狀態(tài)的處理室、處于真空狀態(tài)的處理室和處于真空狀態(tài)的負(fù)載鎖止室。在處于大氣狀態(tài)的處理室中存在許多氣體分子，這些氣體分子受外力作用而流動(dòng)。另一方面，在處于真空狀態(tài)的處理室和處于真空狀態(tài)的負(fù)載鎖止室中存在很少量的氣體分子。由于這些室中的極小量的氣體分子(如果存在的話)，所以實(shí)際上沒有氣體分子流動(dòng)。
[0004]當(dāng)經(jīng)過處于大氣狀態(tài)的處理室、處于真空狀態(tài)的處理室和處于真空狀態(tài)的負(fù)載鎖止室時(shí)，用于顯示器的襯底會(huì)受到由周圍使用在處理中的元件產(chǎn)生的靜電的影響。
[0005]因?yàn)闅怏w分子在處于大氣狀態(tài)的處理室中流動(dòng)，所以可通過使用離子發(fā)生器向流動(dòng)的氣體分子提供離子而從供給至處于大氣狀態(tài)的處理室中的襯底去除靜電。也就是說，由離子發(fā)生器提供的離子可使流動(dòng)的氣體分子離子化，當(dāng)離子化的氣體分子到達(dá)襯底的帶有靜電的一部分時(shí)可中和襯底的該部分。
[0006]然而，用于從供給至處于大氣狀態(tài)的處理室中的襯底去除靜電的離子發(fā)生器僅在存在氣體分子流動(dòng)時(shí)才能去除襯底的靜電。因此，很難使用離子發(fā)生器從處于真空狀態(tài)的處理室和處于真空狀態(tài)的負(fù)載鎖止室中的襯底去除靜電，其中該處理室和該負(fù)載鎖止室中沒有氣體分子流動(dòng)。除非靜電被有效地去除，否則襯底的質(zhì)量會(huì)受靜電影響而下降。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的方面提供了用于從襯底去除靜電的設(shè)備，該設(shè)備能夠通過中和及因此去除襯底的靜電來防止真空中的襯底被靜電損壞。
[0008]本發(fā)明的方面還提供了用于從襯底去除靜電的方法，該方法能夠通過中和及因此去除襯底的靜電來防止真空中的襯底被靜電損壞。
[0009]然而，本發(fā)明的方面并不限制于本文所闡述的方面。通過參考下面給出的本發(fā)明的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述及其他方面對(duì)于本發(fā)明所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員而言將變得顯而易見。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了用于從襯底去除靜電的設(shè)備。該設(shè)備包括:真空室，襯底臺(tái)，以及第一電極和第二電極，其中襯底臺(tái)安裝在真空室之內(nèi)，第一電極和第二電極安裝在真空室之內(nèi)并與襯底臺(tái)物理地分離，其中通過施加至第一電極和第二電極的不同的電壓而在第一電極和第二電極之間形成電場，并且襯底臺(tái)的至少一部分放置在電場之內(nèi)。[0011 ] 正電壓可施加至第一電極，負(fù)電壓可施加至第二電極，其中，正電壓的絕對(duì)值可等于負(fù)電壓的絕對(duì)值。
[0012]多個(gè)第一電極和多個(gè)第二電極可沿襯底臺(tái)的第一方向交替布置，以形成包括兩個(gè)或更多電極的一列。
[0013]襯底臺(tái)可被配置為沿與第一方向垂直的第二方向移動(dòng)。
[0014]在第一方向上，最靠外的第一電極與最靠外的第二電極之間的距離可小于或大于放置在襯底臺(tái)上的襯底的寬度。
[0015]在與第一方向垂直的第二方向上，第一電極和第二電極中每個(gè)的寬度可小于放置在襯底臺(tái)上的襯底的寬度的一半。
[0016]該設(shè)備還可包括桿形固定單元，多個(gè)聯(lián)接器，供能單元，以及控制單元，其中桿形固定單元安裝在真空室之內(nèi)并且上述一列固定至桿形固定單元；多個(gè)聯(lián)接器安裝在真空室之內(nèi)并分別聯(lián)接至第一電極和第二電極，且通過螺栓聯(lián)接至固定單元，以使得其能夠沿固定單元移動(dòng)；供能單元安裝在真空室之外，并電連接至第一電極和第二電極中每個(gè)，以將不同的電壓施加至第一電極和第二電極；以及控制單元控制供能單元的電壓施加。
[0017]可在與第一方向垂直的第二方向上設(shè)置多個(gè)上述一列。
[0018]在第二方向上，最靠外的第一電極與最靠外的第二電極之間的距離可等于或大于放置在襯底臺(tái)上的襯底的寬度。
[0019]多個(gè)第一電極和多個(gè)第二電極可沿襯底臺(tái)的第一方向交替布置，以形成包括兩個(gè)或更多電極的一列，并沿與第一方向垂直的第二方向延伸。
[0020]在第二方向上，第一電極和第二電極中每個(gè)的長度可等于或大于放置在襯底臺(tái)上的襯底的寬度。
[0021]該設(shè)備還包括板形固定單元，供能單元，以及控制單元，其中板形固定單元安裝在真空室之內(nèi)且第一電極和第二電極固定在其上；供能單元安裝在真空室之外，并電連接至第一電極和第二電極中的每一個(gè)，以及將不同的電壓施加至第一電極和第二電極；以及控制單元控制供能單元的電壓施加。
[0022]真空室可為處理室，在處理室中進(jìn)行制造放置在襯底臺(tái)上的襯底的處理，其中襯底臺(tái)可為靜電夾具。
[0023]真空室可為負(fù)載鎖止室，其提供在進(jìn)行制造放置在襯底臺(tái)上的襯底的處理之前或之后襯底處于其中待用的空間，其中襯底臺(tái)可為輥。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了用于從襯底去除靜電的方法。該方法可包括:在第一電極和第二電極下放置安裝在襯底臺(tái)上的襯底的至少一部分，襯底臺(tái)安裝在真空室之內(nèi)，第一電極和第二電極安裝在真空室之內(nèi)并與襯底臺(tái)物理地分離；以及通過向第一電極和第二電極施加不同的電壓在第一電極和第二電極之間形成電場。
[0025]形成電場可包括通過沿第二方向水平移動(dòng)襯底臺(tái)來水平移動(dòng)襯底，第二方向垂直于第一電極并且第一電極和第二電極布置在第一方向上。
[0026]形成電場可在襯底離開真空室之前進(jìn)行。
[0027]在襯底離開真空室之前可以是立即在襯底與襯底臺(tái)分離之前。
【附圖說明】
[0028]通過參照附圖對(duì)示例性實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述及其他方面和特征將變得顯而易見，在附圖中:
[0029]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于從襯底去除靜電的設(shè)備的剖視圖；
[0030]圖2為示出了一些元件以解釋使用圖1所示的第一電極與第二電極之間的電場從襯底去除靜電的原理的剖視圖；
[0031]圖3為圖1所示的第一電極、第二電極和襯底的立體圖；
[0032]圖4為圖3所示的第一電極、第二電極和固定單元的仰視圖；
[0033]圖5為示出第一電極、第二電極和襯底之間的位置關(guān)系的剖視圖；
[0034]圖6為示出圖3所示的第一電極、第二電極和襯底之間的另一位置關(guān)系的剖視圖；
[0035]圖7為示出第一電極和第二電極的與圖4的布置不同的另一布置的仰視圖；
[0036]圖8為圖3所示的第一電極、第二電極和襯底的另一示例的立體圖；
[0037]圖9為圖8所示的第一電極、第二電極和固定單元的仰視圖；
[0038]圖10為圖3所示的第一電極、第二電極和襯底的另一示例的立體圖；
[0039]圖11為圖10所示的第一電極、第二電極和固定單元的仰視圖；以及
[0040]圖12為根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方式的用于從襯底去除靜電的設(shè)備的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0041]通過參照附圖以及下文中示例性實(shí)施方式的詳細(xì)描述，可以更容易地理解本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征以及實(shí)現(xiàn)這些的方法。然而，本發(fā)明能夠以多種不同形式實(shí)現(xiàn)并且不應(yīng)解釋為限于本文中公開的實(shí)施方式。提供這些實(shí)施方式旨在使本公開透徹且完整并能夠向本領(lǐng)域技術(shù)人員全面表達(dá)本發(fā)明的構(gòu)思，本發(fā)明將僅由所附的權(quán)利要求限定。
[0042]應(yīng)理解，當(dāng)元件或?qū)颖环Q為位于另一元件或?qū)印吧稀睍r(shí)，元件或?qū)涌芍苯游挥诹硪辉驅(qū)由匣虼嬖诓迦氲脑驅(qū)又g。在全文中相同的參考標(biāo)記指示相同的元件。
[0043]應(yīng)理解，雖然本文可使用用語第一、第二、第三等以描述各個(gè)元件，但這些元件不應(yīng)由這些用語限制。這些用語僅用于將一個(gè)元件與另一元件區(qū)分開。因此，下面討論的第一元件也可被稱為第二元件而不背離本發(fā)明的教導(dǎo)。
[0044]在下文中，將參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行描述。
[0045]圖1為根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的用于從襯底去除靜電的設(shè)備100的剖視圖。圖2為示出了一些元件以解釋使用圖1所示的第一電極116與第二電極117之間的電場從襯底S去除靜電的原理的剖視圖。
[0046]參照?qǐng)D1，根據(jù)本實(shí)施方式的靜電去除設(shè)備100包括真空室111、襯底臺(tái)114、第一電極116、第二電極117、固定單元118、聯(lián)接器119、供能單元123和控制單元124。
[0047]真空室111形成內(nèi)部空間，在該內(nèi)部空間中可產(chǎn)生恒定真空。真空室111可以是處理室，該處理室提供了在其中進(jìn)行具體處理以制造顯示裝置的空間。取決于在其中進(jìn)行的處理，真空室111維持真空狀態(tài)。當(dāng)真空室111處于真空狀態(tài)時(shí)，真空室111中僅存在極少量的氣體分子。因此，實(shí)際上沒有氣體分子的流動(dòng)。
[0048]真空室111包括入口 112和出口 113。進(jìn)行處理所需的襯底S通過入口 112供給至真空室111中并通過出口 113從真空室111排出。襯底S的供給和排出可通過傳送裝置例如機(jī)器人(未示出)來進(jìn)行。雖然在附圖中未示出，但可在真空室111的一側(cè)安