基板支承結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及基板的熱處理裝置等所具備的基板支承結(jié)構(gòu)，所述基板支承結(jié)構(gòu)用于將基板支承成大致水平姿勢(shì)。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，對(duì)液晶和有機(jī)EL用的基板進(jìn)行熱處理時(shí)，以支承基板的下表面的方式將基板保持在熱處理裝置的內(nèi)部。此時(shí)，有時(shí)會(huì)避開基板的中央部而是支承即使接觸支承部也不會(huì)受到影響的周圍部(從外緣約1mm左右)，從而存在接觸容許范圍狹窄的限制。
[0003]為了克服這種限制，如圖7所示，作為基板W的支承方法，從正下方用銷或球101支承基板w(參照專利文獻(xiàn)1、專利文獻(xiàn)2)。圖中，兩箭頭Al所示的基板中央的區(qū)域表示不可接觸范圍，兩箭頭A2所不的基板周圍的區(qū)域表不接觸容許范圍。
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本專利公開公報(bào)特開2002-100668號(hào)
[0005]專利文獻(xiàn)2:日本專利公開公報(bào)特開2004-111786號(hào)
[0006]然而，從正下方支承基板時(shí)，由于輸送精度、裝置的安裝精度、支承位置的精度等誤差，存在基板從支承部脫落或接觸到不可接觸范圍Al的可能性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明鑒于上述問(wèn)題，目的是提供一種基板支承結(jié)構(gòu)，即使輸送精度、裝置的安裝精度、支承位置的精度等存在誤差，也能夠防止基板從支承部脫落或接觸到不可接觸范圍。
[0008]本發(fā)明涉及用于在收容并處理被處理基板的處理空間內(nèi)的規(guī)定的支承位置上，將所述被處理基板支承成大致水平姿勢(shì)的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的基板支承結(jié)構(gòu)包括基板支承構(gòu)件?；逯С袠?gòu)件從基端側(cè)向前端側(cè)延伸，并在支承位置的兩側(cè)利用從基端側(cè)朝向前端側(cè)向下方傾斜的支承部支承被處理基板。
[0009]處理空間形成在處理容器的內(nèi)部。并且，在處理容器的側(cè)壁內(nèi)表面上的支承位置兩側(cè)設(shè)置有保持構(gòu)件，由這些保持構(gòu)件保持基板支承構(gòu)件的基端側(cè)時(shí)，能穩(wěn)定地保持基板支承構(gòu)件。
[0010]按照這種結(jié)構(gòu)，由于基板支承構(gòu)件的支承部向斜下方傾斜，所以無(wú)論基板的翹曲程度如何，支承部?jī)H僅能接觸基板的側(cè)端下緣部。因此，不必由突起等從正下方側(cè)支承基板，不受基板支承構(gòu)件的安裝精度和將基板向處理空間輸送并承載在支承件上時(shí)的精度的影響。
[0011]具體而目，基板支承構(gòu)件包括基體和支承件?；w為從基端側(cè)向如端側(cè)延伸的形狀，支承件具有支承部，并以使支承部從基體的上表面露出的方式配置于基體。由此，可以將與基板接觸的支承部作為支承件而部件化，實(shí)現(xiàn)了處理的簡(jiǎn)化。
[0012]支承件為圓筒狀時(shí)，可以配置成圍繞沿基體的長(zhǎng)邊方向的軸旋轉(zhuǎn)自如。由此，利用支承件的旋轉(zhuǎn)緩和了把基板承載到支承部上時(shí)的沖擊，可以防止基板與支承部接觸的部位受損。
[0013]支承件的材質(zhì)優(yōu)選采用樹脂或石英。
[0014]為了穩(wěn)定地支承基板，在支承位置的單側(cè)設(shè)置有多個(gè)基板支承構(gòu)件。保持構(gòu)件為設(shè)置成在支承位置的兩側(cè)相對(duì)且向處理空間的縱深方向延伸的支架時(shí)，容易向一個(gè)保持構(gòu)件設(shè)置多個(gè)基板支承構(gòu)件。
[0015]按照本發(fā)明，即使輸送精度、裝置的安裝精度、支承位置的精度等存在誤差，也可以防止基板從支承部脫落或接觸到不可接觸范圍。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1的(A)表示本發(fā)明實(shí)施方式的基板支承結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)，是表示支承基板之前的狀態(tài)的主視斷面圖。圖1的(B)是表示支承同一基板后的狀態(tài)的主視斷面圖。
[0017]圖2是表示基板支承結(jié)構(gòu)所采用的基板支承構(gòu)件的分解立體圖。
[0018]圖3的(A)是說(shuō)明基板支承構(gòu)件相對(duì)于保持構(gòu)件的安裝狀態(tài)的俯視圖。圖3的(B)是說(shuō)明基板支承構(gòu)件相對(duì)于保持構(gòu)件的安裝狀態(tài)的側(cè)視圖。
[0019]圖4是表示在一個(gè)處理容器內(nèi)構(gòu)成多級(jí)基板支承結(jié)構(gòu)的示例的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。
[0020]圖5是表示將基板支承結(jié)構(gòu)構(gòu)成為多級(jí)式單元的示例的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。
[0021]圖6是表示基板支承構(gòu)件的角度調(diào)整機(jī)構(gòu)的一例的圖。
[0022]圖7是表示現(xiàn)有的基板支承結(jié)構(gòu)的一例的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)的主視斷面圖。
[0023]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0024]W、W1、W2、W3 …基板
[0025]I…基板支承結(jié)構(gòu)
[0026]2…基板支承構(gòu)件
[0027]2A…基端
[0028]2B…前端
[0029]20..支承部
[0030]21…基體
[0031]21A…凹部
[0032]21B…螺栓孔
[0033]22…支承件
[0034]23…螺栓
[0035]3…保持構(gòu)件
[0036]4…處理容器
[0037]4A…側(cè)壁內(nèi)表面
[0038]100…處理空間
【具體實(shí)施方式】
[0039]以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明實(shí)施方式的基板支承結(jié)構(gòu)的構(gòu)成。
[0040]如圖1所示，在形成于處理容器4內(nèi)部的處理空間100中收容并處理被處理基板(以下稱為“基板”)W。基板支承結(jié)構(gòu)I在處理空間100內(nèi)的規(guī)定的支承位置上將基板W支承成大致水平姿勢(shì)。本發(fā)明的基板支承結(jié)構(gòu)適用于對(duì)基板進(jìn)行某種處理的基板處理裝置(例如熱處理裝置等)的間歇式爐等。不論基板的材質(zhì)如何，也能夠?qū)?yīng)于薄且翹曲的基板?；逍螤畈幌抻诰匦位澹部梢允前雽?dǎo)體晶片等圓形基板。
[0041 ] 基板支承結(jié)構(gòu)I具有基板支承構(gòu)件2和保持構(gòu)件3。
[0042]基板支承構(gòu)件2從基端2A側(cè)向前端2B側(cè)延伸，在上側(cè)具備用于支承基板W的支承部2C。更具體而目，如圖2所不，基板支承構(gòu)件2包括:基體21,從基端2A側(cè)向如端2B側(cè)延伸；以及支承件22，具備所述支承部2C，且以使支承部2C從基體21的上表面露出的方式配置于基體21。
[0043]基體21和支承件22的材質(zhì)沒有特別限定，但在基板支承結(jié)構(gòu)I應(yīng)用于熱處理裝置時(shí)，需要具有耐熱性的材料。特別是由于支承件22是與基板W直接接觸的構(gòu)件，所以其材質(zhì)要求不能損傷基板W。作為滿足這種要求的材料，優(yōu)選樹脂或石英材料。
[0044]如圖2所示，支承件22呈圓筒形。支承件22在該圓筒形的周面上，具有沿軸向延伸的線狀的支承部2C。另外，支承件22的形狀為一例，不限于上述形狀。
[0045]如圖2所示，基體21呈棱柱形?；w21的上表面形成有沿長(zhǎng)邊方向延伸的凹部21A。支承件22被收容于凹部21A。本實(shí)施方式中，凹部21A與支承件22的圓筒形對(duì)應(yīng)，形成為半管形。因此，支承件22被收容于凹部21A時(shí)，支承件22的大致上半部呈露出狀態(tài)，而且支承件22圍繞沿基體21的長(zhǎng)邊方向的軸旋轉(zhuǎn)自如。
[0046]通過(guò)凹部21A的軸心的螺栓孔21B沿軸向貫穿基體21。基體21和凹部21A的形狀為一例，不限于上述形狀。
[0047]在將支承件22收容于凹部21