激光脈沖調制裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及激光調制領域，特別是涉及一種激光脈沖調制裝置。
【背景技術】
[0002]在半導體領域，一般通過高溫退火的方式將非晶硅轉換為多晶硅。這里一般采用激光照射的方式將非晶硅快速上升至一個設定溫度。
[0003]但是如直接采用峰值功率較大的激光脈沖裝置對非晶硅進行照射，可能導致氫爆現(xiàn)象的產生，從而可能造成生成的多晶硅薄膜脫落，影響產品的良率。如采用峰值功率較低的激光脈沖裝置對非晶硅進行照射，則非晶硅表面無法在短時間內達到設定溫度，并需要進行多次激光脈沖照射才能完成整個轉換操作。
[0004]故，有必要提供一種激光脈沖調制裝置，以解決現(xiàn)有技術所存在的問題。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種不會影響產品的良率且操作難度較小的激光脈沖調制裝置；以解決現(xiàn)有的激光脈沖調制裝置的易產生氫爆現(xiàn)象以及操作難度較大的技術問題。
[0006]為解決上述問題，本發(fā)明提供的技術方案如下:
[0007]本發(fā)明實施例提供一種激光脈沖調制裝置，其包括:
[0008]第一激光源，用于產生振動方向與傳播方向平行的第一線偏振脈沖激光；
[0009]第二激光源，用于產生振動方向與傳播方向垂直的第二線偏振脈沖激光；以及
[0010]偏振分光鏡，用于對所述第一線偏振脈沖激光和所述第二線偏振脈沖激光進行疊加，以形成一第一整合脈沖激光；
[0011]其中所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度，所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第二線偏振脈沖激光的脈沖寬度。
[0012]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述激光脈沖調制裝置還包括:
[0013]分光鏡，用于對入射光線進行分光處理，以形成第一分光激光以及第二分光激光；以及
[0014]反射鏡組合，用于將所述分光鏡出射的第二分光激光反射至所述分光鏡。
[0015]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述反射鏡組合包括用于調整所述第二分光激光的傳播方向的多個反射鏡。
[0016]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述分光鏡出射的多條所述第一分光激光相互疊加，以形成第二整合脈沖激光。
[0017]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第二整合脈沖激光的脈沖寬度大于所述第一整合脈沖激光的脈沖寬度。
[0018]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述分光鏡的透光率為20%至50%，所述分光鏡的反射率為50%至80%。
[0019]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光在所述偏振分光鏡上發(fā)生全透射，所述第二線偏振脈沖激光在所述偏振分光鏡上發(fā)生全反射。
[0020]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度等于所述第二線偏振脈沖激光的脈沖寬度。
[0021]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖開始時間與所述第二線偏振脈沖激光的脈沖開始時間的差值小于所述脈沖寬度。
[0022]在本發(fā)明所述的激光脈沖調制裝置中，所述第一線偏振脈沖激光的脈沖寬度的范圍為20納秒至200納秒。
[0023]相較于現(xiàn)有的激光脈沖調制裝置，本發(fā)明的激光脈沖調制裝置使用雙激光源形成功率以及脈寬適合的整合激光脈沖，從而提高了產品的良率，且操作難度較??；解決了現(xiàn)有的激光脈沖調制裝置的易產生氫爆現(xiàn)象以及操作難度較大的技術問題。
[0024]為讓本發(fā)明的上述內容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下:
【附圖說明】
[0025]圖1為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的結構示意圖；
[0026]圖2A為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之一；
[0027]圖2B為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之二 ；
[0028]圖3為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第二優(yōu)選實施例的結構示意圖；
[0029]圖4A為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第二優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之一；
[0030]圖4B為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第二優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之二。
【具體實施方式】
[0031]以下各實施例的說明是參考附加的圖式，用以例示本發(fā)明可用以實施的特定實施例。本發(fā)明所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內」、「外」、「側面」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本發(fā)明，而非用以限制本發(fā)明。
[0032]在圖中，結構相似的單元是以相同標號表示。
[0033]請參照圖1，圖1為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的結構示意圖。本優(yōu)選實施例的激光脈沖調制裝置10包括第一激光源11、第二激光源12以及偏振分光鏡13。該第一激光源11用于產生振動方向與傳播方向平行的第一線偏振脈沖激光111 ;第二激光源12用于產生振動方向與傳播方向垂直的第二線偏振脈沖激光112。
[0034]第一線偏振脈沖激光111在偏振分光鏡13上發(fā)生全透射，第二線偏振脈沖激光112在偏振分光鏡13上發(fā)生全反射，因此第一線偏振脈沖激光111和第二線偏振脈沖激光112在偏振分光鏡13上進行疊加，以形成第一整合脈沖激光113。同時第一線偏振脈沖激光111的脈沖開始時間與第二線偏振脈沖激光112的脈沖開始時間具有一差值，因此第一整合脈沖激光113的脈沖寬度同時大于第一線偏振脈沖激光111的脈沖寬度以及第二線偏振脈沖激光112的脈沖寬度。
[0035]請參照圖2A和圖2B，圖2A為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之一；圖2B為本發(fā)明的激光脈沖調制裝置的第一優(yōu)選實施例的激光脈沖波形圖之二。在本優(yōu)選實施例中第一線偏振脈沖激光111的脈沖寬度等于第二線偏振脈沖激光112的脈沖寬度，如均為20納秒至200納秒，優(yōu)選為25納秒至80納秒。這里以20納秒為例，第一線偏振脈沖激光111的脈沖開始時間與第二線偏振脈沖激光112的脈沖開始時間的差值為10ns。具體如圖2A所示，其中實線的波形為第一線偏振脈沖激光111的波形，虛線的波形為第二線偏振脈沖激光112的波形。偏振分光鏡形成的第一整合脈沖激光113的脈沖寬度為30ns，具體如圖2B所示，其中實現(xiàn)的波形為第一整合脈沖激光113的波形。
[0036]本優(yōu)選實施例的激光脈沖調制裝置10使用時，第一激光源11產生振動方向與傳播方向平行的第一線偏振脈沖激光111，該第一線偏振脈沖激光111直接入射至偏振分光鏡13。第二激光源12產生振動方向與傳播方向垂直的第二線偏振脈沖激光112，該第二線偏振脈沖激光112經反射鏡入射至偏振分光鏡13。偏光分光鏡13對第一線偏振脈沖激光111進行全透射操作，偏光分光鏡13對第二線偏振脈沖激光112進行全反射操作，第一線偏振脈沖激光111和第二線偏振脈沖激光112進行疊加，形成第一整合脈沖激光113。最后該第一整合脈沖激光113對非晶硅層14進行照射，形成相應的多晶硅層。
[0037]由于第一線偏振脈沖激光111和第二線偏振脈沖激