顯示基板的制備方法、顯示基板半成品以及顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明屬于顯示技術領域，具體涉及一種顯示基板的制備方法、顯示基板半成品以及顯示裝置。
【背景技術】
[0002]有機電致發(fā)光二極管(OLED，或者稱有機發(fā)光二極管)技術一直被認為是最具有競爭力的下世代發(fā)光及顯示技術之一。然而，在顯示裝置的應用方面，從1996年P1neer發(fā)表的PLOLED顯示裝置商品化以來，OLED顯示裝置在大型化及量產(chǎn)化方面遭遇極強的挑戰(zhàn)。重大挑戰(zhàn)包括:主動矩陣的TFT背板以及有機材料的制程及封裝問題。對于有機材料制程，目前主要有蒸鍍制程和溶液制程。在面對大型化基板時，真空熱蒸鍍技術面臨極大缺陷，如遮光板極易受工藝流程中的高溫環(huán)境影響而發(fā)生偏移，導致難以在基板上保持均勻的沉積率；而噴墨印刷技術可以通過液態(tài)有機材料的均勻沉積形成薄膜層，因此理論上可以更好地解決大尺寸的問題。
[0003]噴墨印刷包括連續(xù)印刷和非連續(xù)印刷。連續(xù)印刷方式屬于無光罩、無接觸式的制程，優(yōu)點在于逐次印刷，因為口徑比較大，可以連續(xù)穩(wěn)定地噴出墨水而不易堵塞噴嘴，良率高，易于大型化的同時Ink(墨水)組成自由度大；缺點在于連續(xù)打印(或者說印刷)制程需要額外將非顯示區(qū)(也稱除外區(qū)，顯示區(qū)以外的部分)部分做材料清潔，這是其制程限制所在。另外，較為成熟的涂布技術也可以應用在顯示領域，該技術同樣也存在非顯示區(qū)清潔的問題。
[0004]針對顯示基板非顯示區(qū)的有機材料清潔問題目前可能采用的方法包括Plasma干刻法、laser清潔法、擦拭法等，但以上方法對于常規(guī)的基板總存在一些問題，如由于能量太強對基板上某些結構造成傷害，或者由于能量不足或者不均清理不完全等。

【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術中存在的上述不足，提供一種顯示基板的制備方法、顯示基板半成品以及顯示裝置，該顯示基板的制備方法簡單且易于實現(xiàn)，去除非顯示區(qū)的有機材料的效果好，易于得到無有機材料殘留的清潔的顯示基板。
[0006]解決本發(fā)明技術問題所采用的技術方案是該顯示基板的制備方法，所述顯示基板劃分為顯示區(qū)和非顯示區(qū)，該制備方法包括在所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)形成有機材料層的步驟，還包括:
[0007]在形成所述有機材料層之前，在所述非顯示區(qū)形成輔助層，所述輔助層具有如下性質:所述輔助層受熱后性能發(fā)生變化，使得所述有機材料層與所述輔助層對應的部分變得容易剝尚;
[0008]以及，采用熱方法去除所述有機材料層與所述輔助層對應的部分。
[0009]優(yōu)選的是，所述輔助層由受熱溫度升高或者受熱產(chǎn)生形變或者受熱粘性變差的材料形成；所述輔助層受熱后性能發(fā)生變化包括:所述輔助層受熱溫度升高或者受熱產(chǎn)生形變或者受熱粘性變差。
[0010]優(yōu)選的是，在形成所述有機材料層之前，還包括形成包括在所述顯示區(qū)的多個薄膜晶體管并延伸至所述非顯示區(qū)的薄膜晶體管層，以及在所述薄膜晶體管層上方形成像素限定層的步驟，所述顯示區(qū)的所述有機材料層形成在所述像素限定層內以形成有機電致發(fā)光二極管；
[0011]所述輔助層包括第一輔助層和/或者第二輔助層，所述第一輔助層采用吸熱性材料形成，形成于所述非顯示區(qū)的所述薄膜晶體管層的下方；所述第二輔助層采用高分子熱塑性材料或者熱膨脹性材料形成，形成于所述非顯示區(qū)的所述像素限定層的上方。
[0012]優(yōu)選的是，形成所述薄膜晶體管層的步驟包括:形成包括柵極和柵線、有源層、源極和漏極的圖形，所述柵極和所述柵線由同一柵金屬材料層通過構圖工藝形成，所述有源層圖形、所述源極和所述漏極圖形依次形成于所述柵極和柵線的上方。
[0013]優(yōu)選的是，所述像素限定層在所述顯示區(qū)內形成網(wǎng)格形狀，形成所述有機電致發(fā)光二極管的步驟至少包括:形成位于所述像素限定層網(wǎng)格內的第一電極層的圖形、覆蓋在所述像素界定層上方的第二電極層以及位于所述第一電極層的圖形和所述第二電極層之間的發(fā)光層的圖形，所述第一電極層與薄膜晶體管電連接。
[0014]優(yōu)選的是，所述吸熱性材料包括吸熱性強的金屬或者吸熱性強的金屬氧化物，其中，吸熱性強的金屬包括黑鈦、黑鉻、黑鈷，吸熱性強的金屬氧化物包括鋁氧化物。
[0015]優(yōu)選的是，所述高分子熱塑性材料包括PP、PE、PVC，所述熱膨脹性材料包括鋅、鉛、鎂、鋁或者以上至少一種金屬的合金。
[0016]優(yōu)選的是，所述有機材料層采用連續(xù)打印或者涂布方式同時形成于所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)，所述有機材料層包括構成所述有機電致發(fā)光二極管的至少一種有機材料。
[0017]優(yōu)選的是，所述第一輔助層采用構圖工藝形成在所述非顯示區(qū)的所述薄膜晶體管層的下方，所述第二輔助層采用粘性介質黏貼于所述非顯示區(qū)的所述像素限定層的上方。
[0018]優(yōu)選的是，采用熱方法去除所述有機材料層與所述輔助層對應的部分包括:采用光照法、熱彈力法或者熱消融法對該所述顯示基板進行加熱。
[0019]一種顯示基板半成品，所述顯示基板劃分為顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述顯示區(qū)和所述非顯示區(qū)設置有有機材料層，其中，在所述非顯示區(qū)設置有輔助層，所述輔助層具有如下性質:所述輔助層受熱后性能發(fā)生變化，使得所述有機材料層與所述輔助層對應的部分變得容易剝離。
[0020]優(yōu)選的是，所述輔助層由受熱溫度升高或者受熱產(chǎn)生形變或者受熱粘性變差的材料形成；所述輔助層受熱后性能發(fā)生變化包括:所述輔助層具有受熱溫度升高或者受熱產(chǎn)生形變或者受熱粘性變差的性質。
[0021]優(yōu)選的是，包括設置在所述顯示區(qū)內的多個薄膜晶體管并延伸至所述非顯示區(qū)的薄膜晶體管層，以及設置在所述薄膜晶體管層上方的像素限定層，所述顯示區(qū)的所述有機材料層設置在所述像素限定層內以形成有機電致發(fā)光二極管；
[0022]所述輔助層包括第一輔助層和/或者第二輔助層，所述第一輔助層采用吸熱性材料形成，設置于所述非顯示區(qū)的所述薄膜晶體管層的下方；所述第二輔助層采用高分子熱塑性材料或者熱膨脹性材料形成，設置于所述非顯示區(qū)的所述像素限定層的上方。
[0023]優(yōu)選的是，所述薄膜晶體管層包括:柵極圖形和柵線圖形、有源層圖形、源極和漏極圖形，所述柵極圖形和柵線圖形的上方依次設置所述有源層圖形、所述源極和漏極圖形。
[0024]優(yōu)選的是，所述像素限定層在所述顯示區(qū)內為網(wǎng)格形狀，所述有機電致發(fā)光二極管至少包括:設置于所述像素限定層網(wǎng)格內的第一電極層的圖形、覆蓋在所述像素界定層上方的第二電極的圖形、以及位于所述第一電極層和所述第二電極層之間的發(fā)光層的圖形，所述第一電極層與所述薄膜晶體管電連接。
[0025]優(yōu)選的是，所述吸熱性材料包括吸熱性強的金屬或者吸熱性強的金屬氧化物，其中，吸熱性強的金屬包括黑鈦、黑鉻、黑鈷，吸熱性強的金屬氧化物包括鋁氧化物。
[0026]優(yōu)選的是，所述高分子熱塑性材料包括PP、PE、PVC，所述熱膨脹性材料包括鋅、鉛、鎂、鋁或者以上至少一種金屬的合金。
[0027]一種顯示裝置，包括上述的顯示基板的制備方法形成的顯示基板。
[0028]本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的顯示基板的制備方法和相應的顯示基板的半成品，通過在非顯示區(qū)采用具有受熱溫度升高或者產(chǎn)生形變或者粘性變差的材料增加輔助層，在采用熱方式對有機材料進行清潔處理時，采用輔助層使對應著非顯示區(qū)的有機材料與顯示區(qū)的有機材料存在溫度差異或者形變差異或者粘性變差，從而使該非顯示區(qū)的有機材料層變得易于剝離，方法簡單且易于實現(xiàn)。
【附圖說明】
[0029]圖1為本發(fā)明顯示基板