[0061]實施例3:
[0062]圖6為實施例3中多晶硅樣品刻蝕裝置的結構示意圖。多晶硅樣品刻蝕裝置包括密封桶體100、連桿裝置110、樣品支架130以及樣品載臺140。桶體100中央設有保護塔120，連桿裝置110垂直于桶體110底部可升降地設置于保護塔120內(nèi)，多晶硅樣品刻蝕裝置還包括與保護塔120的外壁連接的隔板310，將桶體100內(nèi)的空間在豎直方向上隔開形成兩個以上的工作區(qū)域。連桿裝置110、樣品支架130以及樣品載臺140依次連接，保護塔120的外壁開設有向桶體100底部延伸的窗口 180，以供樣品支架130從保護塔120內(nèi)伸至工作區(qū)域內(nèi)且可隨連桿裝置110升降而不會被保護塔120外壁阻礙。請一并參見圖8，隔板310上開設有隔板缺口 60，以供樣品支架130和樣品載臺140隨連桿裝置110升降時能從一個工作區(qū)域穿過隔板缺口 60到達另一個工作區(qū)域。隔板缺口 60內(nèi)部設置有可掀開的蓋板，用于在樣品載臺140通過前后開閉隔板缺口 60。樣品支架130包括連接連桿裝置110的支架后端136、支架前端132及連接支架后端136和支架前端132的轉軸134，樣品載臺140設于支架前端132上，連桿裝置110可控制支架前端132繞轉軸134升降。
[0063]如圖6所示，多晶硅樣品刻蝕裝置的工作區(qū)域數(shù)量為三個，分別設為儲液槽400，洗凈槽500和干燥槽600，儲液槽400的在桶體外壁上開設有用于溶液導入導出的通孔410，洗凈槽500內(nèi)設有清洗噴頭510以及液體排出口 520，干燥槽600內(nèi)設有氣體噴頭610以及排氣出口 620。
[0064]在本實施例中，連桿裝置110還包括升降機構，用于帶動樣品支架130升降。
[0065]如圖6所示，隔板310與桶體100底部所在的平面呈一定的角度傾斜設置，用于樣品載臺140上的樣品在進入洗凈槽500進行清洗時，排出洗凈槽500內(nèi)所有的清洗液，防止積攢的液體通過隔板310進入到底部的儲液槽400中，污染刻蝕液。同樣也利于樣品載臺140上的樣品在進入干燥槽600進行干燥時，排出干燥槽600內(nèi)所有液體，防止積攢的溶液通過隔板310進入到下面的洗凈槽500或底部的儲液槽400中，污染刻蝕液。
[0066]可以理解的是，實施例3采用升降機構的升降方式樣品支架130的方式控制其穿過隔板310達到各個工作區(qū)域，其余未述結構以及結構間的連接方式大多與實施例1的構造類似，所起的作用以及也類似，在此不再重復詳細敘述。
[0067]圖7為實施例3中多晶硅樣品刻蝕裝置的結構俯視圖，如圖7所示，在連桿裝置110上可以設置多組樣品支架130，用于同時刻蝕多組樣品20。
[0068]圖8為實施例3中隔板的結構示意圖，如圖8所示，隔板缺口 60的形狀與樣品支架130相同，用于樣品支架130升降過程中穿過隔板缺口 60進出各個工作區(qū)域。其中，隔板310的隔板缺口 60上設置有可掀開的蓋板，待樣品支架130通過后即關閉缺口 60，防止儲液槽400內(nèi)的刻蝕溶液揮發(fā)至其他槽內(nèi)?？梢岳斫獾氖牵诟舭迦笨?60上設置的蓋板可以采用與實施例1類似的結構。
[0069]本實施例中的多晶硅樣品刻蝕裝置，提供了一種實施例1的替代方案，同樣可通過連桿裝置110控制支架前端132繞轉軸134升降，從而控制樣品載臺140上的樣品20是否浸漬于刻蝕液中，當整個樣品支架調整為平直狀態(tài)時，樣品即離開刻蝕液，完成樣品刻蝕。樣品刻蝕過程發(fā)生在由密封桶體提供的全密封環(huán)境下，避免刻蝕液揮發(fā)等原因損害操作人員的人身健康，消除發(fā)生事故的風險。
[0070]實施例4:
[0071]圖9為實施例4中多晶硅樣品刻蝕裝置的俯視圖，其與實施例3的區(qū)別在于，實施例3中桶體100為六邊形桶，而實施例2中為圓柱形桶。可以理解的是，在其他實施例中，只要是密封桶，桶體100也可以為其他形狀的多邊形桶，例如五邊形桶、八邊形桶等。實施例4中圓柱形的桶體100相對于實施例3中的六邊形桶更易于加工，但實施例1中隔板310可固定于角部，因此利于隔板310的加工與固定。
[0072]以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。
【主權項】
1.一種多晶硅樣品刻蝕裝置，包括密封桶體、連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺，其特征在于，所述桶體中央設有保護塔，所述連桿裝置垂直于桶體底部可轉動地設置于所述保護塔內(nèi)；所述多晶硅樣品刻蝕裝置還包括與所述保護塔的外壁連接且垂直于桶體底部的隔板，所述隔板將桶體內(nèi)的空間隔開形成兩個以上的工作區(qū)域；所述連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺依次連接，所述保護塔的外壁開設有一圈窗口，以供樣品支架從保護塔內(nèi)伸進工作區(qū)域且可隨連桿裝置轉動而不會被保護塔外壁阻礙；所述隔板上開設有隔板缺口，以供樣品支架和樣品載臺隨所述連桿裝置轉動時能從一個工作區(qū)域穿過所述隔板缺口至另一個工作區(qū)域，所述連桿裝置可控制所述樣品支架升降。2.根據(jù)權利要求1所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述工作區(qū)域的數(shù)量為三個，分別設為儲液槽，洗凈槽和干燥槽，所述儲液槽在桶體外壁上設有供溶液導入導出的通孔，所述洗凈槽側壁上設有清洗噴頭以及液體排出口，所述干燥槽上設有氣體噴頭以及排氣出口。3.根據(jù)權利要求1所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述樣品支架包括支架前端、連接所述連桿裝置的支架后端及連接所述支架后端和支架前端的轉軸，所述樣品載臺設于所述支架前端，所述連桿裝置用于控制所述支架前端繞所述轉軸升降，所述樣品載臺與所述支架前端的夾角呈45度到60度設置。4.根據(jù)權利要求3所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述樣品載臺與所述支架前端為可拆卸式連接，所述桶體的頂部設有開合蓋，用于取放所述樣品載臺。5.根據(jù)權利要求4所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述開合蓋設于所述干燥槽的頂部。6.根據(jù)權利要求1所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，還包括設于所述保護塔內(nèi)的旋轉底座，所述連桿裝置設于所述旋轉底座上，所述旋轉底座用于帶動所述連桿裝置轉動。7.根據(jù)權利要求6所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述連桿裝置頂部還設有提拉手柄，用于向上拉升所述連桿裝置帶動所述樣品支架提升以取放所述樣品載臺。8.根據(jù)權利要求6所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述連桿裝置包括定時單元和動力機構，所述定時單元用于在到達設定的時刻時控制所述動力機構帶動所述轉軸旋轉，及控制所述旋轉底座帶動所述連桿裝置轉動。9.根據(jù)權利要求1所述的多晶硅樣品刻蝕裝置，其特征在于，所述桶體為圓柱形桶或多邊形桶。10.一種多晶硅樣品刻蝕裝置，包括密封桶體、連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺，其特征在于，所述桶體中央設有保護塔，所述連桿裝置垂直于桶體底部可升降地設置于所述保護塔內(nèi)；所述多晶硅樣品刻蝕裝置還包括與所述保護塔的外壁連接的隔板，所述隔板將桶體內(nèi)的空間在豎直方向上隔開形成兩個以上的工作區(qū)域，所述連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺依次連接，所述保護塔的外壁開設有向桶體底部的延伸的窗口，以供樣品支架從保護塔內(nèi)伸進工作區(qū)域且可隨連桿裝置升降而不會被保護塔外壁阻礙，所述隔板上開設有隔板缺口，以供樣品支架和樣品載臺隨所述連桿裝置升降時能從一個工作區(qū)域穿過所述隔板缺口至另一個工作區(qū)域，所述隔板缺口處相應設置有可開閉的蓋板，用于在樣品載臺通過前后開閉所述隔板缺口。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種多晶硅樣品刻蝕裝置，包括密封桶體、連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺，桶體中央設有保護塔，連桿裝置垂直于桶體底部可轉動地設置于保護塔內(nèi)；多晶硅樣品刻蝕裝置還包括與保護塔的外壁連接且垂直于桶體底部的隔板，隔板將桶體內(nèi)的空間隔開形成兩個以上的工作區(qū)域；連桿裝置、樣品支架以及樣品載臺依次連接，所述保護塔的外壁開設有一圈窗口，以供樣品支架從保護塔內(nèi)伸進工作區(qū)域且可隨連桿裝置轉動而不會被保護塔外壁阻礙。本發(fā)明通過連桿裝置控制支架前端繞轉軸升降，從而控制樣品載臺上的樣品是否浸漬于刻蝕液中。樣品刻蝕過程發(fā)生在由密封桶體提供的全密封環(huán)境下，避免刻蝕液揮發(fā)等原因損害操作人員的人身健康。
【IPC分類】H01L21/66, H01L21/306
【公開號】CN104934310
【申請?zhí)枴緾N201510368443
【發(fā)明人】魏博
【申請人】昆山國顯光電有限公司
【公開日】2015年9月23日
【申請日】2015年6月29日