非接觸式搬送手的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種非接觸式搬送手。
【背景技術(shù)】
[0002]在日本專利申請(qǐng)公報(bào)N0.2009-032744 (JP 2009-032744 A)中公開了有關(guān)非接觸式搬送手的技術(shù)。JP 2009-032744中所描述的伯努利卡盤(非接觸式搬送手)具有抓持單元聯(lián)接至盤狀吸著保持板的構(gòu)型。在該吸著保持板中，用于保持工件的吸著面具有位于吸著保持板的外周側(cè)上的四個(gè)空氣排出槽?？諝馀懦霾壑械拿總€(gè)空氣排出槽的外端和吸著面?zhèn)染浅ㄩ_的。另外，在吸著保持板中鉆有壓縮空氣供給通道和分配流動(dòng)通道。壓縮空氣供給通道與排出栗連通。分配流動(dòng)通道在壓縮空氣供給通道與四個(gè)空氣排出槽之間連通。從抓持單元供給的空氣流動(dòng)通過形成在吸著保持板中的壓縮空氣供給通道和分配流動(dòng)通道、并且從空氣排出槽排出。從空氣排出槽排出的壓縮空氣通過噴吸作用抽吸外圍空氣且因而產(chǎn)生吸著力以在吸著面上吸著工件。另外，由于壓縮空氣以高速流動(dòng)通過空氣排出槽，因此因伯努利效應(yīng)在空氣排出槽周圍產(chǎn)生負(fù)壓。以這種方式，工件被吸著于吸著面。
[0003]在壓縮空氣供給通道和分配流動(dòng)通道形成在相關(guān)技術(shù)中的上述非接觸式搬送手中的情況下，長(zhǎng)而窄的孔不得不通過鉆孔而形成在吸著保持板中。為了通過鉆孔形成長(zhǎng)而窄的孔，鉆需要具有小的直徑。然而，鉆的直徑的減小在考慮加工期間鉆的折斷或彎曲時(shí)不是優(yōu)選的。因此，難以形成具有小直徑的孔。為此，在相關(guān)技術(shù)中，難以減小吸著保持板的厚度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明提供了非接觸式搬送手。
[0005]根據(jù)本發(fā)明的方面的非接觸式搬送手包括吸著保持板和蓋部。吸著保持板具有作為正面的平坦?fàn)钗妗⒆鳛楸趁娴姆俏妗⒁约笆?。吸著面具有氣體排出槽。非吸著面具有氣體供給槽，氣體供給槽具有氣體引入端口。室與氣體供給槽的端部連通。氣體供給槽構(gòu)造成從氣體引入端口朝向室供給氣體。室的壁面具有入口。氣體排出槽經(jīng)由入口與室連通并且構(gòu)造成將氣體沿離開室的方向排出。蓋部固定在非吸著面上以覆蓋氣體供給槽和室。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的方面，可以通過對(duì)吸著面和非吸著面開槽而形成氣體流動(dòng)通道。因而，例如即使當(dāng)流動(dòng)通道為具有Imm或更小的深度的淺的通道時(shí)，與通過孔加工形成的流動(dòng)通道相比，仍可以容易地形成流動(dòng)通道。正如所述，可以容易地減小槽深度并因而可以容易地實(shí)現(xiàn)吸著保持板的變薄。然后，通過用蓋部覆蓋氣體排出槽和室的開口側(cè)來形成流動(dòng)通道。
[0007]在本發(fā)明的方面中，氣體排出槽可以由多個(gè)氣體排出槽構(gòu)成。另外，氣體排出槽可以關(guān)于與吸著面垂直的平面對(duì)稱地布置。通過采用這種構(gòu)型，可以容易地獲得穩(wěn)定的吸著性能。
[0008]在本發(fā)明的方面中，氣體供給槽可以具有線性形狀。另外，室可以設(shè)置在吸著面的中央處。此外，氣體排出槽可以從室放射狀地且線性地延伸。該構(gòu)型可以容易地防止吸著保持板的吸著面?zhèn)壬系臍怏w排出槽以及吸著保持板的非吸著面?zhèn)壬系臍怏w供給槽在平面圖(當(dāng)從吸著面?zhèn)然蚍俏鎮(zhèn)扔^察吸著保持板時(shí))中彼此交叉。因此，可以容易地實(shí)現(xiàn)吸著保持板的變薄。此外，通過將室布置在吸著面的中央處可以容易地使氣體排出槽的長(zhǎng)度彼此相等。因此，可以獲得穩(wěn)定的吸著性能。
[0009]在本發(fā)明的方面中，氣體供給槽可以具有主槽和寬度減小槽。主槽可以具有恒定寬度并且線性地延伸。寬度減小槽可以從主槽的端部延伸至室。另外，寬度減小槽的槽寬度可以朝向室逐漸地減小。當(dāng)采用這種寬度減小槽時(shí)，氣體排出槽的入口可以布置在氣體供給槽的出口附近。以這種方式，可以容易地增大氣體排出槽的入口的數(shù)目。另外，氣體排出槽的入口可以容易地等間距地布置。
[0010]另外，根據(jù)本發(fā)明的方面的非接觸式搬送手還可以包括設(shè)置在室的底面上的突出部。通過采用這種構(gòu)型能夠由突出部容易地使室中的壓力分布均勻并因而能夠提高從氣體排出槽排出的氣體的流量的均勻性。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的方面，可以容易地實(shí)現(xiàn)吸著保持板的變薄。
【附圖說明】
[0012]下面將參照附圖對(duì)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的特征、優(yōu)點(diǎn)以及技術(shù)和工業(yè)意義進(jìn)行描述，在附圖中，相同的附圖標(biāo)記指示相同的元件，并在附圖中:
[0013]圖1為根據(jù)本發(fā)明的非接觸式搬送手的實(shí)施方式的立體分解圖；
[0014]圖2為晶片被吸著在圖1中示出的手上的狀態(tài)的立體圖；
[0015]圖3為手的吸著面?zhèn)鹊牧Ⅲw圖；
[0016]圖4為手的主區(qū)段的放大截面圖；
[0017]圖5為吸著保持板的第一修改不例的立體圖；
[0018]圖6為吸著保持板的第二修改示例的立體圖；
[0019]圖7為吸著保持板的第三修改示例的立體圖；以及
[0020]圖8為根據(jù)本發(fā)明的非接觸式搬送手的另一實(shí)施方式的平面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下文將參照附圖對(duì)根據(jù)本發(fā)明的非接觸式搬送手的優(yōu)選實(shí)施方式做出詳細(xì)描述。本發(fā)明的各實(shí)施方式特別地涉及下述非接觸式搬送手，該非接觸式搬送手用于在非接觸狀態(tài)下在吸著面上吸著具有平板形狀的工件比如半導(dǎo)體晶片和玻璃基板并且將工件搬送至指定位置。
[0022]如圖1至圖3中所示，非接觸式搬送手I安裝至超小型半導(dǎo)體設(shè)備中的搬送機(jī)器人并且用于傳送薄平工件W。手I配備有吸著保持板2，該吸著保持板2具有約1.5mm的厚度并且該吸著保持板2具有平坦?fàn)钗?a。由樹脂或金屬制成的吸著保持板2具有:圓形吸著主部2A，該圓形吸著主部2A比具有平板形狀且受到吸著的工件(例如，半導(dǎo)體晶片、玻璃基板等)W略??；以及矩形延伸部2B，該矩形延伸部2B在同一平面上從吸著主部2A的周邊徑向關(guān)出。
[0023]在吸著主部2A的中央處設(shè)置有呈凹狀的圓形室3。工件保持爪4等間距地固定至吸著主部2A。L形的工件保持爪4中的每個(gè)工件保持爪具有:固定部4a，該固定部4a固定至吸著主部2A的非吸著面2b ；以及爪部4b，該爪部4b通過將固定部4a的端部彎曲成直角而形成。由于爪部4b抵靠工件W的周邊，因此工件W可以相對(duì)于吸著主部2A可靠地定位。
[0024]吸著保持板2的非吸著面2b具有從延伸部2B延伸跨越至吸著主部2A的線性氣體供給槽6。氣體供給槽6的終端呈凹狀且供給有從外到內(nèi)的氣體。氣體供給槽6的終端與圓形室3連通。同時(shí)，氣體供給槽6的始端經(jīng)由氣體引入孔6d與外部空氣供給源(未示出)連通。此外，在吸著保持板2中的延伸部2B的非吸著面2b側(cè)上設(shè)置有定位銷7。如圖1中所示，氣體供給槽6設(shè)置在定位銷7之間。
[0025]板狀蓋部8安裝在吸著保持板2的非吸著面2b上以便覆蓋室3和氣體供給槽6。由樹脂或金屬制成的蓋部8的外部形狀與吸著保持板2的外部形狀基本相同。蓋部8包括:蓋主體部8A，該蓋主體部8A的外部形狀與吸著主部2A的外部形狀基本相同；以及延伸部8B，該延伸部8B的外部形狀與延伸部2B的外部形狀基本相同。蓋主體部8A具有缺口 9，工件保持爪4的固定部4a被插入在缺口 9中的每個(gè)缺口中。另外，延伸部8B具有定位孔5，定位銷7中的每個(gè)定位銷插入穿過定位孔5。然后，蓋部8通過將螺釘11旋擰在形成在吸著保持板2中的螺釘孔12中而固定至吸著保持板2的非吸著面2b。
[0026]如圖3和圖4中所示，吸著保持板2的吸著面2a具有呈放射狀形式的氣體排出槽
10。氣體排出槽10中的每個(gè)氣體排出槽呈凹狀，并且室3中的空氣從氣體排出槽10排出至外部。氣體排出槽10的入口 1a形成為跨越形成室3的圓形周壁面3a和底面3b。氣體排出槽10通過使用具有球形末端的圓頭槽銑刀的加工而形成在吸著面2a側(cè)上。氣體排出槽10形成為使得氣體排出槽10從入口 1a徑向向外變得更淺且漸縮。由于氣體排出槽10形成為這樣的形狀，因此空氣可以以順著吸著面2a的方式從氣體排出槽10平順地向外流動(dòng)。以這種方式，當(dāng)空氣以高速流動(dòng)通過吸著面2a與工件W之間的間隙時(shí)，