標(biāo)記，用于與第二掩膜版的定位。該粗定位標(biāo)記為兩組位于同一直線上的對頂?shù)木匦危c第二掩膜版上兩組位于同一直線上的對頂?shù)木匦沃睾洗侄ㄎ坏诙谀ぐ?。粗定位后，進行精準(zhǔn)定位，第二掩膜版上的十字標(biāo)記小于定位工裝的水平面上的十字標(biāo)記，調(diào)整定位工裝的位置使得第二掩膜版上的十字標(biāo)記位于定位工裝的十字標(biāo)記的內(nèi)部，且兩個十字中心重合，實現(xiàn)精準(zhǔn)定位。通過第二掩膜版上的圖形在玻璃基片上光刻相應(yīng)圖形，實現(xiàn)在無任何定位標(biāo)記的玻璃基片表面的高精度的光刻。
[0072]其他形狀基片的實施例參見圖6為長方體玻璃基片光刻定位工裝的結(jié)構(gòu)示意圖，圖7為截面為梯形的玻璃基片光刻定位工裝的結(jié)構(gòu)示意圖，包括凹槽(1)、水平面(2)、豎直面⑶、銳邊(4)、基片(5)。
[0073]綜上，基于本發(fā)明所提供的技術(shù)方案，首先設(shè)計并制作高精度光刻曝光用定位工裝，用于在曝光時牢固吸附玻璃基片。其次，對工裝關(guān)鍵尺寸進行計量，依據(jù)計量結(jié)果設(shè)計并制作掩膜版。然后用光刻的方法將對準(zhǔn)標(biāo)記制作在工裝表面。最后利用工裝上的標(biāo)記與掩膜版上的標(biāo)記進行套刻對準(zhǔn)，實現(xiàn)在無任何定位標(biāo)記的玻璃基片表面的高精度的光刻。
[0074]以上所述，僅為本發(fā)明最佳的【具體實施方式】，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
[0075]本發(fā)明說明書中未作詳細描述的內(nèi)容屬于本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員的公知技術(shù)。
【主權(quán)項】
1.一種用于無定位標(biāo)記的玻璃基片的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于:包括定位工裝、第一掩膜版、第二掩膜版； 所述定位工裝具有凹槽(I)、水平面(2)、豎直面(3)和銳邊(4)，所述凹槽用于固定玻璃基片，所述凹槽的形狀與玻璃基片外形匹配，使得當(dāng)玻璃基片安裝在凹槽內(nèi)時，玻璃基片的曝光面與所述水平面平齊，凹槽底部有小孔，通過小孔真空吸附玻璃基片；所述豎直面與水平面垂直相交，交線即為銳邊； 第一掩膜版具有第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記；第一組標(biāo)記用于第一掩膜版與定位工裝對準(zhǔn)定位，第二組標(biāo)記通過光刻的方法制作在定位工裝的水平面上，形成第一組套刻標(biāo)記； 第二掩膜版具有第二組套刻標(biāo)記及狹縫，第二組套刻標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記配合定位，實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的定位；狹縫用于在玻璃基片上光刻狹縫。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于所述第一組標(biāo)記為兩個對頂?shù)木匦螇K，兩個對頂?shù)木匦螇K位于同一直線上的邊與銳邊重合實現(xiàn)第一掩膜版與定位工裝對準(zhǔn)定位。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于第二組標(biāo)記為“十”字標(biāo)記，形成的第一組套刻標(biāo)記為“十”字標(biāo)記，第二掩膜版的第二組套刻標(biāo)為“十”字標(biāo)記，第二組套刻的“十”字標(biāo)記小于第一組套刻標(biāo)記的“十”字標(biāo)記，將第二組套刻的十字標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記的“十”字標(biāo)記中心重合，實現(xiàn)定位工裝與第二掩膜版的精確定位。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于第一掩膜版還具有第一組粗對準(zhǔn)標(biāo)記，第一組粗對準(zhǔn)標(biāo)記通過光刻的方法制作在定位工裝的水平面上形成粗對準(zhǔn)標(biāo)記，第二掩膜版具有第二組粗對準(zhǔn)標(biāo)記與水平面上形成的粗對準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的粗定位。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于所述玻璃基片為半圓柱玻璃基片；所述凹槽為V型槽，V型槽的夾角為90度。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻對準(zhǔn)裝置，其特征在于V型槽內(nèi)表面粗糙度小于0.5 μ m，豎直面與水平面的垂直度小于I μπι。7.—種針對無定位標(biāo)記的玻璃基片的光刻對準(zhǔn)方法，其特征在于包括如下步驟: 1)根據(jù)玻璃基片的形狀，制作定位工裝、第一掩膜版、第二掩膜版； 所述定位工裝具有凹槽、水平面、豎直面和銳邊，所述凹槽用于固定玻璃基片，所述凹槽的形狀與玻璃基片外形匹配，使得當(dāng)玻璃基片安裝在凹槽內(nèi)時，玻璃基片的曝光面與所述水平面平齊，凹槽底部有小孔，通過小孔真空吸附玻璃基片；所述豎直面，該豎直面與水平面垂直相交于銳邊； 第一掩膜版具有第一組標(biāo)記和第二組標(biāo)記；第一組標(biāo)記用于第一掩膜版與定位工裝對準(zhǔn)定位，第二組標(biāo)記通過光刻的方法制作在定位工裝的水平面上，形成第一組套刻標(biāo)記； 第二掩膜版具有第二組套刻標(biāo)記及狹縫，第二組套刻標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記配合定位實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的定位；狹縫用于在玻璃基片上光刻狹縫； 2)將所述定位工裝吸附于光刻機的曝光臺上，將玻璃基片置于定位工裝凹槽內(nèi)，使玻璃基片的曝光面與所述水平面平齊，開啟真空裝置，使玻璃基片牢固吸附于V型槽內(nèi)； 3)將第一掩膜版固定在版架上，使第一掩膜版位于定位工裝上部，調(diào)整定位工裝的位置，通過第一組標(biāo)記實現(xiàn)第一掩膜版與定位工裝對準(zhǔn)定位； 4)將第二組標(biāo)記通過光刻的方法制作在定位工裝的水平面上，形成第一組套刻標(biāo)記； 5)取下第一掩膜版，將第二掩膜版固定在版架上，使第二掩膜版位于定位工裝上部，調(diào)整定位工裝的位置，使第二組套刻標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記配合定位實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的精確定位； 6)通過第二掩膜版上的狹縫，在玻璃基片上光刻狹縫。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于所述第一組標(biāo)記為兩個對頂?shù)木匦螇K，兩個對頂?shù)木匦螇K位于同一直線上的邊與銳邊重合實現(xiàn)第一掩膜版與定位工裝對準(zhǔn)定位。9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于第二組標(biāo)記為“十”字標(biāo)記，形成的第一組套刻標(biāo)記為“十”字標(biāo)記，第二掩膜版的第二組套刻標(biāo)為“十”字標(biāo)記，第二組套刻的“十”字標(biāo)記小于第一組套刻標(biāo)記的“十”字標(biāo)記，將第二組套刻的十字標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記的“十”字標(biāo)記中心重合，實現(xiàn)定位工裝與第二掩膜版的精確定位。10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于第一掩膜版還具有第一組粗對準(zhǔn)標(biāo)記，第一組粗對準(zhǔn)標(biāo)記通過光刻的方法制作在定位工裝的水平面上形成粗對準(zhǔn)標(biāo)記，第二掩膜版具有第二組粗對準(zhǔn)標(biāo)記與水平面上形成的粗對準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的粗定位。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于所述步驟5)使第二組套刻標(biāo)記與第一組套刻標(biāo)記配合定位實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的精確定位之前，通過第二組粗對準(zhǔn)標(biāo)記與水平面上形成的粗對準(zhǔn)標(biāo)記對準(zhǔn)實現(xiàn)第二掩膜版與定位工裝的粗定位。12.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于所述玻璃基片為半圓柱玻璃基片；所述凹槽為V型槽，V型槽的夾角為90度。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其特征在于V型槽內(nèi)表面粗糙度小于0.5 μπι，豎直面與水平面的垂直度小于I ym。14.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于制作定位工裝后，對定位工裝的尺寸精確測量，依據(jù)計量結(jié)果設(shè)計并制作第一掩膜版和第二掩膜版。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種針對無定位標(biāo)記的玻璃基片的光刻對準(zhǔn)裝置及對準(zhǔn)方法。針對基片的形狀設(shè)計專用的定位工裝和配套的第一掩膜版、第二掩膜版；通過第一掩膜版在定位工裝光刻標(biāo)記；通過該標(biāo)記實現(xiàn)第二掩膜版的定位，通過第二掩膜版的狹縫在玻璃基片上光刻狹縫。玻璃基片上的狹縫精度滿足實際光刻的狹縫的中心線與半圓柱母線的距離偏差≤3μm。定位準(zhǔn)確，且不在玻璃基片表面形成任何破壞性的標(biāo)記，使基片的有效使用面積最大化。
【IPC分類】H01L21/67, H01L21/68
【公開號】CN105047595
【申請?zhí)枴緾N201510259676
【發(fā)明人】趙娜, 朱春英, 曾憲滬, 秦素然, 劉江, 趙曉雨, 石建民
【申請人】北京控制工程研究所
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年5月20日