顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明關于一種顯示裝置，尤指一種可降低傳導阻抗、減少漏電流、提高電容值及增加畫素儲存電容的顯示裝置。
【背景技術】
[0002]隨著顯示器技術不斷進步，所有的顯示裝置均朝體積小、厚度薄、重量輕等趨勢發(fā)展，故目前市面上主流的顯示器裝置已由以往的陰極射線管發(fā)展成平面顯示器，如液晶顯示裝置或有機發(fā)光二極管顯示裝置等。其中，液晶顯示裝置或有機發(fā)光二極管顯示裝置可應用的領域相當多，舉凡日常生活中使用的手機、筆記型計算機、攝影機、照相機、音樂播放器、行動導航裝置、電視等顯示裝置，大多數(shù)均使用該些顯示面板。
[0003]雖然液晶顯示裝置或有機發(fā)光二極管顯示裝置已為市面上常見的顯示裝置，特別是液晶顯示裝置的技術更是相當成熟，但隨著顯示裝置不斷發(fā)展且消費者對顯示裝置的顯示質(zhì)量要求日趨提高，各家廠商無不極力發(fā)展出具有更高顯示質(zhì)量的顯示裝置。尤其是，有機發(fā)光二極管裝置更是目前各家廠商發(fā)展的重點項目之一。
[0004]有鑒于此，即便目前液晶顯示裝置或有機發(fā)光二極管顯示裝置，仍需發(fā)展出具有更佳顯示質(zhì)量的顯示裝置，以符合消費者需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的主要目的在于提供一種顯示裝置，能同時達到可降低傳導阻抗、減少漏電流、提高電容值及增加畫素儲存電容等目的。
[0006]為達成上述目的，本發(fā)明提供一種顯示裝置，包括:一第一基板；一第一絕緣層，設置于第一基板上；一第二絕緣層，設置于第一絕緣層上；以及一金屬層，設置于第二絕緣層上且包括多條線路，且相鄰兩線路間設有一顯露該第二絕緣層的開口區(qū)；其中，金屬層下方的第二絕緣層厚度大于開口區(qū)所顯露的第二絕緣層厚度。更具體而言，本發(fā)明的金屬層為一圖案化金屬層，且金屬層(特別是，金屬層的線路)下方的第二絕緣層厚度大于開口區(qū)所顯露的第二絕緣層厚度。
[0007]換言之，本發(fā)明所提供的顯示裝置，包括:一第一基板；一第一絕緣層，設置于第一基板上；一第二絕緣層，設置于第一絕緣層上；以及一金屬層，部分覆蓋第二絕緣層；其中，金屬層下方(即，經(jīng)金屬層覆蓋)的第二絕緣層厚度大于非金屬層下方(即，未經(jīng)金屬層覆蓋)的第二絕緣層厚度。
[0008]于本發(fā)明所提供的顯示裝置中，透過將經(jīng)金屬層覆蓋的第二絕緣層厚度加厚，而可達到降低傳導阻抗，并使漏電流減小的目的；同時，還透過將開口區(qū)所顯露的未經(jīng)金屬層覆蓋的第二絕緣層厚度減薄，而可達到提高電容值，并增加畫素的儲存電容的目的。
[0009]于本發(fā)明的顯示裝置中，開口區(qū)所顯露的第二絕緣層(即，非金屬層下方的第二絕緣層)厚度小于金屬層(特別是，金屬層的線路)下方的第二絕緣層厚度。較佳為，開口區(qū)所顯露的第二絕緣層厚度比金屬層下方的第二絕緣層厚度小約10%到95% ;更佳為20%到80% ;且最佳為65%到75%。
[0010]此外，于本發(fā)明的顯示裝置中，第一絕緣層及第二絕緣層可為本技術領域常用的介電層材料，如氧化硅及氮化硅等。較佳為，第一絕緣層為一氧化硅層 '及/或第二絕緣層為一氮化娃層。
[0011]再者，于本發(fā)明的顯示裝置中，層疊于第二絕緣層下方的第一絕緣層會有一側蝕現(xiàn)象。更具體而言，若第一絕緣層具有一第一側壁，第二絕緣層具有一第二側壁，則第二側壁突出于第一側壁。
[0012]于本發(fā)明的顯示裝置中，第一基板上可還設有一封裝膠，其中圖案化金屬層下方的第二絕緣層厚度大于封裝膠下方的第二絕緣層厚度。在此，封裝膠的材料可依照顯示裝置類型而定；若本發(fā)明的顯示裝置為一液晶顯示裝置，則封裝膠可采用此技術領域常用的框膠；且若本發(fā)明的顯示裝置為一有機發(fā)光二極管顯示裝置，則封裝膠可采用此技術領域常用的可達到高阻水性及氣密性的玻璃膠。
[0013]本發(fā)明的顯示裝置可應用于有機發(fā)光二極管顯示裝置或液晶顯示裝置。當本發(fā)明的顯示裝置為一有機發(fā)光二極管顯示裝置，則可還包括一平坦層，設于金屬層(特別是，圖案化金屬層的線路)上及未經(jīng)金屬層覆蓋的開口區(qū)中。此外，于此情形下，本發(fā)明的顯示裝置可還包括一有機發(fā)光二極管單元，其中有機發(fā)光二極管單元包括一第一電極、一第二電極、以及夾置于第一電極及第二電極間的一有機發(fā)光層，且金屬層(即，圖案化金屬層的線路)與第一電極電性連接。
[0014]另一方面，當本發(fā)明的顯示裝置為一液晶顯示裝置，則可還包括一液晶顯示單元，其中液晶顯不單兀包括一第一電極、一第二電極、以及夾置于第一電極及第二電極間的一液晶層，且金屬層(即，圖案化金屬層的線路)與第一電極電性連接。
【附圖說明】
[0015]圖1是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置剖面示意圖。
[0016]圖2是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的電路布線示意圖。
[0017]圖3是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的部分顯示區(qū)剖面示意圖。
[0018]圖4A及圖4B是分別為本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的部分顯示區(qū)剖面示意圖。
[0019]圖5是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的部分非顯示區(qū)示意圖。
[0020]圖6是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的沿圖5的P-P’剖面線的剖面示意圖。
[0021]圖7是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的圖3的區(qū)域E的放大圖。
[0022]圖8是本發(fā)明實施例1的有機發(fā)光二極管顯示裝置的圖1封裝膠區(qū)域的剖面示意圖。
[0023]圖9是本發(fā)明實施例2的液晶顯示裝置剖面示意圖。
[0024]圖10是本發(fā)明實施例2的液晶顯示裝置的部分顯示區(qū)剖面示意圖。
[0025]【符號說明】
[0026]101 氮化硅緩沖層102氧化硅緩沖層
[0027]103 多晶硅層104氧化硅絕緣層
[0028]11第一基板111第一金屬層
[0029]111’鑰金屬層 112柵極絕緣層
[0030]113半導體層114第一絕緣層
[0031]114a第一側壁115第二絕緣層
[0032]115a第二側壁116第二金屬層
[0033]116a開口區(qū)117平坦層
[0034]117a平坦層開口118保護層
[0035]118a保護層開口12第二基板
[0036]13封裝膠14支撐元件
[0037]15有機發(fā)光二極管單兀151第一電極
[0038]152有機發(fā)光層153第二電極
[0039]16畫素界定層161畫素開口
[0040]17間隔物18液晶顯示單元
[0041]181液晶層24薄膜晶體管單元
[0042]25儲存電極A顯示區(qū)
[0043]B非顯示區(qū)E區(qū)域
[0044]Rl連接區(qū)域T薄膜晶體管元件區(qū)
[0045]T1，T2厚度P-P’，Q_Q’ 剖面線
【具體實施方式】
[0046]以下是通過特定的具體實施例說明本發(fā)明的實施方式，熟悉此技藝的人士可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其它優(yōu)點與功效。本發(fā)明亦可通過其它不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節(jié)亦可針對不同觀點與應用，在不悖離本創(chuàng)作的精神下進行各種修飾與變更。
[0047]實施例1
[0048]圖1是本實施例的有機發(fā)光二極管顯示裝置剖面示意圖。于有機發(fā)光二極管顯示裝置的制作過程中，先提供一第一基板11及一第二基板12。其中，第一基板11上設置有一有機發(fā)光二極管單元11及一畫素界定層16，其中每一畫素界定層16設于兩相鄰的有機發(fā)光二極管單元15間。同時，第二基板12上則設置有多個支撐元件14，并于第二基板12的邊緣先形成有一封裝膠13 (于本實施例中，為一玻璃膠)，且封裝膠13透過點膠及加熱燒