具有端子的電線和具有端子的電線的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于具有端子的電線（terminated electric wire)的技術(shù)，在所述具 有端子的電線中將端子連接至電線的端部。
【背景技術(shù)】
[0002] 常規(guī)地，已知如下的具有端子的電線（即，設(shè)置有端子的電線），其包含含有芯線 的電線和連接至從該電線的端部露出的芯線的端子。近來，為了降低電線的重量，已經(jīng)進(jìn)行 了使用包含鋁或鋁合金的芯線的嘗試。
[0003] -般來講，端子由具有高導(dǎo)電性的銅或銅合金構(gòu)成。因此，如果水附著至端子和芯 線彼此連接的連接部，則存在所謂的腐蝕電流在端子、芯線和水之間流動而導(dǎo)致電蝕的擔(dān) 憂。
[0004] 鑒于上述情況，在專利文獻(xiàn)1中記載的具有端子的電線中，在壓接至芯線的線桶 (wire barrel)中形成直徑朝向芯線減小的拉伸部（drawn portion)。通過該拉伸部抑制 水滲入線桶中。結(jié)果，預(yù)期可抑制電蝕。引用列表
[0005] 專利文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn) 1 :JP 2〇1〇-45〇〇7Α

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 技術(shù)問題
[0008] 然而，利用上述構(gòu)造存在如下?lián)鷳n：如果水在拉伸部外側(cè)的區(qū)域橫跨端子和芯線 而附著，則腐蝕電流通過水在端子和芯線之間流動，導(dǎo)致電蝕。在下文中，將參照圖9對該 機(jī)理進(jìn)行說明。
[0009] 首先，在包含鋁或鋁合金的芯線1的與水接觸的部分中，鋁向芯線放出電子并且 作為Al3+離子溶出到水中。以這種方式，在芯線1中生成電子。
[0010] 另一方面，在水2和端子3彼此接觸的部分中，溶解在水2中的氧（所謂的溶解 氧）從端子3接收電子。結(jié)果，當(dāng)水2為酸性時，溶解氧、H+離子和電子反應(yīng)生成水，并且當(dāng) 水為中性或堿性時，溶解氧、H20和電子反應(yīng)生成0H離子。以這種方式在端子3中消耗電 子。
[0011] 當(dāng)如上所述在芯線1中生成電子并且在端子3中消耗電子時，通過水2在芯線1 和端子3之間形成回路，并且腐蝕電流在該回路中流動。結(jié)果，存在如下?lián)鷳n：由于在水2 與芯線1接觸的部分的電蝕而導(dǎo)致鋁溶出到水中。
[0012] 當(dāng)芯線1包含與鋁或鋁合金不同并且具有比銅更大的離子化傾向的金屬時，也可 引起上述問題。
[0013] 基于上述情況完成了本發(fā)明，并且本發(fā)明的目的在于提供用于耐電蝕性提高的具 有端子的電線的技術(shù)。
[0014] 技術(shù)方案
[0015] 根據(jù)本發(fā)明的一方面，具有端子的電線包含：包含芯線的電線，所述芯線包含離子 化傾向比銅更大的金屬并且從電線的端部露出；和端子，所述端子包含銅或銅合金并且連 接至從電線的端部露出的芯線，其中在端子的表面上形成表面處理層，表面處理層包含呈 液體狀或糊狀的表面處理劑，并且所述表面處理劑的分子結(jié)構(gòu)包含對端子具有親和性的親 和性基團(tuán)和具有疏水性的疏水基團(tuán)。
[0016] 利用本發(fā)明的該方面，表面處理層利用包含在表面處理劑中的親和性基團(tuán)相對牢 固地附著至端子的表面。構(gòu)成該表面處理層的表面處理劑包含疏水基團(tuán)，因此，即使水滴橫 跨芯線和端子附著，也可以抑制溶解在水滴中的氧接近端子的表面。結(jié)果，可以抑制腐蝕電 流在端子、芯線和水滴之間的流動，由此使得可以抑制芯線的電蝕。
[0017] 以下方面對于本發(fā)明的實施方式是優(yōu)選的?？梢詫⑿揪€構(gòu)造為包含鋁或鋁合金。
[0018] 利用上述方面，可以可靠地抑制包含鋁或鋁合金的芯線的電蝕。
[0019] 優(yōu)選地，親和性基團(tuán)為含氮雜環(huán)基團(tuán)。
[0020] 利用上述方面，由于包含在含氮雜環(huán)基團(tuán)中的氮原子，可以進(jìn)一步提高表面處理 層對端子的親和性。
[0021] 優(yōu)選地，親和性基團(tuán)為源自選自如下中的一個以上螯合配體的螯合基團(tuán)：多磷酸 鹽、氨基羧酸、1，3-二酮、乙酰乙酸（酯）、羥基羧酸、多胺、氨基醇、芳族雜環(huán)堿、酚類、肟類、 席夫堿、四吡咯、硫化合物、合成大環(huán)化合物、膦酸和羥基亞乙基膦酸。
[0022] 利用上述方面，由于結(jié)合至端子的表面的螯合基團(tuán)，可以進(jìn)一步提高表面處理層 對端子的親和性。
[0023] 優(yōu)選地，表面處理劑包括由通式（1)表示的化合物：
[0025] 其中X表示疏水基團(tuán)，并且Y表示氫原子或低級烷基。
[0026] 利用上述方面，在對端子具有親和性的氮原子附近的疏水基團(tuán)被取代，由此使得 可以有效地抑制溶解在水中的氧接近端子的表面。
[0027] 優(yōu)選地，由X表示的疏水基團(tuán)由通式（2)表示：
[0029] 其中R1和R 2獨立地表示具有1~15個碳原子的烷基、乙烯基、烯丙基或芳基。
[0030] 利用以上方面，疏水基團(tuán)具有兩個有機(jī)基團(tuán)R1和R2,由此具有優(yōu)異的疏水性。這 使得可以進(jìn)一步抑制溶解在水中的氧接近端子的表面。
[0031] 優(yōu)選地，R1和R2獨立地為具有5~11個碳原子的直鏈烷基、支鏈烷基、或環(huán)烷基。
[0032] 利用上述方面，疏水基團(tuán)包含相對大的碳原子數(shù)，由此使得可以提高疏水性。這使 得可以進(jìn)一步抑制溶解在水中的氧接近端子的表面。
[0033] 優(yōu)選地，Y為氫原子或甲基。
[0034] 利用上述方面，可以在端子的表面上形成致密的表面處理層。這使得可以可靠地 抑制溶解在水中的氧接近端子的表面。
[0035] 優(yōu)選地，端子包含連接部，所述連接部通過被壓靠在對接端子（partner terminal)上或通過對接端子被壓靠在連接部上而電連接至對接端子。
[0036] 利用以上方面，將連接部壓靠在對接端子上或?qū)佣俗訅嚎吭谶B接部上，由此 將呈液體狀或糊狀的表面處理層從連接部與對接端子接觸的部分去除。因此，連接部和對 接端子彼此電連接。
[0037] 此外，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，具有端子的電線的制造方法包括：將包含銅或銅合 金的端子連接至芯線，所述芯線包含離子化傾向比銅更大的金屬并且從包含芯線的電線的 端部露出；和通過將端子浸入表面處理劑或包含所述表面處理劑的溶液，從而在端子的表 面上形成表面處理層，所述表面處理劑呈液體狀或糊狀且其分子結(jié)構(gòu)包含對所述端子具有 親和性的親和性基團(tuán)和具有疏水性的疏水基團(tuán)。
[0038] 利用本發(fā)明的該方面，可以利用其中將端子浸入表面處理劑中的簡單的方法在端 子的表面上形成表面處理層，由此使得可以簡化具有端子的電線的制造工藝。
[0039] 有益效果
[0040] 利用本發(fā)明，可以提高具有端子的電線的耐電蝕性。
【附圖說明】
[0041] 圖1為根據(jù)本發(fā)明的實施方式1的具有端子的電線的側(cè)面圖。
[0042] 圖2為端子的透視圖。
[0043] 圖3為示出其中將具有端子的電線連接至對接端子的狀態(tài)的部分切掉的側(cè)面圖。
[0044] 圖4為示出其中將電線連接至端子的狀態(tài)的側(cè)面圖。
[0045] 圖5為示出其中將端子和電線浸入表面處理劑中的狀態(tài)的示意圖。
[0046] 圖6為示出根據(jù)假想技術(shù)的其中將端子連接至芯線的連接結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0047] 圖7為示出根據(jù)本發(fā)明的方面的其中將端子連接至芯線的連接結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0048] 圖8為根據(jù)本發(fā)明的實施方式2的具有端子的電線的側(cè)面圖。
[0049] 圖9為示出根據(jù)常規(guī)技術(shù)的其中將端子連接至芯線的連接結(jié)構(gòu)的示意圖。