一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及太陽能電池領域，具體地涉及一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法。
【背景技術】
[0002]太陽能電池的制備工藝為:前清洗一制絨一擴散一等離子刻蝕一后清洗一等離子氣相沉積一絲網印刷一燒結一檢測。
[0003]硅片經制絨后進入擴散環(huán)節(jié)。但是由于制絨后，烘干不徹底，或者藥液清洗不干凈造成表面沾污。擴散前往往肉眼難以識別，但是擴散后就會形成黑點或者大片黑斑。不能進入下道工序，必須返工。
[0004]常規(guī)的處理方法是硅片重新制絨，但這樣硅片的厚度變薄，硅片的承受力下降，在后續(xù)的工序中容易發(fā)生碎片。
【發(fā)明內容】
[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，以解決現(xiàn)有技術中存在的上述問題。
[0006]本發(fā)明提供的技術方案如下:
[0007]一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，包括如下步驟:
[0008]I)用5-10 %體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；
[0009]2)去離子水清洗，超聲振蕩；
[0010]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100 °C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0011]4)用5-10體積比％ HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時去除PN結；
[0012]5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。
[0013]在本發(fā)明的較佳實施例中，步驟2)中，超聲振蕩的時間為30-60s，超聲頻率為20-130KHz。優(yōu)選為 50-100KHz。
[0014]在本發(fā)明的較佳實施例中，步驟3)的臭氧、水蒸氣和氬氣體積比為1-2:1-2:0.5-1 ο
[0015]在本發(fā)明的較佳實施例中，步驟I)中，HF酸清洗的時間為10-30min。
[0016]在本發(fā)明的較佳實施例中，步驟4)中，HF酸清洗的時間為25-40min。
[0017]本發(fā)明的優(yōu)點如下:首先采用5-10%體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；再去離子水清洗，超聲振蕩，去除HF ;通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；再用5-10體積比％ HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時去除PN結。因此，按照本發(fā)明方法，無需重新制絨，可以直接進行擴散?？朔爽F(xiàn)有重新制絨導致的硅片變薄(每次制絨需要去除5um左右)，承受力下降的缺陷。
【具體實施方式】
[0018]實施例1
[0019]I)用5%體積比HF酸浸泡，時間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0020]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為30s，超聲頻率為30KHz ;
[0021]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:2:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0022]4)用5% HF酸清洗，時間為25min，去除二氧化硅膜，同時去除PN結。
[0023]5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。
[0024]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進行擴散。
[0025]實施例2
[0026]I)用10%體積比HF酸浸泡，時間為15min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0027]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為45s，超聲頻率為25KHz ;
[0028]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:1.5:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0029]4)用10% HF酸清洗，時間為25min，去除二氧化硅膜，同時去除了 PN結。
[0030]5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。
[0031]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進行擴散。
[0032]實施例3
[0033]I)用5 %體積比HF酸浸泡，時間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0034]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為30s，超聲頻率為30KHz ;
[0035]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為2:1:1，溫度為100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0036]4)用5 % HF酸清洗，時間為25min，去除二氧化硅膜，同時去除了 PN結。
[0037]5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。
[0038]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進行擴散。
[0039]實施例4
[0040]I)用7%體積比HF酸浸泡，時間為18min左右，去磷硅玻璃和臟污；
[0041]2)去離子水清洗，超聲振蕩；超聲頻率為35s，超聲頻率為30KHz ;
[0042]3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，體積比為1:1:1，溫度為100°C，形成厚度為
0.3-0.5微米的二氧化硅膜；
[0043]4)用5 % HF酸清洗，時間為25min，去除二氧化硅膜，同時去除了 PN結。
[0044]5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。
[0045]按照本發(fā)明方法處理，無需重新制絨，可以直接進行擴散。
【主權項】
1.一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，包括如下步驟: 1)用5-10%體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污； 2)去離子水清洗，超聲振蕩；3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100°C，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化娃膜； 4)用5-10體積比HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時去除PN結； 5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。2.如權利要求1所述的一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟I)中，HF酸清洗的時間為10-30min。3.如權利要求1所述的一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟2)中，超聲振蕩的時間為30-60s，超聲頻率為20-130KHZ。4.如權利要求1所述的一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，其特征在于:20-22% 步驟3)的臭氧、水蒸氣和氬氣體積比為1-2:1-2:0.5-1 ο5.如權利要求1所述的一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，其特征在于: 步驟4)中，HF酸清洗的時間為25-40min。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種太陽能電池擴散燒焦片的返工處理方法，1)用5-10％體積比HF酸，去磷硅玻璃和臟污；2)去離子水清洗，超聲振蕩；3)烘干后，通臭氧、水蒸氣和氬氣，溫度90-100℃，形成厚度為0.3-0.5微米的二氧化硅膜；4)用5-10％HF酸清洗，去除二氧化硅膜，同時去除了PN結。5)去離子水清洗烘干后，重新擴散。本發(fā)明無需重新制絨即可重新擴散。
【IPC分類】H01L21/02
【公開號】CN105470108
【申請?zhí)枴緾N201510626944
【發(fā)明人】許新湖, 柯雨馨, 戴亮亮
【申請人】陽光大地（福建）新能源有限公司
【公開日】2016年4月6日
【申請日】2015年9月28日