信息處理裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明實施例涉及信息處理技術(shù)，尤其涉及一種信息處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]天線的饋電網(wǎng)絡(luò)和相移器、平衡放大器、相位檢波器、平衡混頻器等應(yīng)用非常廣泛。目前上述器件的結(jié)構(gòu)設(shè)計版圖面積較大，輸出平衡度較差，如何使上述器件的設(shè)計更合理并提升其輸出平衡度，已成為業(yè)界急需解決的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實施例提供一種信息處理裝置。
[0004]本發(fā)明實施例的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的:
[0005]一種信息處理裝置，應(yīng)用于電子設(shè)備中，所述信息處理裝置包括:
[0006]接地件、屏蔽層、輸入端口、第一輸出端口、第二輸出端口、第一接地端口、第二接地端口、第一上層線圈、第二上層線圈、第一下層線圈、第二下層線圈和漸變傳輸線；所述輸入端口與所述第一上層線圈的第一端連接，所述第一上層線圈的第二端與所述漸變傳輸線的第一端連接，所述漸變傳輸線的第二端與所述第二上層線圈的第一端連接，所述第二上層線圈的第二端開路；第一下層線圈的兩端分別與第一接地端口和第二輸出端口連接，所述第二下層線圈的兩端分別與所述第一接地端口和所述第二輸出端口連接；所述屏蔽層位于所述信息處理裝置的最下層，所述屏蔽層的兩端與所述接地件連接。
[0007]優(yōu)選地，所述第一上層線圈和所述第二上層線圈位于同一平面上，且沿所述信息處理裝置的中軸線對稱；
[0008]所述第一下層線圈和所述第二下層線圈位于同一平面上，且沿所述信息處理裝置的中軸線對稱。
[0009]優(yōu)選地，所述第一上層線圈和所述第二上層線圈的長度相同，所述第一上層線圈和所述第二上層線圈的寬度不同，所述第一上層線圈和所述第二上層線圈通過所述漸變傳輸線連接；
[0010]所述第一下層線圈和所述第二下層線圈的長度和寬度均相同。
[0011]優(yōu)選地，所述第一上層線圈、所述第二上層線圈、所述第一下層線圈、所述第二下層線圈均為彎曲的折線結(jié)構(gòu)。
[0012]優(yōu)選地，所述屏蔽層由兩個以上寬度及長度分別相同的條狀結(jié)構(gòu)層疊；每兩個相鄰的層疊條狀結(jié)構(gòu)之間有縫隙。
[0013]優(yōu)選地，所述接地件由金屬材質(zhì)構(gòu)成。
[0014]優(yōu)選地，所述條狀結(jié)構(gòu)由金屬材質(zhì)制成。
[0015]本發(fā)明實施例的信息處理裝置采用了折線結(jié)構(gòu)，充分利用了三維空間，從而使信息處理裝置的體積顯著減小；通過使所述第一上層線圈和所述第二上層線圈的長度相同而寬度不同，所述第一下層線圈和所述第二下層線圈的長度和寬度均相同，從而使本發(fā)明實施例的信息處理裝置的帶寬得到擴展的同時大大提高了相位平衡度和幅度平衡度。本發(fā)明實施例提供的信息處理裝置具有面積小、重量輕、平衡度好、集成度高等優(yōu)點，使得所應(yīng)用的產(chǎn)品具有更好的使用性能，極具市場競爭力，其應(yīng)用前景非常廣闊。
【附圖說明】
[0016]圖1為本發(fā)明實施例的信息處理裝置的立體結(jié)構(gòu)圖；
[0017]圖2為本發(fā)明實施例的信息處理裝置的平面結(jié)構(gòu)圖；
[0018]圖3為本發(fā)明實施例的信息處理裝置的S參數(shù)仿真曲線示意圖。
【具體實施方式】
[0019]為了能夠更加詳盡地了解本發(fā)明的特點與技術(shù)內(nèi)容，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實現(xiàn)進行詳細闡述，所附附圖僅供參考說明之用，并非用來限定本發(fā)明。
[0020]圖1為本發(fā)明實施例的信息處理裝置的立體結(jié)構(gòu)圖，圖2為本發(fā)明實施例的信息處理裝置的平面結(jié)構(gòu)圖，如圖1、2所示，本示例的信息處理裝置包括接地件Ground、屏蔽層Shield、輸入端口 P1、第一輸出端口 P2、第二輸出端口 P3、第一接地端口 G1、第二接地端口G2、第一上層線圈U1、第二上層線圈U2、第一下層線圈D1、第二下層線圈D2和漸變傳輸線L ;所述輸入端口 Pl與所述第一上層線圈Ul的第一端連接，所述第一上層線圈Ul的第二端與所述漸變傳輸線L的第一端連接，所述漸變傳輸線L的第二端與所述第二上層線圈U2的第一端連接，所述第二上層線圈U2的第二端開路；第一下層線圈Dl的兩端分別與第一接地端口 Gl和第二輸出端口 G2連接，所述第二下層線圈D2的兩端分別與所述第一接地端口 Gl和所述第二輸出端口 P3連接；所述屏蔽層Shield位于所述信息處理裝置的最下層，所述屏蔽層Shield的兩端與所述接地件Ground連接。
[0021]本發(fā)明實施例中，接地件Ground由導(dǎo)電材質(zhì)制成。即接地件Ground只要能導(dǎo)電而實現(xiàn)接地功能即可。接地件Ground最好由金屬材質(zhì)制成。
[0022]本發(fā)明實施例中，所述第一上層線圈Ul和所述第二上層線圈U2位于同一平面上，且沿所述信息處理裝置的中軸線對稱；
[0023]所述第一下層線圈Dl和所述第二下層線圈D2位于同一平面上，且沿所述信息處理裝置的中軸線對稱。
[0024]本發(fā)明實施例中，所述第一上層線圈Ul和所述第二上層線圈U2的長度相同，所述第一上層線圈Ul和所述第二上層線圈U2的寬度不同，所述第一上層線圈Ul和所述第二上層線圈U2通過所述漸變傳輸線L連接；
[0025]所述第一下層線圈Dl和所述第二下層線圈D2的長度和寬度均相同。
[0026]優(yōu)選地，所述第一上層線圈U1、所述第二上層線圈U2、所述第一下層線圈D1、所述第二下層線圈D2均為彎曲的折線結(jié)構(gòu)。如圖1、圖2所示，所述第一上層線圈U1、所述第二上層線圈U2、所述第一下層線圈D1、所述第二下層線圈D2的整體結(jié)構(gòu)呈弓形及反弓形，該結(jié)構(gòu)沿本發(fā)明實施例的信息處理裝置的中軸線大致對稱。
[0027]優(yōu)選地，所述屏蔽層Shield由兩個以上寬度及長度分別相同的條狀結(jié)構(gòu)層疊；每兩個相鄰的層疊條狀結(jié)構(gòu)之間有縫隙。其中，所述條狀結(jié)構(gòu)由金屬材質(zhì)制成。本發(fā)明實施例中，所述屏蔽層Shield使用金屬材質(zhì)的條狀結(jié)構(gòu)后，能實現(xiàn)更佳的屏蔽效果。
[0028]為使本發(fā)明實施例的信息處理裝置的實施效果更佳，本發(fā)明實施例中，上層線圈Ul的寬度為4-6 μ m，上層線圈U2的寬度為7_9 μ m ;優(yōu)選地，上層線圈Ul的寬度為
4.5-5.5 μ m，上層線圈U2的寬度為7.5-8.5 μ m ;兩上層線圈的總長度為500-510 μ m，優(yōu)選為504-506 μ m。下層線圈Dl和下層線圈D2的寬度均為8_10 μ m，優(yōu)選地，下層線圈Dl和下層線圈D2的寬度均為8.5-9.5 μπι，上層線圈與下層線圈之間的距離為0.7-0.8 μπι，優(yōu)選地為0.77-0.78 μ m ;下層線圈Dl和下層線圈D2的長度均為270-290 μ m，優(yōu)選為275-285 μ m。
[0029]優(yōu)選地，上層線圈與下層線圈之間的距離為0.775 μπι ;屏蔽層Shield中的長條結(jié)構(gòu)的寬度為0.5-1.5 μ m，間距為0.5-1.5 μ m，長度為75-85 μ