一種降低oled混色缺陷的方法及oled顯示面板的制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示屏幕制造領域，具體涉及一種降低OLED混色缺陷的方法及OLED顯示面板。
【背景技術】
[0002]隨著社會的不斷發(fā)展，手機、電腦、電視都需要使用可視屏幕，人們對顯示屏幕的需求也越來越高。OLED作為一種自發(fā)光顯示器技術，采用非常薄的有機材料涂層和玻璃基板，當有電流通過時，這些有機材料就會發(fā)光，而且OLED顯示屏幕可視角度大，并且能夠顯著節(jié)省電能，得到了廣泛使用。
[0003]在OLED器件的制造過程中，玻璃基板與金屬精細掩膜板之間需要留有一定的空隙，以避免金屬精細掩膜板與玻璃基板直接接觸而影響到發(fā)光層，進而造成成品損壞。為了實現(xiàn)上述的空隙，需要在金屬精細掩膜板和玻璃基板之間設置有間隔層，通常間隔層的呈單顆柱狀地設置于需要被蒸鍍的像素區(qū)域兩側。
[0004]OLED制備過程中一般包括一蒸鍍工藝，使用該工藝在像素區(qū)形成一層膜層。由于玻璃基板和金屬精細掩膜板之間存在一定的空隙，而蒸鍍區(qū)周圍一般并沒有設置用于限制蒸鍍范圍的阻擋物，所以根據(jù)蒸鍍過程中蒸鍍沿直線進行的特性，會造成在蒸鍍過程中形成蒸鍛區(qū)的范圍擴大，從而引起蒸鍛區(qū)的陰影效應(shadow effect),進而可能導致混色(color mixing)的產(chǎn)生風險。
[0005]如圖1所示為現(xiàn)有技術中OLED的蒸鍍時的部分示意圖，基板I與金屬精細掩膜板2之間有一定的間隙，在間隙內(nèi)設置有柱狀間隔層3。在進行蒸鍍工藝時，理想的情況是在相鄰間隔層3之間的基板I表面形成一有機膜層4，即在圖中所示預設蒸鍍區(qū)SI的基板表面形成有機膜層4，而非預設蒸鍍區(qū)S2不形成相應有機膜層。
[0006]但是在實際情況中，技術人員發(fā)現(xiàn)很難實現(xiàn)上述理想的情況。如圖所示，以一個蒸鍍區(qū)為單位，基板I與金屬精細掩膜板2之間僅通過兩根柱狀間隔層3進行支撐。在蒸鍍過程中，蒸鍍材料會隨著圖示箭頭方向進行運動，由于預設蒸鍍區(qū)SI和非預設蒸鍍區(qū)S2之間是導通的，最終不僅在預設蒸鍍區(qū)SI形成膜層4，同時還可能因為陰影效應在非預設蒸鍍區(qū)S2留下蒸鍍材料，進而產(chǎn)生混色情況的發(fā)生，降低器件良率。
[0007]中國專利(CN 202786401 U)公開了一種能夠提高蒸鍍品質的OLED蒸鍍用掩膜板，該蒸鍍用掩膜板包括設置在掩膜板本體上的至少一個蒸鍍單元，每一個蒸鍍單元包含呈規(guī)則排列的蒸鍍?nèi)笨?，掩膜板本體上位于其蒸鍍單元處的厚度小于該掩膜板本體的外形厚度。該發(fā)明所公開的蒸鍍用掩膜板通過將其蒸鍍單元處的掩膜板本體的厚度設置地較小，從而減小由于重力影響而產(chǎn)生的下垂現(xiàn)象，進而減少陰影效應所導致的質量問題。
[0008]但是該專利在蒸鍍過程中，仍可能發(fā)生蒸鍍材料進入至非預設蒸鍍區(qū)，進而導致混色的情況產(chǎn)生，降低OLED器件良率。
[0009]中國專利(CN 1329458 A)公開了一種有機電致發(fā)光器件的制備方法，該方法包括:在透明的玻璃基板或柔性基板上淀積透明導電薄膜氧化銦錫等作為器件的第一電極；在第一電極和電極之間的間隙上同時旋轉涂覆第一絕緣層；在第一絕緣層上繼續(xù)旋轉涂覆第二絕緣層；對上述第二絕緣層直接進行光刻；以第二絕緣層圖形為掩膜，對第一絕緣層顯影形成與上述第一電極正交的多個互相平行的直線條；在第二絕緣層上及去除了兩層絕緣聚合物的透明導電薄膜和透明導電薄膜線條間隙之上蒸鍍有機層；在有機層上蒸鍍金屬層。
[0010]該專利公開的是一種有機電致發(fā)光器件的制備方法，其需要使用蒸鍍工藝，而在蒸鍍過程中，蒸鍍材料仍可能會進入非預設蒸鍍區(qū)進而在非預設蒸鍍區(qū)內(nèi)留下蒸鍍材料，進而造成發(fā)光器件無法正常工作。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明提供了一種降低OLED混色缺陷的方法，通過在基板和金屬精細掩膜板之間的間隔層設置為環(huán)狀，在蒸鍍過程中，可有效避免蒸鍍材料進入臨接像素的預設蒸鍍區(qū)進而減少混色情況的產(chǎn)生，提高了產(chǎn)生良率，同時工藝簡單，不需要額外增加設備及材料，保證了生產(chǎn)成本。
[0012]本發(fā)明采用的技術方案為:
[0013]一種OLED面板像素蒸鍍的方法，其中，
[0014]提供一具有多個預設蒸鍍區(qū)的基板，所述多個預設蒸鍍區(qū)對應OLED面板的多個像素，且臨近所述預設蒸鍍區(qū)的基板上還設置有間隔層，所述間隔層包圍所述預設蒸鍍區(qū)；
[0015]采用蒸鍍工藝于所述預設蒸鍍區(qū)形成像素薄膜；
[0016]其中，所述像素薄膜覆蓋在位于所述間隔層所包圍區(qū)域中基板的表面。
[0017]上述的方法，其中，所述間隔層包圍區(qū)域包含所述預設蒸鍍區(qū)以及部分非預設蒸鍍區(qū)。
[0018]上述的方法，其中，在進行蒸鍍工藝時，提供一具有開口的掩膜板，并將所述掩膜板的開口對準所述預設蒸鍍區(qū)，在所述預設蒸鍍區(qū)域中形成像素薄膜；
[0019]在蒸鍍過程中，所述間隔層阻擋蒸鍍材料進入間隔層包圍區(qū)域以外之處。
[0020]上述的方法，其中，所述掩膜板為金屬精細掩膜板。
[0021]上述的方法，其中，所述金屬精細掩膜板為因瓦合金。
[0022]上述的方法，其中，所述間隔層的上下兩端分別接觸所述掩膜板及所述基板。
[0023]上述的方法，其中，所述掩膜板的所述開口呈喇叭狀，且靠近所述基板的開口尺寸小于另一端開口尺寸。
[0024]上述的方法，其中，采用以下步驟制備形成所述間隔層:
[0025]提供一基板，于所述基板表面涂布一層有機物，曝光顯影后，在所述基板上形成間隔層，所述間隔層將所述預設蒸鍍區(qū)予以包圍。
[0026]上述的方法，其中，所述有機物為光致抗蝕劑。
[0027]上述的方法，其中，采用一具有環(huán)狀圖案的遮光罩進行曝光工藝。
[0028]上述的方法，其中，所述基板為玻璃基板。
[0029]同時本發(fā)明還提供了一種OLED顯示面板，其中，包含多個OLED像素，位于一基板之上，所述每個OLED像素包含OLED材料蒸鍍于所述基板上，鄰近所述OLED材料包含一間隔層；
[0030]其中，所述間隔層將所述OLED材料予以包圍。
[0031]上述的顯示面板，其中，所述間隔層為環(huán)形。
[0032]由于本發(fā)明采用了以上技術方案可帶來以下技術效果:
[0033]①在蒸鍍過程中避免蒸鍍材料進入到非蒸鍍區(qū)，避免混色情況的產(chǎn)生，提高了OLED器件的良率；
[0034]②完全兼容于現(xiàn)有技術中的蒸鍍工藝，無需增添額外的設備及材料，通過采用具有環(huán)狀圖案的遮光罩進行曝光并顯影后即可制備出環(huán)狀的間隔層，工藝簡單。
【附圖說明】
[0035]通過閱讀參照以下附圖對非限制性實施例所作的詳細描述，本發(fā)明及其特征、夕卜形和優(yōu)點將會變得更明顯。在全部附圖中相同的標記指示相同的部分。并未刻意按照比例繪制附圖，重點在于示出本發(fā)明的主旨。
[0036]圖1為現(xiàn)有技術中進行蒸鍍工藝時的截面圖；
[0037]圖2為本發(fā)明進行蒸鍍工藝時的截面圖；
[0038]圖3為本發(fā)明進行蒸鍍工藝時俯視圖；
[0039]圖4-7為本發(fā)明制備間隔層的流程圖；
[0040]圖8為本發(fā)明之OLED間隔層示意圖。
【具體實施方式】
[0041]下面結合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步的說明:
[0042]本發(fā)明提供了一種降低OLED混色缺陷的方法，應用于OLED蒸鍍工藝中，結合圖2和圖3所TK，