顯示基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，顯示裝置逐漸向超窄邊框化的方向發(fā)展，因此相對于傳統(tǒng)的彩膜基板設(shè)置在外側(cè)而陣列基板貼著背光設(shè)置的顯示裝置，現(xiàn)有的顯示裝置逐漸向陣列基板設(shè)置在外側(cè)而彩膜基板貼著背光設(shè)置的方向發(fā)展。由于陣列基板設(shè)置在外側(cè)，而且陣列基板的柵極金屬線對外界光具有很強(qiáng)的發(fā)射作用，因此影響了顯示效果。
[0003]為了解決上述問題，現(xiàn)有技術(shù)完成對顯示面板的制作之后，再對陣列基板的外表面進(jìn)行防反射處理，例如，增加玻璃粗糙度或者貼附防反射膜，但是上述防反射處理的防反射效果不佳，而且提高了生產(chǎn)成本。另外，現(xiàn)有技術(shù)在陣列基板的制備過程之中，形成柵極之前增加一層防反射膜，所述防反射膜的厚度達(dá)到150nm以上，而且所述防反射膜的反射率只有20%左右。另外，所述防反射膜的厚度過大使得顯示面板的顯示區(qū)域的平坦度降低，導(dǎo)致cell工藝之中PI涂覆不良。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為解決上述問題，本發(fā)明提供一種顯示基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置，用于解決現(xiàn)有的防反射處理的防反射效果差，而且防反射膜的厚度過大使得顯示面板的顯示區(qū)域的平坦度低，導(dǎo)致PI涂覆不良的問題。
[0005]為此，本發(fā)明提供一種顯示基板，包括襯底基板，所述襯底基板上設(shè)置有至少兩層折射層，在所述折射層上設(shè)置有柵極；
[0006]相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層的厚度為ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，n為非負(fù)整數(shù)。
[0007]可選的，所述折射層的數(shù)量為兩層，兩層所述折射層分別為靠近襯底基板的第一折射層以及遠(yuǎn)離襯底基板的第二折射層。
[0008]可選的，所述第一折射層的構(gòu)成材料包括氮化硅材料，所述第二折射層的構(gòu)成材料包括_ _晶娃材料。
[0009]可選的，所述第一折射層的厚度范圍包括50nm至60nm，所述第二折射層的厚度范圍包括25nm至35nm或者55nm至65nm。
[00?0]可選的，所述第一折射層的厚度為55nm，所述第二折射層的厚度為30nm或者60nmo[0011 ]可選的，所述第一折射層的折射率范圍包括1.8至2.2，所述第二折射層的折射率范圍包括4.0至4.8。
[0012]可選的，所述第一折射層的折射率為2.0，所述第二折射層的折射率范圍包括4.4。
[0013]本發(fā)明提供一種顯示面板，包括上述任一顯示基板。
[0014]本發(fā)明提供一種顯示裝置，包括上述顯示面板。
[0015]本發(fā)明提供一種顯不基板的制備方法，包括:
[0016]在襯底基板上形成至少兩層折射層，相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層的厚度為ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，η為非負(fù)整數(shù)；
[0017]在所述折射層上形成柵極。
[0018]可選的，所述在襯底基板上形成至少兩層折射層的步驟包括:
[0019]在襯底基板上形成第一折射層；
[0020]在所述第一折射層上形成第二折射層。
[0021]可選的，所述第一折射層的構(gòu)成材料包括氮化硅材料，所述第二折射層的構(gòu)成材料包括_ _晶娃材料。
[0022]可選的，所述在所述第一折射層上形成第二折射層的步驟包括:
[0023]在所述第一折射層上形成第二折射層薄膜；
[0024]在所述折射層上形成柵極的步驟包括:
[0025]在所述第二折射層薄膜上形成柵金屬薄膜；
[0026]對所述第二折射層薄膜和柵金屬薄膜進(jìn)行刻蝕以形成第二折射層和柵極，所述第二折射層位于所述柵極的正下方。
[0027]本發(fā)明具有下述有益效果:
[0028]本發(fā)明提供的顯示基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置之中，所述顯示基板包括襯底基板，所述襯底基板上設(shè)置有至少兩層折射層，在所述折射層上設(shè)置有柵極，相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層的厚度為ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，η為非負(fù)整數(shù)。本發(fā)明在形成柵極金屬之前，首先在襯底基板上形成至少兩層折射層，相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層具有特定厚度以形成矢量相反的反射光，上述反射光相互疊加，從而產(chǎn)生光抵消作用。本發(fā)明提供的技術(shù)方案根據(jù)半波損失理論，利用多層折射層的消光作用以及不同折射層具有的不同折射率產(chǎn)生的全反射，最大程度的減弱了柵極金屬的反光強(qiáng)度，提高了顯示效果。
【附圖說明】
[0029]圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖2為本發(fā)明實(shí)施例一提供的半波損失的原理圖；
[0031]圖3為本發(fā)明實(shí)施例四提供的一種顯示基板的制備方法。
【具體實(shí)施方式】
[0032]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對本發(fā)明提供的顯示基板及其制備方法、顯示面板和顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0033]實(shí)施例一
[0034]圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，所述顯示基板包括襯底基板101，所述襯底基板101上設(shè)置有至少兩層折射層，在所述折射層上設(shè)置有柵極104。相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板101的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板101的折射層的折射率，所述折射層的厚度為ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，n為非負(fù)整數(shù)。
[0035]本實(shí)施例中，所述折射層的數(shù)量為兩層，兩層所述折射層分別為靠近襯底基板的第一折射層102以及遠(yuǎn)離襯底基板的第二折射層。103。第一折射層102的折射率小于第二折射層103的折射率，所述折射層具有特定厚度以形成矢量相反的反射光，上述反射光相互疊加，從而產(chǎn)生光抵消作用。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案根據(jù)半波損失理論，利用多層折射層的消光作用以及不同折射層具有的不同折射率產(chǎn)生的全反射，最大程度的減弱了柵極金屬的反光強(qiáng)度，提高了顯示效果。
[0036]當(dāng)光從光疏介質(zhì)射向光密介質(zhì)而在界面上反射，而且入射角接近于零度(正入射)或者90° (掠射)時(shí)，反射光要產(chǎn)生數(shù)值為π的相位突變，這表示在入射點(diǎn)的入射光與反射光的相位相差了I由于數(shù)值為η的相位差相當(dāng)于半個(gè)波長的光程，因此將這種現(xiàn)象稱為半波損失。圖2為本發(fā)明實(shí)施例一提供的半波損失的原理圖。如圖2所示，第一折射層102的折射率為nl，第二折射層103的折射率為η2，其中nl小于η2。光束R入射到第一界面301和第二界面302，在第一界面301形成的反射光為Rl，在第二界面302形成的反射光為R2。此時(shí)，入射光的入射角i為零度。當(dāng)然，入射角為90°也可以發(fā)生半波損失，但是這種情況不在本實(shí)施例的討論范圍之內(nèi)。
[0037]參見圖2，將折射層的厚度設(shè)置為(1= ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，n為非負(fù)整數(shù)。此時(shí)，反射光Rl與反射光R2之間的光程差為AB+BC，即反射光Rl與反射光R2之間的光程差為2d，因此反射光Rl與反射光R2之間的光程差為2ηλ+λ/2，相當(dāng)于半個(gè)波長，發(fā)生了半波損失。圖2所示的光線上設(shè)置有箭頭，所述箭頭表示光的矢量方向，由于反射光Rl與反射光R2具有相反的矢量方向，因此反射光Rl與反射光R2相互疊加，從而產(chǎn)生抵消作用。光線在第一折射層102與第二折射層103形成的第一界面301以及第二折射層103與襯底基板101形成的第二界面302都能夠產(chǎn)生光的抵消作用，從而減弱了柵極金屬的反光強(qiáng)度。另外，部分光線也可以在第一界面301發(fā)生全反射，從而最大程度的減弱了柵極金屬的反光強(qiáng)度，提高了顯示效果O
[0038]本實(shí)施例中，所述第一折射層102的構(gòu)成材料包括氮化硅材料，所述第二折射層103的構(gòu)成材料包括非晶娃材料?？蛇x的，所述第一折射層的厚度范圍包括50nm至60nm，所述第二折射層的厚度范圍包括25nm至35nm或者55nm至65nm。優(yōu)選的，所述第一折射層的厚度為55nm，所述第二折射層的厚度為30nm或者60nm?？蛇x的，所述第一折射層的折射率范圍包括1.8至2.2，所述第二折射層的折射率范圍包括4.0至4.8。優(yōu)選的，所述第一折射層的折射率為2.0，所述第二折射層的折射率范圍包括4.4。
[0039]參見圖1，在所述柵極104上設(shè)置有柵絕緣層105，在所述柵絕緣層105上設(shè)置有有源層106，在所述有源層106上設(shè)置有源極107和漏極108，在所述有源極107和所述漏極108上設(shè)置有鈍化層109，所述鈍化層109上設(shè)置有像素電極201，所述鈍化層109上設(shè)置有過孔202，所述像素電極201通過所述過孔202與所述漏極108連接。由于第一折射層102、柵絕緣層105以及鈍化層109的構(gòu)成材料均為氮化硅材料，因此形成柵絕緣層105和鈍化層109時(shí)可以適當(dāng)減少膜厚，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間，降低生產(chǎn)成本。
[0040]本實(shí)施例提供的顯示基板襯底基板，所述襯底基板上設(shè)置有至少兩層折射層，在所述折射層上設(shè)置有柵極，相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層的厚度為ηλ+λ/4，λ為入射光的波長，n為非負(fù)整數(shù)。本實(shí)施例在形成柵極金屬之前，首先在襯底基板上形成至少兩層折射層，相鄰兩個(gè)折射層之中靠近襯底基板的折射層的折射率小于遠(yuǎn)離襯底基板的折射層的折射率，所述折射層具有特定厚度以形成矢量相反的反射光，上述反射光相互疊加，從而產(chǎn)生光抵消作用。本實(shí)施例提供的技術(shù)方案根據(jù)半波損失理論，利用多層折射層的消光作用以及不同折射層具有的不同折射率產(chǎn)生的全反射，最大程度的減弱了柵