有機(jī)發(fā)光顯示裝置及制造方法
【專利摘要】一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置，包括：TFT基板；陽極層，形成于TFT基板上，陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)；黑色光阻層，形成于TFT基板上，且填充于陽極分隔區(qū)內(nèi)，黑色光阻層的厚度大于陽極層；有機(jī)發(fā)光層，形成于陽極層及黑色光阻層上；陰極層，形成于有機(jī)發(fā)光層上；彩色濾光層，包括形成于陰極層上，彩色濾光層包括多個(gè)與陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元；封裝層，形成于彩色濾光層上。上述有機(jī)發(fā)光顯示裝置，通過直接在陰極層上形成彩色濾光層，可以減小發(fā)光單元與彩色濾光層的間距，以減少發(fā)光單元側(cè)面發(fā)光的損失，進(jìn)而減少混色現(xiàn)象，提高顯示效果。而且，還可以減少黑色矩陣的制作，可以減少成本，提高生產(chǎn)效率。
【專利說明】
有機(jī)發(fā)光顯示裝置及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置及制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)是一種利用有機(jī)半導(dǎo)體材料在電流的驅(qū)動(dòng)下發(fā)光來實(shí)現(xiàn)顯示的技術(shù)，相比傳統(tǒng)的液晶顯示(LCD)，0LED具有超輕薄、發(fā)光效率高、色彩豐富、低壓直流驅(qū)動(dòng)、不需要背光源、無視角限制、高反應(yīng)速率和溫度范圍寬等優(yōu)點(diǎn)。隨著平面顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，OLED已成為新一代顯示技術(shù)的主流。
[0003]為實(shí)現(xiàn)OLED顯示全彩化，一種方式是利用精密掩膜板(FMM)技術(shù)分別制備紅綠藍(lán)(RGB)三色的方法來實(shí)現(xiàn)；另一種方式是通過白光有機(jī)發(fā)光二極管(WOLED)和彩色濾光層(CF,Color Filter)的方式來實(shí)現(xiàn)。對(duì)于FMM技術(shù)實(shí)現(xiàn)OLED高分辨顯示難度很大并成本很高，而WOLED和CF層不需要精密的掩膜工藝就可以實(shí)現(xiàn)OLED高分辨率全彩顯示，難度相對(duì)較低，成本也不高。
[0004]目前，現(xiàn)有技術(shù)中，通過白光有機(jī)發(fā)光二極管(WOLED)和彩色濾光層(CF,ColorFilter)來實(shí)現(xiàn)全彩主要是利用制備有WOLED的TFT陣列基板和CF層貼合的方式;在進(jìn)行貼合時(shí)，WOLED與CF層存在一定的縫隙，且WOLED是自發(fā)光的光源，發(fā)光單元的光在側(cè)向到達(dá)CF層因縫隙的原因會(huì)漏光，進(jìn)而會(huì)造成顯示混色等現(xiàn)象，影響顯示的質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]基于此，針對(duì)上述問題，有必要提供一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置及制造方法，以降低混色現(xiàn)象，提高顯示效果，且可以較容易實(shí)現(xiàn)顯示的柔性化。
[0006]一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置，包括:
[0007]TFT 基板；
[0008]陽極層，形成于所述TFT基板上，所述陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)；
[0009]黑色光阻層，形成于所述TFT基板上，且填充于所述陽極分隔區(qū)內(nèi)，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層；
[0010]有機(jī)發(fā)光層，形成于所述陽極層及所述黑色光阻層上；
[0011 ]陰極層，形成于所述有機(jī)發(fā)光層上；
[0012]彩色濾光層，包括形成于所述陰極層上，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元；
[0013]封裝層，形成于所述彩色濾光層上。
[0014]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括形成于所述陰極層與所述彩色濾光層之間的隔離層。
[0015]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述隔離層的厚度為5?2000nm。
[0016]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述黑色光阻層的厚度為6?12μπι。
[0017]在其中一個(gè)實(shí)施例中，還包括形成于所述封裝層之上的平坦層，所述平坦層覆蓋所述封裝層。
[0018]一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，包括如下步驟:
[0019]提供一TFT基板；
[0020]在所述TFT基板上形成陽極層，所述陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)；
[0021]在所述TFT基板的所述陽極分隔區(qū)內(nèi)填充形成黑色光阻層，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層的厚度；
[0022]在所述陽極層及所述黑色光阻層上形成有機(jī)發(fā)光層；
[0023]在所述有機(jī)發(fā)光層上形成陰極層；
[0024]在所述陰極層上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元；
[0025]在所述彩色濾光層上形成封裝層。
[0026]在其中一個(gè)實(shí)施例中，在所述陰極層上形成所述彩色濾光層，具體包括:
[0027]在所述陰極層上形成隔離層；
[0028]在所述隔離層上形成彩色濾光層。
[0029]在其中一個(gè)實(shí)施例中，在所述彩色濾光層上形成所述封裝層之后，還包括:
[0030]在所述封裝層上形成平坦層。
[0031 ]在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述平坦層采用含有散射粒子的有機(jī)材料制成。
[0032]在其中一個(gè)實(shí)施例中，采用光刻構(gòu)圖工藝將所述陽極層分割成多個(gè)所述陽極塊。
[0033]上述有機(jī)發(fā)光顯示裝置，通過直接在陰極層上形成彩色濾光層，可以減小發(fā)光單元與彩色濾光層的間距，以減少發(fā)光單元側(cè)面發(fā)光的損失，進(jìn)而減少混色現(xiàn)象，提高顯示效果。而且，與傳統(tǒng)工藝相比，還可以減少黑色矩陣的制作，可以減少成本，提高生產(chǎn)效率，且可以較容易實(shí)現(xiàn)顯示的柔性化。
【附圖說明】
[0034]圖1為本發(fā)明一實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖2A?21為本發(fā)明一實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示裝置在制造過程中各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖
【具體實(shí)施方式】
[0036]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】做詳細(xì)的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似改進(jìn)，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施的限制。
[0037]需要說明的是，當(dāng)元件被稱為“固定于”或“設(shè)置于”另一個(gè)元件，它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件，它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。本文所使用的術(shù)語“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實(shí)施方式。
[0038]除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本發(fā)明的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本發(fā)明的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施方式的目的，不是旨在于限制本發(fā)明。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。
[0039]本發(fā)明提供一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其包括:TFT基板；陽極層，形成于所述TFT基板上，所述陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)；黑色光阻層，形成于所述TFT基板上，且填充于所述陽極分隔區(qū)內(nèi)，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層;有機(jī)發(fā)光層，形成于所述陽極層及所述黑色光阻層上；陰極層，形成于所述有機(jī)發(fā)光層上;彩色濾光層，包括形成于所述陰極層上，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元;封裝層，形成于所述彩色濾光層上。
[0040]請(qǐng)參閱圖1，其為本發(fā)明一實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示裝置10的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0041 ] 有機(jī)發(fā)光顯示裝置10包括:TFT基板100、陽極層200、黑色光阻層300、有機(jī)發(fā)光層400、陰極層500、隔離層600、彩色濾光層700、封裝層800及平坦層900。
[0042]具體的，陽極層200形成于TFT基板100上，陽極層200包括多個(gè)與子像素對(duì)應(yīng)的陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)。即，每一子像素區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置一陽極塊，相鄰陽極塊之間斷開設(shè)置。具體到本實(shí)施例，所述陽極層200采用高反射材料制成。例如，陽極層200的材料為氧化銦錫。又如，陽極層200的厚度為100?300nm。又如，陽極層200的厚度為200nmo
[0043]具體的，所述黑色光阻層300形成于TFT基板100上，且填充于所述陽極分隔區(qū)內(nèi)，即，所述黑色光阻層300呈連續(xù)的網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)，陽極塊填充于網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)中。更具體的，所述黑色光阻層300的厚度遠(yuǎn)大于陽極層200的厚度。例如，所述黑色光阻層300的厚度為8?12μm。又如，所述黑色光阻層300的厚度為ΙΟμπι。又如，所述黑色光阻層300的橫截面呈蘑菇狀，且至少部分覆蓋所述陽極塊的邊緣。
[0044]具體到本實(shí)施例中，所述黑色光阻層300的材料為分散有炭黑或者有機(jī)黑色顏料的光刻膠，利用光刻技術(shù)制備出網(wǎng)格狀的陣列。
[0045]具體的，所述有機(jī)發(fā)光層400形成于所述陽極層200及所述黑色光阻層300上。例如，所述有機(jī)發(fā)光層400覆蓋所述陽極層200及所述黑色光阻層300。又如，所述有機(jī)發(fā)光層400的材料為白色發(fā)光材料，即，材料在電壓驅(qū)動(dòng)下發(fā)白光。又如，有機(jī)發(fā)光層400的厚度為500nmo
[0046]具體的，所述陰極層500形成于所述有機(jī)發(fā)光材料層400上。例如，所述陰極層500由透明導(dǎo)電材料制成。又如，所述陰極層500的透過率為75?85%，折射率為1.5?15。又如，所述陰極層500的厚度為200nmo
[0047]可以理解，每一陽極塊與其上方的有機(jī)發(fā)光層及陰極層可構(gòu)成一個(gè)發(fā)光單元，在本實(shí)施例中，發(fā)光單元為白色發(fā)光單元，即，白光OLED。
[0048]具體的，所述隔離層600形成于所述陰極層500上。隔離層600覆蓋所述陰極層500。例如，所述隔離層500用于阻隔水氧。又如，所述隔離層600為無機(jī)薄膜，所述隔離層采用由PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)或ALD(原子層沉積)方法制備得到的單層薄膜，例如，采用PECVD方法制備，制備所述隔離層600的材料為氮化硅(SiNx)、二氧化硅(S1x)、碳化硅(SiC)、碳氧化硅(S1C)、氮氧化硅(S1N)中的一種，其厚度在0.Ιμπι?2μπι之間；采用ALD方法制備，制備所述隔離層600的材料為二氧化硅(S1x)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鋯(ZrOx)中的一種，厚度在5nm?10nm之間。通過設(shè)置隔離層600，可以避免有機(jī)發(fā)光層300受潮或氧化。
[0049]具體的，所述彩色濾光層700形成于所述隔離層600上。所述彩色濾光層700包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元?？梢岳斫猓捎诤谏庾鑼?00的厚度大于所述陽極層200的厚度，黑色光阻層300與陽極層200之間會(huì)形成凹槽，在本實(shí)施例中，彩色濾光層700填充于所述凹槽內(nèi)，這樣，與現(xiàn)有工藝相比，可以減少黑色矩陣的制作，降低成本，提高生產(chǎn)效率。具體的，所述彩色濾光單元包括同層設(shè)置的紅色濾光單元、綠色濾光單元、藍(lán)色濾光單元及白色濾光單元。
[0050]具體的，所述封裝層800形成于所述彩色濾光層700上。所述封裝層800覆蓋所述彩色濾光層700及隔離層600。更具體的，所述封裝層800為無機(jī)薄膜，所述封裝層800為采用PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)或ALD(原子層沉積)方法制備得到的單層薄膜，例如，采用PECVD方法制備，制備所述封裝層800的材料為氮化硅(SiNx)、二氧化硅(S1x)、碳化硅(SiC)、碳氧化硅(S1C)、氮氧化硅(S1N)中的一種，其厚度在0.Ιμπι?2μπι之間；采用ALD方法制備，制備所述封裝層800的材料為二氧化硅(S1x)、氧化鋁(Al2O3)、氧化鋯(ZrOx)中的一種，厚度在5nm?10nm之間。例如，所述封裝層800的材料與所述隔離層600的材料相同，且厚度相同。
[0051]具體的，所述平坦層900形成于所述封裝層800上，所述平坦層900覆蓋所述封裝層800 ο具體的，所述平坦層900的材料為含有散射粒子的有機(jī)材料。例如，所述平坦層900為含有對(duì)可見光具有散射作用的紫外可固化材料。又如，所述平坦層900的厚度為3?6μπι，散射粒子的粒徑為300?800nm，散射粒子的含量為0.3 %?15 %。通過設(shè)置平坦層900，不僅能對(duì)彩色濾光層700進(jìn)行保護(hù)，而且可以改善發(fā)光視角，以提高顯示效果。
[0052]上述有機(jī)發(fā)光顯示裝置10，通過直接在陰極層500上形成彩色濾光層700，可以減小發(fā)光單元與彩色濾光層的間距，以減少發(fā)光單元側(cè)面發(fā)光的損失，進(jìn)而減少混色現(xiàn)象，提高顯示效果。而且，與傳統(tǒng)工藝相比，還可以減少黑色矩陣的制作，可以減少成本，提高生產(chǎn)效率。
[0053]進(jìn)一步的，本發(fā)明還提供一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，包括如下步驟:提供一 TFT基板;在所述TFT基板上形成陽極層，所述陽極層包括多個(gè)與子像素對(duì)應(yīng)的陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間的陽極分隔區(qū)；在所述TFT基板的所述陽極分隔區(qū)內(nèi)形成黑色光阻層，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層的厚度;在所述陽極層及所述黑色光阻層上形成有機(jī)發(fā)光層;在所述有機(jī)發(fā)光層上形成陰極層;在所述陰極層上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元;在所述彩色濾光層上形成封裝層。
[0054]請(qǐng)參閱圖2A?21，其為本發(fā)明一實(shí)施例的有機(jī)發(fā)光顯示裝置在制造過程中各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0055]有機(jī)顯示發(fā)光裝置的制造方法，包括如下步驟:
[0056]S110、提供一TFT基板100，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2A。
[0057]例如，所述TFT基板100包括基底110及設(shè)置于所述基底上的TFT層120。又如，所述基底為玻璃或者柔性有機(jī)薄膜如PET、PEN、P1、Si系列或Acryl系材料。
[0058]S120、在所述TFT基板100上形成陽極層200，所述陽極層200包括多個(gè)與子像素對(duì)應(yīng)的陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2B。
[0059]具體的，在所述TFT基板100沉積陽極層200，再通過光刻構(gòu)圖工藝將所述陽極層分割成多個(gè)相互斷開的陽極塊，每一陽極塊對(duì)應(yīng)一子像素區(qū)域。例如，先在所述陽極層200上涂覆一層光刻膠，再通過掩膜工藝對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影，然后對(duì)所述陽極層200進(jìn)行刻蝕，以將陽極層分割成多個(gè)陽極塊，最后脫去光刻膠層。例如，沉積的陽極層200的厚度為200nm，陽極層200采用高反射材料制成。
[0060]S130、在所述TFT基板100的所述陽極分隔區(qū)內(nèi)形成黑色光阻層300，所述黑色光阻層300的厚度大于所述陽極層200的厚度，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2C。
[0061]具體的，在所述TFT基板100上涂覆一層黑色絕緣光刻膠層，所述黑色絕緣光刻膠層覆蓋所述陽極層200，并通過光刻技術(shù)，對(duì)所述黑色絕緣光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影及刻蝕，以形成網(wǎng)格狀陣列，并使黑色絕緣光刻膠層覆蓋所述陽極分隔區(qū)，得到所述黑色光阻層300。例如，黑色絕緣光刻膠層為分散有炭黑或者有機(jī)黑色顏料的光刻膠層，以提高對(duì)光的吸收能力。
[0062]例如，所述黑色光阻層300的厚度為6?12μπι。又如，所述黑色光阻層300的厚度為ΙΟμπι。當(dāng)然，黑色光阻層300的厚度也可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整。優(yōu)選的，黑色光阻層300的厚度遠(yuǎn)大于所述陽極層200的厚度。例如，黑色光阻層300的厚度為所述陽極層200的厚度的50倍，以實(shí)現(xiàn)黑色光阻層300與陽極層200之間具有較大的高度差，避免后期需要再制備黑色光阻層，減少工藝步驟，提高生產(chǎn)效率。
[0063]S140、在所述陽極層200及所述黑色光阻層300上形成有機(jī)發(fā)光層400，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2D。
[0064]具體的，在所述陽極層200及所述黑色光阻層300上沉積有機(jī)發(fā)光層400，以使所述有機(jī)發(fā)光層400覆蓋所述陽極層200及所述黑色光阻層300。例如，所述有機(jī)發(fā)光層400的材料為白色發(fā)光材料，即，材料在電壓驅(qū)動(dòng)下發(fā)白光。又如，有機(jī)發(fā)光層400的厚度為400nm。
[0065]S150、在所述有機(jī)發(fā)光層400上形成陰極層500，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2E。
[0066]具體的，在所述有機(jī)發(fā)光層400上沉積陰極層500。例如，所述陰極層500由透明導(dǎo)電材料制成。又如，所述陰極層500的透過率為75?85%，折射率為1.5?15。又如，所述陰極層500的厚度為10nm0
[0067]S160、在所述陰極層500上形成隔離層600，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2F。
[0068]具體的，通過PECVD或ALD方法在所述陰極層500上形成隔離層600。例如，所述隔離層600為無機(jī)單層薄膜。例如，采用PECVD方法制備，制備所述隔離層600的材料為氮化硅(SiNx)、二氧化硅(S1x)、碳化硅(SiC)、碳氧化硅(S1C)、氮氧化硅(S1N)中的一種，其厚度在0.Ιμπι?2μπι之間；采用ALD方法制備，制備所述隔離層600的材料為二氧化硅(S1x)、氧化招(ΑΙ2Ο3)、氧化錯(cuò)(ZrOx)中的一種，厚度在5nm?I OOnm之間。
[0069]需要說明的是，為了避免對(duì)陰極層500造成損傷，陰極層500與隔離層600之間還設(shè)置有保護(hù)層，即，先在陰極層500上形成一層保護(hù)層，再在保護(hù)層上形成隔離層600。例如，保護(hù)層為樹脂層，又如，在陰極層500上涂覆一層樹脂層，又如，樹脂層的厚度為0.1?2μπι，以避免沉積過程中對(duì)陰極層500造成損傷。
[0070]S170、在所述隔離層600上形成彩色濾光層700，所述彩色濾光層700包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2G。
[0071]可以理解，由于黑色光阻層300的厚度遠(yuǎn)大于所述陽極層200的厚度，黑色光阻層300與陽極層200之間會(huì)形成凹槽，在本實(shí)施例中，彩色濾光層700填充于所述凹槽內(nèi)，這樣，與現(xiàn)有工藝相比，可以減少黑色矩陣的制作，降低成本，提高生產(chǎn)效率。具體的，所述彩色濾光單元包括同層設(shè)置的紅色濾光單元、綠色濾光單元、藍(lán)色濾光單元及白色濾光單元。
[0072]具體的，在所述隔離層上形成在所述隔離層600上涂覆彩色樹脂，通過掩膜板對(duì)彩色樹脂進(jìn)行曝光、顯影及固化，以形成彩色濾光單元。例如，在隔離層600上涂覆紅色樹脂，利用對(duì)位系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)精確曝光、顯影及固化后形成紅色濾光單元，然后在隔離層600上涂覆綠色樹脂，曝光、顯影及固化后形成綠色濾光單元，然后依次形成藍(lán)色濾光單元、白色濾光單元。優(yōu)選的，所述彩色濾光單元正好填平所述黑色光阻層300與所述陽極層200之間的高度差。
[0073]S180、在所述彩色濾光層700上形成封裝層800，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖2H。
[0074]具體的，所述封裝層800為無機(jī)單層薄膜，所述封裝層800采用PECVD(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)或ALD(原子層沉積)方法制備得到，例如，采用PECVD方法制備，制備所述封裝層800的材料為氮化娃(SiNx)、二氧化娃(S1x)、碳化娃(SiC)、碳氧化娃(S1C)、氮氧化硅(S1N)中的一種，其厚度在0.Ιμπι?2μπι之間；采用ALD方法制備，制備所述封裝層800的材料為二氧化娃(S1x)、氧化招(ΑΙ2Ο3)、氧化錯(cuò)(ZrOx)中的一種，厚度在5nm?10nm之間。例如，所述封裝層800的材料與所述隔離層600的材料相同，且厚度相同。通過設(shè)置封裝層800，可以避免彩色濾光層700吸水而影響顯示效果。
[0075]S190、在所述封裝層800上形成平坦層900，其完成后的截面圖請(qǐng)參閱圖21。
[0076]例如，采用涂層技術(shù)或噴墨打印技術(shù)在所述封裝層800上形成平坦層900。具體的，所述平坦層900的材料為含有散射粒子的有機(jī)材料。例如，所述平坦層900為含有對(duì)可見光具有散射作用的納米粒子的紫外可固化材料。又如，散射粒子的粒徑為300?800nm。又如，所述平坦層900的厚度為3?6μπι。又如，散射粒子的含量為0.3%?15%，可以提高平坦層900對(duì)光的散熱，改善顯示裝置的發(fā)光視角，同時(shí)還可以保證平坦層900的平整度，改善顯示裝置的高度差。通過設(shè)置平坦層900，不僅能對(duì)彩色濾光層700進(jìn)行保護(hù)，而且可以改善發(fā)光視角，以提高顯示效果。
[0077]上述有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制備方法，通過直接在陰極層500上形成彩色濾光層700，可以減小發(fā)光單元與彩色濾光層的間距，以減少發(fā)光單元側(cè)面發(fā)光的損失，進(jìn)而減少混色現(xiàn)象，提高顯示效果。而且，與傳統(tǒng)工藝相比，還可以減少黑色矩陣的制作，可以減少成本，提高生產(chǎn)效率，且可以較容易實(shí)現(xiàn)顯示的柔性化。
[0078]此外，在所述TFT基板上首先制備陽極層200，再制備黑色光阻層300，可以避免在黑色光阻層300上殘留陽極層200而造成顯示串聯(lián)，提高了有機(jī)發(fā)光顯示裝置的生產(chǎn)良率。
[0079]以上所述實(shí)施例的各技術(shù)特征可以進(jìn)行任意的組合，為使描述簡(jiǎn)潔，未對(duì)上述實(shí)施例中的各個(gè)技術(shù)特征所有可能的組合都進(jìn)行描述，然而，只要這些技術(shù)特征的組合不存在矛盾，都應(yīng)當(dāng)認(rèn)為是本說明書記載的范圍。
[0080]以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，包括: TFT基板； 陽極層，形成于所述TFT基板上，所述陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)； 黑色光阻層，形成于所述TFT基板上，且填充于所述陽極分隔區(qū)內(nèi)，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層； 有機(jī)發(fā)光層，形成于所述陽極層及所述黑色光阻層上； 陰極層，形成于所述有機(jī)發(fā)光層上； 彩色濾光層，包括形成于所述陰極層上，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元； 封裝層，形成于所述彩色濾光層上。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，還包括形成于所述陰極層與所述彩色濾光層之間的隔離層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，所述隔離層的厚度為5?2000nm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，所述黑色光阻層的厚度為6?12μπι05.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置，其特征在于，還包括形成于所述封裝層之上的平坦層，所述平坦層覆蓋所述封裝層。6.—種有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括如下步驟: 提供一 TFT基板； 在所述TFT基板上形成陽極層，所述陽極層包括與多個(gè)子像素對(duì)應(yīng)的多個(gè)陽極塊及多個(gè)所述陽極塊之間形成的陽極分隔區(qū)； 在所述TFT基板的所述陽極分隔區(qū)內(nèi)填充形成黑色光阻層，所述黑色光阻層的厚度大于所述陽極層的厚度； 在所述陽極層及所述黑色光阻層上形成有機(jī)發(fā)光層； 在所述有機(jī)發(fā)光層上形成陰極層； 在所述陰極層上形成彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多個(gè)與所述陽極塊對(duì)應(yīng)的彩色濾光單元； 在所述彩色濾光層上形成封裝層。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述陰極層上形成所述彩色濾光層，具體包括: 在所述陰極層上形成隔離層； 在所述隔離層上形成彩色濾光層。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，在所述彩色濾光層上形成所述封裝層之后，還包括: 在所述封裝層上形成平坦層。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述平坦層采用含有散射粒子的有機(jī)材料制成。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的制造方法，其特征在于，采用光刻構(gòu)圖工藝將所述陽極層分割成多個(gè)所述陽極塊。
【文檔編號(hào)】H01L27/32GK106098742SQ201610693330
【公開日】2016年11月9日
【申請(qǐng)日】2016年8月18日 公開號(hào)201610693330.2, CN 106098742 A, CN 106098742A, CN 201610693330, CN-A-106098742, CN106098742 A, CN106098742A, CN201610693330, CN201610693330.2
【發(fā)明人】柯賢軍, 夏存軍, 蘇君海, 李建華
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