電容浸液槽的制作方法
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型涉及電子元器件的加工設備，具體來說，涉及一種生產(chǎn)固態(tài)電容氧化劑含浸的浸液槽。
【背景技術(shù)】
[0002]固態(tài)電容關鍵一道工序為氧化劑含浸，氧化劑通常為對甲苯磺鐵溶解在正丁醇或乙醇溶液中，這種溶液粘度較大，不易浸透電容的芯包，因此氧化劑含浸的質(zhì)量對電容的性能以及一致性在很大關系。故對芯包進行氧化劑含浸需要特殊的含浸設備，這些設備通常能實現(xiàn)產(chǎn)品的常壓下含浸，真空下含浸，必要時還要進行加壓含浸，現(xiàn)行的設備是制作一個槽體，氧化劑放入槽體中，含浸時產(chǎn)品入槽體中，若要進行真空含浸，則先將芯包脫離液面，真空抽到后再將芯包放入氧化劑中進行含浸。這種方法現(xiàn)在比較普遍使用，但存在明顯的缺陷，一是，因為芯包有一定的高度，且芯包之間間距較大，因此每次有較多的氧化劑放入槽中。在進行氧化劑含浸過程中一方面已含浸單體會擴散到氧化劑中對氧化劑造成污染，一方面芯包上的紙肩會進入氧化劑，使用氧化劑得以污染，使用一段時間后，被嚴重污染的氧化劑則要廢棄，因為被污染的量較多，廢棄量相對較大；另一個問題是在抽真空時，氧化劑中的氣泡會擴散出來，這種氣泡會產(chǎn)生大量泡沫，這種泡沫會堆積很高，超出芯包污染膠蓋與導針。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為解決以上技術(shù)問題，本實用提供新型固態(tài)電容氧化劑含浸槽。
[0004]技術(shù)方案如下:一種電容浸液槽，包括槽體(I )，其關鍵在于:所述槽體(I)內(nèi)放置有含浸板(2)，該含浸板(2)上分布有條形通孔(2a)，該條形通孔(2a)為上部開口大，下部小的漏斗形。
[0005]上述條形通孔(2a)沿含浸板(2)長度方向均勻分布，所述含浸板(2)下表面長度方向上開有兩條貫通左右兩端面的凹槽(2b)，所述凹槽(2b)將所有條形通孔(2a)連通。
[0006]上述條形通孔(2a)橫截面上部為梯形，下部為矩形。
[0007]有益效果:將含浸槽中加上含浸板好處是:一減少了含浸槽中液體的存量，使得廢棄量大大減少，另外，抽真空時氣體從氧化劑中逸出的氣泡受到含浸板的阻檔，不會形成太高，因而不會污染膠蓋或?qū)п?。同時還有一大好處是:芯包含浸完成后脫離液面時，由于受到含浸板槽的邊的摩擦作用，不會有過大的液滴存留于芯包。
【附圖說明】
[0008]圖1為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0009]圖2為圖1的A-A剖視圖；
[0010]圖3為圖1的B-B剖視圖；
[0011]圖4為圖2的局部放大圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合實施例和附圖對本實用新型作進一步說明。
[0013]如圖1、2、3、4所示，一種電容浸液槽，由槽體1、含浸板2組成，所述槽體I內(nèi)放置有含浸板2，該含浸板2上分布有條形通孔2a，該條形通孔2a為上部開口大，下部小的漏斗形。上述條形通孔2a沿含浸板2長度方向均勻分布，
[0014]所述含浸板2下表面長度方向上開有兩條貫通左右兩端面的凹槽2b，所述凹槽2b將所有條形通孔2a連通。上述條形通孔2a橫截面上部為梯形，下部為矩形。
[0015]最后需要說明的是，上述描述僅僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，本領域的普通技術(shù)人員在本實用新型的啟示下，在不違背本實用新型宗旨及權(quán)利要求的前提下，可以做出多種類似的表示，這樣的變換均落入本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種電容浸液槽，包括槽體(I)，其特征在于:所述槽體(I)內(nèi)放置有含浸板(2)，該含浸板(2)上分布有條形通孔(2a)，該條形通孔(2a)為上部開口大，下部小的漏斗形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述電容浸液槽，其特征在于:所述條形通孔(2a)沿含浸板(2)長度方向均勻分布，所述含浸板(2)下表面長度方向上開有兩條貫通左右兩端面的凹槽(2b)，所述凹槽(2b)將所有條形通孔(2a)連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述電容浸液槽，其特征在于:所述條形通孔(2a)橫截面上部為梯形，下部為矩形。
【專利摘要】一種電容浸液槽，包括槽體，所述槽體內(nèi)放置有含浸板，該含浸板上分布有條形通孔，該條形通孔為上部開口大，下部小的漏斗形。將含浸槽中加上含浸板好處是：一減少了含浸槽中液體的存量，使得廢棄量大大減少，另外，抽真空時氣體從氧化劑中逸出的氣泡受到含浸板的阻檔，不會形成太高，因而不會污染膠蓋或?qū)п?。同時還有一大好處是：芯包含浸完成后脫離液面時，由于受到含浸板槽的邊的摩擦作用，不會有過大的液滴存留于芯包。
【IPC分類】H01G13-04
【公開號】CN204464071
【申請?zhí)枴緾N201520047261
【發(fā)明人】屈發(fā)練, 屈長松, 張皓
【申請人】重慶市圖達電子科技有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年1月23日