一種半導(dǎo)體硅片清洗釜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體硅片清洗釜。
【背景技術(shù)】
[0002]目前所使用的半導(dǎo)體硅片清洗裝置清洗過(guò)程中需要使用大量純水，并添加有機(jī)溶劑，會(huì)造成環(huán)境污染、人身危害和水資源浪費(fèi)等嚴(yán)重問(wèn)題。
[0003]中國(guó)實(shí)用新型專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào):CN2489887Y)公開(kāi)了一種連續(xù)式超聲波清洗機(jī)，其存在清洗盲區(qū)，不能有效清洗微孔和狹縫，并且使用清洗劑還會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染；中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào):CN101740342A)公開(kāi)了一種綠色二氧化碳超臨界流體半導(dǎo)體清洗設(shè)備，主要是對(duì)半導(dǎo)體硅片清洗，但并未增加旋轉(zhuǎn)、振蕩等輔助清洗手段，最終實(shí)際清洗效果不理想；中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào):CN1990126A)公開(kāi)了一種超臨界二氧化碳清洗系統(tǒng)與方法，主要對(duì)晶圓或元件清洗，而結(jié)構(gòu)復(fù)雜，操作繁瑣，不宜于工業(yè)生產(chǎn)推廣；中國(guó)實(shí)用新型專(zhuān)利(公開(kāi)號(hào):CN201720215U)公開(kāi)了一種盲孔內(nèi)螺紋無(wú)肩清洗裝置，只是單一使用超聲波清洗。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，它具有操作簡(jiǎn)單、清洗效果好、清洗效率高等特點(diǎn)。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是:
[0006]一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，包括釜體及與釜體密封連接釜蓋，還包括插入釜體內(nèi)部的清洗管，清洗管外端設(shè)有截止閥，在截止閥與釜體之間的清洗管上連接超生波發(fā)生器，在釜體壁上均布硅片吸盤(pán)連通孔，在釜體的外壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的負(fù)壓連接通道，在釜體的內(nèi)壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的硅片吸盤(pán)，硅片吸盤(pán)包括一端與硅片吸盤(pán)連通孔連通的連接管，連接管的另一端連接均布吸附微孔的吸附板，還包括受閥門(mén)控制的釜體排氣口。
[0007]本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)在于:
[0008]釜體內(nèi)壁為豎立的圓筒形；釜蓋為圓形，位于釜體的正上方；清洗管由釜蓋的中心豎向插入藎體內(nèi)部，藎體排氣口位于藎蓋上。
[0009]釜體設(shè)有旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu):在釜體的外周設(shè)有與其同軸心的筒形外殼，筒形外殼的上端與釜體上部密封旋轉(zhuǎn)連接，負(fù)壓連接通道由釜體與外殼之間的環(huán)形間隙形成，在外殼的底部設(shè)有與負(fù)壓連接通道連通的吸氣孔，外殼的底部中心設(shè)有電機(jī)，電機(jī)的轉(zhuǎn)軸豎直向上通過(guò)外殼底部與釜體底部中心固定。
[0010]清洗管位于釜體內(nèi)部部分的外壁設(shè)有多個(gè)噴嘴。
[0011]在截止閥與釜體之間的清洗管上連接兩個(gè)超生波發(fā)生器。
[0012]采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于:
[0013]本實(shí)用新型中在釜體壁上均布硅片吸盤(pán)連通孔，在釜體的外壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的負(fù)壓連接通道，在釜體的內(nèi)壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的硅片吸盤(pán)，硅片吸盤(pán)包括一端與硅片吸盤(pán)連通孔連通的連接管，連接管的另一端連接均布吸附微孔的吸附板，根據(jù)半導(dǎo)體硅片只需對(duì)一面清潔度有嚴(yán)格要求的特點(diǎn)，通過(guò)負(fù)壓方式使硅片吸盤(pán)固定半導(dǎo)體硅片，使需要清潔的一面暴露在釜體內(nèi)清洗，改變了現(xiàn)有硅片裝夾方式，提高了生產(chǎn)效率，改善清洗效果。(現(xiàn)有的清洗釜設(shè)計(jì)較為簡(jiǎn)單、抽象，對(duì)硅片的裝夾方式一般是通過(guò)夾持元件來(lái)夾住硅片進(jìn)行清洗，這種機(jī)械夾緊，效率低下，操作繁瑣，且被夾持位置死區(qū)處往往殘留顆粒)。包括釜體及與釜體密封連接釜蓋，還包括插入釜體內(nèi)部的清洗管，清洗管外端設(shè)有截止閥，在截止閥與釜體之間的清洗管上連接超生波發(fā)生器，使釜體內(nèi)形成密閉空間，以便于清洗管注入超臨界二氧化碳，超臨界二氧化碳的微氣泡能在超聲波的作用下保持振動(dòng)，對(duì)半導(dǎo)體硅片進(jìn)行清洗，清洗效果好；還包括受閥門(mén)控制的釜體排氣口，通過(guò)快速泄壓，使含有污物的超臨界二氧化碳直接通過(guò)釜體排氣口快速排出，將雜質(zhì)混合液快速帶走，避免重新沉積到半導(dǎo)體硅片表面并產(chǎn)生空化作用，利于雜質(zhì)脫落，達(dá)到對(duì)半導(dǎo)體硅片較好的清洗效果。釜體設(shè)有旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu)，在電機(jī)的帶動(dòng)下使釜體旋轉(zhuǎn)，加強(qiáng)清洗效果。本實(shí)用新型具有操作簡(jiǎn)單、清洗效果好、清洗效率高等特點(diǎn)。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖2是圖1中硅片吸盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]在附圖中:1、釜體；2、釜蓋；3、清洗管；4、超生波發(fā)生器；5、硅片吸盤(pán)連通孔；6、硅片吸盤(pán)；7、釜體排氣口 ；8、外殼；9、負(fù)壓連接通道；10、吸氣孔；11、電機(jī)；12、轉(zhuǎn)軸；13、噴嘴；14、半導(dǎo)體娃片。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面將結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0018]由圖1-2所示的實(shí)施例可知，本實(shí)施例包括釜體I及與釜體I密封連接釜蓋2，還包括插入釜體I內(nèi)部的清洗管3，清洗管3外端設(shè)有截止閥，在截止閥與釜體I之間的清洗管3上連接超生波發(fā)生器4，在釜體I壁上均布硅片吸盤(pán)連通孔5，在釜體I的外壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的負(fù)壓連接通道9，在釜體I的內(nèi)壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔5連通的硅片吸盤(pán)6，硅片吸盤(pán)6包括一端與硅片吸盤(pán)連通孔5連通的連接管6-1，連接管6-1的另一端連接均布吸附微孔6-2的吸附板6-3，還包括受閥門(mén)控制的釜體排氣口 7。
[0019]釜體I內(nèi)壁為豎立的圓筒形；釜蓋2為圓形，位于釜體I的正上方；清洗管3由釜蓋2的中心豎向插入釜體I內(nèi)部，釜體排氣口 7位于釜蓋2上。
[0020]釜體I設(shè)有旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu):在釜體I的外周設(shè)有與其同軸心的筒形外殼8，筒形外殼8的上端與釜體I上部密封旋轉(zhuǎn)連接，負(fù)壓連接通道9由釜體I與外殼8之間的環(huán)形間隙形成，在外殼8的底部設(shè)有與負(fù)壓連接通道9連通的吸氣孔10，外殼8的底部中心設(shè)有電機(jī)11，電機(jī)11的轉(zhuǎn)軸12豎直向上通過(guò)外殼8底部與釜體I底部中心固定。
[0021]清洗管3位于釜體I內(nèi)部部分的外壁設(shè)有多個(gè)噴嘴13。
[0022]在截止閥與釜體I之間的清洗管3上連接兩個(gè)超生波發(fā)生器4。
[0023]使用方法及工作原理
[0024]使用時(shí)將吸氣孔10與負(fù)壓設(shè)備連接，硅片吸盤(pán)內(nèi)部形成負(fù)壓，將待清洗的半導(dǎo)體硅片在負(fù)壓的作用下吸附到硅片吸盤(pán)6上，將清洗管3通過(guò)外端的截止閥與超臨界二氧化碳連通；關(guān)閉釜蓋2，關(guān)閉釜體排氣口 7上的閥門(mén)，使釜體I內(nèi)腔形成密閉空間；啟動(dòng)超生波發(fā)生器4，使超臨界二氧化碳通過(guò)清洗管3注入釜體I內(nèi)腔，超臨界二氧化碳的微氣泡能在超聲波的作用下保持振動(dòng)，對(duì)半導(dǎo)體硅片14進(jìn)行清洗；，啟動(dòng)電機(jī)11，釜體I開(kāi)始旋轉(zhuǎn)，以便對(duì)半導(dǎo)體硅片14清洗全面徹底，清洗一段時(shí)間后，關(guān)閉清洗管3端部的截止閥，打開(kāi)釜體排氣口 7上的閥門(mén)，快速泄壓，使含有污物的超臨界二氧化碳直接通過(guò)釜體排氣口 7快速排出，將雜質(zhì)混合液快速帶走，避免重新沉積到半導(dǎo)體硅片表面并產(chǎn)生空化作用，利于雜質(zhì)脫落，達(dá)到對(duì)半導(dǎo)體硅片較好的清洗效果。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，其特征在于:包括釜體(I)及與釜體(I)密封連接釜蓋(2)，還包括插入釜體(I)內(nèi)部的清洗管(3)，所述清洗管(3)外端設(shè)有截止閥，在所述截止閥與所述釜體(I)之間的清洗管(3 )上連接超生波發(fā)生器(4 )，在所述釜體(I)壁上均布硅片吸盤(pán)連通孔(5)，在所述釜體(I)的外壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的負(fù)壓連接通道(9)，在所述釜體(I)的內(nèi)壁設(shè)有與所述硅片吸盤(pán)連通孔(5)連通的硅片吸盤(pán)(6)，所述硅片吸盤(pán)(6)包括一端與硅片吸盤(pán)連通孔(5)連通的連接管(6-1)，所述連接管(6-1)的另一端連接均布吸附微孔(6-2)的吸附板(6-3)，還包括受閥門(mén)控制的釜體排氣口(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，其特征在于:所述釜體(I)內(nèi)壁為豎立的圓筒形；所述釜蓋(2)為圓形，位于釜體(I)的正上方；所述清洗管(3)由所述釜蓋(2)的中心豎向插入釜體(I)內(nèi)部，所述釜體排氣口(7)位于釜蓋(2)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，其特征在于:所述釜體(I)設(shè)有旋轉(zhuǎn)結(jié)構(gòu):在所述釜體(I)的外周設(shè)有與其同軸心的筒形外殼(8)，所述筒形外殼(8)的上端與釜體(I)上部密封旋轉(zhuǎn)連接，所述負(fù)壓連接通道(9)由釜體(I)與外殼(8)之間的環(huán)形間隙形成，在所述外殼(8)的底部設(shè)有與負(fù)壓連接通道(9)連通的吸氣孔(10)，所述外殼(8 )的底部中心設(shè)有電機(jī)(11)，所述電機(jī)(11)的轉(zhuǎn)軸(12 )豎直向上通過(guò)外殼(8 )底部與釜體(I)底部中心固定。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，其特征在于:所述清洗管(3)位于釜體(I)內(nèi)部部分的外壁設(shè)有多個(gè)噴嘴(13)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，其特征在于:在所述截止閥與所述釜體(I)之間的清洗管(3 )上連接兩個(gè)超生波發(fā)生器(4 )。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種半導(dǎo)體硅片清洗釜，包括釜體及與釜體密封連接釜蓋，還包括插入釜體內(nèi)部的清洗管，清洗管外端設(shè)有截止閥，在截止閥與釜體之間的清洗管上連接超生波發(fā)生器，在釜體壁上均布硅片吸盤(pán)連通孔，在釜體的外壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的負(fù)壓連接通道，在釜體的內(nèi)壁設(shè)有與硅片吸盤(pán)連通孔連通的硅片吸盤(pán)，硅片吸盤(pán)包括一端與硅片吸盤(pán)連通孔連通的連接管，連接管的另一端連接均布吸附微孔的吸附板，還包括受閥門(mén)控制的釜體排氣口。本實(shí)用新型具有操作簡(jiǎn)單、清洗效果好、清洗效率高等特點(diǎn)。
【IPC分類(lèi)】B08B13-00, B08B11-02, B08B7-00, H01L21-67, B08B3-10, B08B3-12
【公開(kāi)號(hào)】CN204577408
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520322497
【發(fā)明人】靳光亞, 王佳鵬, 王婭, 朱松陽(yáng), 呂媛, 程友良
【申請(qǐng)人】華北電力大學(xué)（保定）
【公開(kāi)日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年5月19日