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用于具有液體的系統(tǒng)的殼體以及一種成像裝置的制造方法

文檔序號:9165400閱讀:234來源:國知局
用于具有液體的系統(tǒng)的殼體以及一種成像裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于具有液體的系統(tǒng)的殼體以及一種成像裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)的X射線源或X射線管基本上由具有殼體的真空腔構(gòu)成,其中包圍有陰極和陽極。所述陰極在此發(fā)揮負(fù)電極的功能,其向正的陽極發(fā)射電子。通過在陽極和陰極之間的電場,電子被陽極吸引并且劇烈地加速。所述陽極一般由金屬、例如鎢、鉬或鈀組成。當(dāng)電子轟擊陽極時(shí),其能量的絕大部分被轉(zhuǎn)化為熱能。動能的僅僅極小部分可以轉(zhuǎn)化為X射線光子,其從陽極以X射線的形式射出。這樣產(chǎn)生的X射線通過射線可透過的、由具有較低原子序數(shù)的材料構(gòu)成的窗離開真空腔。
[0003]不再拒絕考慮將X射線管用在工業(yè)的和醫(yī)療的成像以及用于治療處理中。所有以X射線成像的方法都利用這樣的事實(shí),即不同的材料對X射線的吸收能力不一樣。傳統(tǒng)的X射線成像方法產(chǎn)生三維對象的二維投影。由此失去了沿X射線的傳播方向的空間的分辨率。
[0004]X射線源由殼體(其常常設(shè)計(jì)為所謂的單箱殼體)包圍。為了保證沒有液體(主要是冷卻液)從殼體流出,可以設(shè)置用于檢測殼體中液體的液位水平的傳感器。附加地可以在冷卻回路中設(shè)置溫度傳感器。為了將流出的液體保留在殼體襯罩的內(nèi)部,殼體襯罩通過密封唇和密封膠密封。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]基于這種現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于,改進(jìn)對液體流出的識別和前述形式的殼體的密封。
[0006]所述技術(shù)問題通過一種用于具有液體的系統(tǒng)的殼體以及一種成像裝置解決,其中,所述殼體包含內(nèi)部區(qū)域,在所述內(nèi)部區(qū)域中安置超級吸收劑材料。所述成像裝置具有X射線源,所述X射線源被所述殼體包圍。
[0007]通過在殼體內(nèi)部區(qū)域中設(shè)置吸附材料、尤其是超級吸收劑材料(也稱為超級吸收劑),可以保證沒有(冷卻)液體流出。超級吸收劑(也稱為超級吸收的聚合物,SAP)是特殊的塑料或者特殊的材料。超級吸收劑吸收其自身體積多倍數(shù)量的液體,而不會又將它們排出。通過在與冷卻液體接觸或觸及時(shí)的變色可以識別之前形成的故障情況。超級吸收劑要么粘接在內(nèi)表面上、要么如隔離層一樣大面積地涂上內(nèi)表面。該隔離層僅若干毫米厚。超級吸收劑的應(yīng)用例子是嬰兒的尿布。
[0008]本實(shí)用新型要求保護(hù)一種用于具有液體的系統(tǒng)的殼體,該殼體包含內(nèi)部區(qū)域,在內(nèi)部區(qū)域中安置超級吸收劑材料。具有液體的系統(tǒng)可以設(shè)計(jì)為成像裝置,該成像裝置需要用于冷卻受熱部件的冷卻液。因此,冷卻液不能流出。并且在干燥狀態(tài)中超級吸收劑材料可以節(jié)省空間地安置。
[0009]超級吸收劑材料在此可拆卸地或不可拆卸地安設(shè)或固定或定位在殼體的內(nèi)部區(qū)域中的壁上。該超級吸收劑材料在內(nèi)部區(qū)域中優(yōu)選借助粘結(jié)劑安置或粘接在殼體的壁上。
[0010]超級吸收劑材料設(shè)計(jì)為,使得其在與液體接觸時(shí)變色。
[0011]殼體在一個(gè)或多個(gè)位置上具有一個(gè)或多個(gè)開口,因此可以從外部區(qū)域看到超級吸收劑材料。
[0012]因此通過指標(biāo)、例如顏色和至少一個(gè)可視開口或可視窗口可以立刻看到系統(tǒng)處于故障狀態(tài)。
[0013]殼體可以設(shè)計(jì)為單箱殼體。
[0014]此外本實(shí)用新型要求保護(hù)一種具有X射線源的成像裝置,該成像裝置由前述形式的殼體包圍。
【附圖說明】
[0015]本實(shí)用新型的其他特征和優(yōu)點(diǎn)由以下結(jié)合附圖對實(shí)施例的說明得出。在附圖中:
[0016]圖1是典型的例如X射線裝置形式的成像裝置;
[0017]圖2是具有按照本實(shí)用新型開口的殼體的更近的示意圖;
[0018]圖3是殼體的局部或殼壁或殼體襯罩的一部分,超級吸收劑材料安置或固定在其上。
【具體實(shí)施方式】
[0019]附圖示出具有殼體2的、可移動的C弓臂設(shè)備形式的X射線裝置、也即成像裝置1,在殼體2中安置所有用于產(chǎn)生X射線的部件。該殼體2也可以稱為“單箱殼體”。殼體的內(nèi)部區(qū)域標(biāo)以附圖標(biāo)記3。殼體2優(yōu)選至少部分地由鉛構(gòu)成,以使周圍環(huán)境不受到不期望泄漏的X射線損害。
[0020]還可以考慮其他的成像裝置或設(shè)想計(jì)算機(jī)斷層成像設(shè)備。此外還可以考慮其他裝置,例如具有(冷卻)液體的工業(yè)系統(tǒng)。
[0021]X射線裝置具有X射線管或X射線源以及對置的探測器,X射線源在移動的C弓臂設(shè)備的情況中固定在所謂的C弓臂4上。X射線源和探測器布置為,使得在二者之間可以支承可被X射線穿透的病人,并且兩個(gè)單元能夠圍繞病人旋轉(zhuǎn),因此可以從不同角度多次拍攝。
[0022]X射線裝置通過數(shù)據(jù)導(dǎo)線由PC5控制。在PC上還可以處理被讀取的探測器輸出數(shù)據(jù)。
[0023]醫(yī)學(xué)的X射線診斷最終基于被成像的對象、例如病人被X射線穿透并且X射線在此按區(qū)域地削弱其強(qiáng)度。對X射線的削弱的測量允許得出待成像對象的結(jié)論。
[0024]圖3不出殼體的局部或者殼壁或殼體襯罩的一部分,超級吸收劑材料安置或固定在其上。
[0025]按照本實(shí)用新型,吸附的材料、尤其是超級吸收劑材料21設(shè)置在殼體內(nèi)部區(qū)域3中或者粘接在殼體的壁上或襯罩上,例如圖3所示。被吸附的材料在與液體接觸時(shí)變色并且可以完全吸收液體。
[0026]在本實(shí)用新型的擴(kuò)展設(shè)計(jì)中,在殼壁中設(shè)置一個(gè)或多個(gè)開口 11,它們例如在圖2中示出。圖2為此示出具有按照本實(shí)用新型的開口 11的殼體的更近的示意圖。通過已設(shè)置的吸附材料的變色或顏色指示,可以從襯罩的外面借助開口 11或者窗戶看出系統(tǒng)中當(dāng)前的液體的流出或者不密封性。
[0027]附圖標(biāo)記清單
[0028]I C弓臂設(shè)備或成像裝置
[0029]2 殼體
[0030]3內(nèi)部區(qū)域
[0031]4 C 弓臂
[0032]5 PC
[0033]6 X射線接收器或者探測器
[0034]11 開口
[0035]21超級吸收劑材料。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于具有液體的系統(tǒng)的殼體(2),所述殼體包含內(nèi)部區(qū)域(3),在所述內(nèi)部區(qū)域中安置超級吸收劑材料(21)。2.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述殼體(2)用于成像裝置(I)。3.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述超級吸收劑材料(21)可拆卸地安置在所述殼體(2)的內(nèi)部區(qū)域(3)中的壁上。4.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述超級吸收劑材料(21)固定在所述殼體⑵的所述內(nèi)部區(qū)域⑶中的壁上。5.按照權(quán)利要求4所述的殼體(2),其特征在于,所述超級吸收劑材料(21)在所述內(nèi)部區(qū)域⑶中與所述殼體⑵的壁粘接。6.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述超級吸收劑材料(21)設(shè)計(jì)成在與液體接觸時(shí)變色。7.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述殼體(2)在一個(gè)或多個(gè)位置上具有一個(gè)或多個(gè)開口(11),使得從外部區(qū)域可看到所述超級吸收劑材料(21)。8.按照權(quán)利要求1所述的殼體(2),其特征在于,所述殼體(2)設(shè)計(jì)為單箱殼體。9.一種成像裝置(I),其具有X射線源,所述X射線源被按照權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的殼體(2)包圍。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及用于具有液體的系統(tǒng)的殼體(2)以及一種成像裝置(1),其中,所述殼體包含內(nèi)部區(qū)域(3),在所述內(nèi)部區(qū)域中安置超級吸收劑材料(21)。通過在殼體(2)的內(nèi)部區(qū)域(3)中設(shè)置超級吸收劑材料(21)、也稱為超級吸收劑,可以保證沒有(冷卻)液體流出;所述成像裝置(1)具有X射線源,所述X射線源被之前所述的殼體(2)包圍。
【IPC分類】G01M3/04, H05G1/02, H05K7/00, H01J35/02, F16J15/00
【公開號】CN204834558
【申請?zhí)枴緾N201420843429
【發(fā)明人】A.利默, N.謝勒
【申請人】西門子公司
【公開日】2015年12月2日
【申請日】2014年12月25日
【公告號】DE102014200055A1
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