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一種碳化硅陶瓷散熱片的制作方法

文檔序號:9975800閱讀:741來源:國知局
一種碳化硅陶瓷散熱片的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種碳化硅陶瓷散熱片,可用于各種有散熱需求的領域。
【背景技術】
[0002]目前用于高功率發(fā)光二級管散熱封裝、筆記本電腦散熱器、臺式電腦散熱器的散熱材料一般是鋼制散熱鰭片、銅制散熱鰭片或者鋁制散熱鰭片,這些散熱鰭片在強對流條件下(例如筆記本電腦的散熱風扇)將熱量帶離熱源,進而將熱量釋放到周圍空氣重。其最大優(yōu)點就是耐腐蝕,但存在著重量大、外觀質(zhì)量差、承壓能力低、散熱效率不夠高的缺點。
[0003]對于發(fā)熱器件來說,熱量的堆積會使得器件溫度過高,影響器件性能。特別是對一些電子器件,例如發(fā)光二極管,其發(fā)光芯片產(chǎn)生的熱密度高,芯片溫度過高會對器件壽命、發(fā)光效率產(chǎn)生嚴重影響,甚至會直接導致器件失效。如今IC行業(yè)不斷小型化,對器件的散熱性能要求也越來越高。
[0004]陶瓷作為一種具有優(yōu)良散熱性能的材料,具有高導熱性能,因此也被大量采用,尤其是其具有能與芯片材料相匹配的膨脹系數(shù)和優(yōu)良的介電性能。然而,隨著各類產(chǎn)品對散熱要求的越來越高,對現(xiàn)有的陶瓷散熱材料提出了越來越苛刻的要求。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]為滿足各類產(chǎn)品對散熱的要求本實用新型提供一種碳化硅陶瓷散熱片,能夠兼顧導熱與對流換熱,提高綜合散熱性能。
[0006]本實用新型提供的一種碳化硅陶瓷散熱片,包括碳化硅本體,所述碳化硅本體具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面,所述第一表面與熱源接觸,具體是所述碳化硅陶瓷本體為多孔結(jié)構(gòu),并且為正方體、長方體或圓柱體,所述本體的厚度為2-5厘米,所述熱源為IC芯片,所述多孔結(jié)構(gòu)的孔隙率由第一表面表面向第二表面逐漸增大,所述孔隙率在第一表面處小于5%,而在第二表面處的孔隙率大于50%。
[0007]進一步地,所述第一表面面積為與熱源接觸面積的2倍以上。
[0008]進一步地,所述碳化硅陶瓷本體的厚度為2厘米。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實用新型實施例1的碳化硅散熱片示意圖;
[0010]圖2為本實用新型實施例1的碳化硅散熱片示意圖;
【具體實施方式】
[0011]以下將通過實施例清楚地說明本實用新型的構(gòu)思和有益之處。
[0012]碳化硅陶瓷材料具有高的熱導率,本實用新型提供碳化硅陶瓷的本體1,該本體具有接觸熱源的表面SI,以及相對于表面SI的S2,本體I內(nèi)具有多孔結(jié)構(gòu),該多孔結(jié)構(gòu)的孔隙率由SI表面向著S2表面的方向上逐漸增大,孔隙率的定義為單位體積內(nèi)孔的體積與單位體積的比值。熱源產(chǎn)生的熱量通過SI面?zhèn)鲗У教沾杀倔wI內(nèi),通過本體I的傳導過程熱量傳輸至本體的各個表面上,這些表面包括孔的表面以及本體的各個側(cè)面和S2面,在通過上述的各個表面熱量與空氣環(huán)境進行對流交換,最終將熱量釋放至周圍環(huán)境。
[0013]由上述熱量釋放的過程可以知道,散熱性能的主要由以下兩個方面確定:一是材料的熱傳導能力,這體現(xiàn)為材料的熱導率;二是對流換熱的強度,這體現(xiàn)為材料與周圍環(huán)境之間的表面積。因此提尚散熱性能往往純在以下的矛盾:為了提尚材料的熱導率提升熱傳導能力,就應當減小材料的空隙率,因為連續(xù)的材料熱導率高于空氣的熱傳導率;同時,為了提高材料與周圍環(huán)境的熱交換面積提升對流換熱強度,就應當增大空隙率。對于本實用新型而言在接近熱源的位置,孔的孔隙率要低,從而便于熱從熱源迅速的傳出,避免熱量的集中堆積;而遠離熱源的位置,孔的空隙率應當高,從而增大本體I與周圍環(huán)境的對流接觸面積,增強對流換熱強度。綜合上述設置,可以兼并高導熱與強對流換熱,提高碳化硅陶瓷的散熱性能。
[0014]實施例1
[0015]參見圖1,碳化硅陶瓷本體I具有平坦的第一表面S1,該表面接觸熱源,這種接觸可以采用導熱材料粘接,也可以直接接觸熱源,例如IC芯片2。與第一表面S1相對的平坦的第二表面S2,整個碳化硅陶瓷本體I為正方體、長方體或圓柱體等各種適合的形狀。陶瓷本體I的厚度,即第一表面S1至第二表面S2之間的距離可根據(jù)需要調(diào)整,例如2-5厘米;碳化硅陶瓷本體內(nèi)孔的孔隙率在表面S1處小于5%,而在表面S 2處的孔隙率大于50%,并且孔隙率由表面S1處向表面S2處逐漸增大,優(yōu)選為線性增大。優(yōu)選第一表面面積為與熱源接觸面積的2倍以上。
[0016]實施例2
[0017]參見圖2,碳化硅陶瓷本體I具有平坦的第一表面S1,該表面S1接觸IC芯片2,與第一表面Sjg對的平坦的第二表面S 2,整個碳化硅陶瓷本體I為圓柱體。陶瓷本體I的厚度,即第一表面S1至第二表面S2之間的距離為2厘米;碳化硅陶瓷本體在表面S i處沒有孔,在距第一表面S10.2厘米處開始設有多孔結(jié)構(gòu),并且多孔結(jié)構(gòu)的孔隙率由所述距第一表面S10.2厘米處向第二表面逐漸增大,在表面&處的孔隙率大于50%。第一表面面積為與熱源接觸面積的2倍以上。
[0018]需要指出的是,在碳化硅本體內(nèi)的孔為開放性孔,所謂開放性孔是指其能夠與外部環(huán)境相通,外部的空氣能夠進入從而有對流換熱的現(xiàn)象。封閉的孔不僅不能提高散熱效率,反而會降低散熱性能。
【主權(quán)項】
1.一種碳化娃陶瓷散熱片,包括碳化娃本體,所述碳化娃本體具有第一表面和與所述第一表面相對的第二表面,所述第一表面與熱源接觸,其特征在于:所述碳化硅陶瓷本體為多孔結(jié)構(gòu),并且為正方體、長方體或圓柱體,所述本體的厚度為2-5厘米,所述熱源為IC芯片,所述多孔結(jié)構(gòu)的孔隙率由第一表面表面向第二表面逐漸增大,所述孔隙率在第一表面處小于5%,而在第二表面處的孔隙率大于50%。2.如權(quán)利要求1所述的碳化硅陶瓷散熱片,其特征在于:所述第一表面面積為與熱源接觸面積的2倍以上。3.如權(quán)利要求1所述的碳化硅陶瓷散熱片,其特征在于:所述碳化硅陶瓷本體的厚度為2厘米。
【專利摘要】本實用新型提供一種碳化硅陶瓷散熱片,包括碳化硅主體,所述碳化硅主體為多孔結(jié)構(gòu);所述主體具有第一表面以及與該第一表面相對的第二表面,其中第一表面為接觸熱源面,所述孔的空隙率由第一表面向第二表面逐漸增加,本實用新型的陶瓷散熱片能夠平衡導熱與對流換熱的平衡,達到優(yōu)異的散熱性能,可用于各種有散熱需求的領域。
【IPC分類】C04B35/565, H01L23/373, H01L23/367
【公開號】CN204885139
【申請?zhí)枴緾N201520438974
【發(fā)明人】周緒勝
【申請人】周緒勝
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年6月25日
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