一種圓片真空吸盤的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種圓片真空吸盤，包括盤體和若干真空吸孔；所述盤體具有若干曝光角度線，所述曝光角度線的角度范圍為0~90度；所述若干曝光角度線的長度均相等；所述若干曝光角度線的中點(diǎn)與真空吸盤盤體圓邊的距離均相等。以上所述LED圓片真空吸盤用于曝光作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LED圓片的曝光角度，并且角度可任意選擇，避免傳統(tǒng)真空吸盤曝光作業(yè)時(shí)產(chǎn)生的曝光角度誤差，提升LED圓片曝光角度作業(yè)的一致性，避免切割作業(yè)差異，進(jìn)而提升切割良率從而提升LED芯片良率；同時(shí)，上述LED圓片真空吸盤用于測試作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LED圓片芯粒的方向，減少調(diào)節(jié)芯粒對位的作業(yè)時(shí)間，進(jìn)而提升測試效率。
【專利說明】
_種圓片真空吸盤
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于LED制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種圓片真空吸盤。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著發(fā)光二極管(LED)市場競爭的日益激烈，LED芯片良率的提升已成為各大廠商的重點(diǎn)項(xiàng)目。其中，為了提升LED芯片的切割良率，主要為改善切割破片和背崩時(shí)，LED圓片在芯片曝光作業(yè)時(shí)通常采用與其晶格方向成一定角度的曝光，目前常采用45度角進(jìn)行曝光作業(yè)，而目前的真空吸盤，是通過將LED圓片的平邊與真空吸盤盤體中真空吸孔所處的其中一條對稱軸(與X軸方向呈45度)放置為垂直而進(jìn)行曝光作業(yè)，但是，這樣在作業(yè)時(shí)難免會(huì)產(chǎn)生LED圓片的曝光角度誤差，影響后續(xù)切割作業(yè)，從而影響LED圓片的切割良率進(jìn)而影響LED芯片良率，并且其他角度的曝光作業(yè)也無法實(shí)現(xiàn)。因此，有必要設(shè)計(jì)一種新型的圓片真空吸盤來解決以上問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的為:解決傳統(tǒng)LED圓片真空吸盤存在曝光角度誤差，影響后續(xù)切割作業(yè)，影響LED圓片的切割良率進(jìn)而影響LED芯片良率，以及無法實(shí)現(xiàn)不同曝光角度作業(yè)的問題，而設(shè)計(jì)了一種新型的LED晶圓片真空吸盤。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案為:一種圓片真空吸盤，包括真空吸盤盤體和位于所述盤體上表面的若干真空吸孔，所述真空吸盤盤體的上表面還具有若干曝光角度線，所述曝光角度線的角度范圍為O?90度。
[0005]優(yōu)選地，所述若干曝光角度線的長度均相等。
[0006]優(yōu)選地，所述若干曝光角度線的中點(diǎn)與真空吸盤盤體圓邊的距離均相等。
[0007]優(yōu)選地，所述真空吸孔分布于真空吸盤盤體的對稱軸上。
[0008]優(yōu)選地，所述真空吸孔所處的相間隔的對稱軸相互正交。
[0009]優(yōu)選地，所述圓片真空吸盤可用于圓片的曝光作業(yè)。
[0010]優(yōu)選地，所述圓片真空吸盤可用于圓片的測試作業(yè)。
[0011]本實(shí)用新型所述圓片真空吸盤的有益效果為:所述圓片真空吸盤用于LED圓片的曝光作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LE圓片的曝光角度，并且角度可任意選擇，避免傳統(tǒng)真空吸盤曝光作業(yè)時(shí)產(chǎn)生的曝光角度誤差，提升LED圓片曝光角度作業(yè)的一致性，避免切割作業(yè)差異，進(jìn)而提升切割良率從而提升LED芯片良率；同時(shí)，所述LED圓片真空吸盤用于LED圓片的測試作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LED圓片芯粒的方向，減少調(diào)節(jié)芯粒對位的作業(yè)時(shí)間，進(jìn)而提升測試效率。
【附圖說明】
[0012]附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。此外，附圖是描述概要，不是按比例繪制。
[0013]圖1為根據(jù)本實(shí)施用新型實(shí)施的一種圓片真空吸盤的示意圖。
[0014]圖中標(biāo)示:100:真空吸盤；101:真空吸盤盤體；102:真空吸孔；103:曝光角度線；104:0度曝光角度線；105:90度曝光角度線。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面將結(jié)合附圖對本實(shí)用新型公開的一種圓片真空吸盤的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的描述。
[0016]如圖1所示，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的圓片真空吸盤100，包括真空吸盤盤體101和若干真空吸孔102，所述真空吸盤盤體101具有若干曝光角度線103，所述曝光角度線103的角度范圍為O?90度，圖1中所示104為O度曝光角度線，圖1中所示105為90度曝光角度線。所述曝光角度線103的長度均相等;所述曝光角度線103的中點(diǎn)與真空吸盤盤體101圓邊的距離均相等;所述真空孔102分布于真空吸盤盤體101的對稱軸上;所述真空吸孔102所處的相間隔的對稱軸相互正交。所述圓片真空吸盤100可用于LED晶圓片的曝光作業(yè)，以及LED晶圓片的測試作業(yè)。
[0017]以上所述圓片真空吸盤100在進(jìn)行LED圓片的曝光作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LED圓片的曝光角度，即可以快速準(zhǔn)確地將LED圓片的平邊與所述曝光角度線103相重疊的準(zhǔn)確對位，并且曝光角度可任意選擇，角度范圍為O?90度，優(yōu)選45度，由此可以避免傳統(tǒng)真空吸盤曝光作業(yè)時(shí)產(chǎn)生的曝光角度誤差，提升LED圓片曝光角度作業(yè)的一致性，避免切割作業(yè)差異，進(jìn)而提升切割良率從而提升LED芯片良率；同時(shí)，所述圓片真空吸盤100在進(jìn)行LED圓片的測試作業(yè)時(shí)，可以快速準(zhǔn)確對位LED圓片中芯粒的方向，從而減少調(diào)節(jié)LED芯粒對位的作業(yè)時(shí)間，進(jìn)而提升測試效率。
[0018]以上表示了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，應(yīng)該理解的是，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實(shí)用新型，而仍然實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的有益效果。因此，以上描述不作為對本實(shí)用新型的限制，凡依本實(shí)用新型所做的任何變更，皆屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種圓片真空吸盤，包括真空吸盤盤體和位于所述盤體上表面的若干真空吸孔，其特征在于:所述真空吸盤盤體的上表面還具有若干曝光角度線，所述曝光角度線的角度范圍為O?90度。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓片真空吸盤，其特征在于:所述曝光角度線的長度相等。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓片真空吸盤，其特征在于:所述曝光角度線的中點(diǎn)與真空吸盤盤體圓邊的距離均相等。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圓片真空吸盤，其特征在于:所述真空吸孔分布于真空吸盤盤體的對稱軸上。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的圓片真空吸盤，其特征在于:所述真空吸孔所處的相間隔的對稱軸相互正交。
【文檔編號】H01L21/68GK205452255SQ201620237017
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年3月25日
【發(fā)明人】申利瑩, 張君逸, 謝創(chuàng)宇, 林仕尉, 潘冠甫, 吳超瑜, 王篤祥
【申請人】天津三安光電有限公司