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半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:10824995閱讀:655來源:國知局
半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供一種半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),包括:半導(dǎo)體芯片,其一面設(shè)置有功能區(qū);保護(hù)基板,覆蓋所述半導(dǎo)體芯片具有功能區(qū)的一面;支撐結(jié)構(gòu),位于所述半導(dǎo)體芯片與所述保護(hù)基板之間,所述支撐結(jié)構(gòu)包括多個首尾相接的支撐臂,所述支撐臂與所述半導(dǎo)體芯片以及所述保護(hù)基板包圍形成密封空腔,所述功能區(qū)位于所述密封空腔內(nèi);至少一個支撐臂上具有至少一個朝向所述功能區(qū)方向延伸的支撐凸壩,本實用新型通過設(shè)置支撐凸壩,使得水汽在支撐凸壩的邊角區(qū)域產(chǎn)生漩渦,漩渦與水汽之間發(fā)生碰撞摩擦從而產(chǎn)生能量損失,降低了水汽對支撐結(jié)構(gòu)的沖擊力,從而有效解決了支撐結(jié)構(gòu)分層開裂的問題。
【專利說明】
半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及半導(dǎo)體芯片的封裝技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)(Wafer Level Chip Size Packaging,WLCSP)是對整片晶圓進(jìn)行封裝后再切割得到單個成品芯片的技術(shù)。晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)順應(yīng)了市場對微電子產(chǎn)品日益輕、小、短、薄化和低價化要求,利用晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)封裝后的芯片尺寸達(dá)到了高度微型化,其封裝并切割之后的芯片尺寸與裸片尺寸幾乎一致,封裝成本隨著芯片尺寸的減小和晶圓尺寸的增大而顯著降低。晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)是當(dāng)前封裝領(lǐng)域的熱點和未來發(fā)展的趨勢。完成封裝以及切割得到的單個成品芯片需要對其進(jìn)行信賴性測試,只有通過信賴性測試的成品芯片才能被認(rèn)定為合格的芯片。針對某些具有敏感器件的半導(dǎo)體芯片,通過晶圓級芯片尺寸封裝技術(shù)在半導(dǎo)體芯片上覆蓋保護(hù)基板且在保護(hù)基板與半導(dǎo)體芯片之間形成密閉的密封空腔來保護(hù)半導(dǎo)體芯片上的敏感器件,避免其受到后續(xù)工藝以及外界環(huán)境的污染而影響半導(dǎo)體器件的性能。密封空腔的形成工藝成為影響封裝良率的關(guān)鍵。
[0003]請同時參考圖1至圖3,為晶圓級半導(dǎo)體芯片封裝工藝流程中晶圓與保護(hù)基板對位壓合之后的結(jié)構(gòu)示意圖,晶圓105上覆蓋有保護(hù)基板100,晶圓105上具有網(wǎng)格狀排列的半導(dǎo)體芯片110,本實施例中,半導(dǎo)體芯片110為影像傳感芯片,保護(hù)基板100為光學(xué)玻璃,每一半導(dǎo)體芯片110上具有感光區(qū)103,在感光區(qū)103具有光敏感器件,為了保護(hù)感光區(qū)103,避免光敏感器件在后續(xù)的工藝流程中被污染損壞,在晶圓105或者保護(hù)基板100上形成網(wǎng)格狀排列的支撐結(jié)構(gòu)101,每一支撐結(jié)構(gòu)101對應(yīng)一個半導(dǎo)體芯片110,利用黏合劑102將晶圓105具有感光區(qū)103的一面與保護(hù)基板100對位壓合,使感光區(qū)103收容于支撐結(jié)構(gòu)101、晶圓105以及保護(hù)基板100包圍形成的密封空腔104內(nèi)。
[0004]但是,在信賴性測試中,支撐結(jié)構(gòu)101會出現(xiàn)分層開裂的現(xiàn)象,影響了成品芯片的質(zhì)量,成為本領(lǐng)域技術(shù)人員噬待解決的問題。
【實用新型內(nèi)容】
[0005]本實用新型解決的問題是通過提供一種半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),可以消除支撐結(jié)構(gòu)分層開裂的情況,提高半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu)的質(zhì)量以及信賴性。
[0006]本實用新型提供一種半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),包括:半導(dǎo)體芯片,其一面設(shè)置有功能區(qū);保護(hù)基板,覆蓋所述半導(dǎo)體芯片具有功能區(qū)的一面;支撐結(jié)構(gòu),位于所述半導(dǎo)體芯片與所述保護(hù)基板之間,所述支撐結(jié)構(gòu)包括多個首尾相接的支撐臂,所述支撐臂與所述半導(dǎo)體芯片以及所述保護(hù)基板包圍形成密封空腔,所述功能區(qū)位于所述密封空腔內(nèi);至少一個支撐臂上具有至少一個朝向所述功能區(qū)方向延伸的支撐凸壩。
[0007]優(yōu)選的,所述支撐凸壩的橫截面為長方形或者正方形。
[0008]優(yōu)選的,所述支撐凸壩的長度范圍是100微米至450微米之間。
[0009]優(yōu)選的,所述支撐臂以及所述支撐凸壩的材質(zhì)為感光膠。
[0010]優(yōu)選的,至少一個支撐臂上設(shè)置至少一個開口,所述開口中填充有黏合劑。
[0011]優(yōu)選的,所述密封空腔內(nèi)包括至少一個支撐柱。
[0012]優(yōu)選的,所述支撐臂以及所述支撐凸壩的其中一個端面設(shè)置有凹槽結(jié)構(gòu)。
[0013]本實用新型的有益效果是,本實用新型通過在至少一個支撐臂上設(shè)置至少一個朝向功能區(qū)延伸的支撐凸壩,使得水汽在支撐凸壩的邊角區(qū)域產(chǎn)生漩渦,漩渦與水汽之間發(fā)生碰撞摩擦從而產(chǎn)生能量損失,降低了水汽對支撐結(jié)構(gòu)的沖擊力,從而有效解決了支撐結(jié)構(gòu)分層開裂的問題。
【附圖說明】
[0014]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中晶圓級半導(dǎo)體芯片封裝工藝流程中晶圓與保護(hù)基板對位壓合之后的結(jié)構(gòu)不意圖;
[0015]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中晶圓級影像傳感芯片的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖3為現(xiàn)有技術(shù)中晶圓級半導(dǎo)體芯片封裝工藝流程中晶圓與保護(hù)基板對位壓合之后的尚J視圖;
[0017]圖4為本實用新型優(yōu)選實施例晶圓級影像傳感芯片封裝結(jié)構(gòu)的剖視圖;
[0018]圖5為本實用新型優(yōu)選實施例單個支撐結(jié)構(gòu)俯視圖;
[0019]圖6為本實用新型另一優(yōu)選實施例單個支撐結(jié)構(gòu)俯視圖。
【具體實施方式】
[0020]以下將結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進(jìn)行詳細(xì)描述。但這些實施方式并不限制本實用新型,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本實用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0021]需要說明的是,提供這些附圖的目的是為了有助于理解本實用新型的實施例,而不應(yīng)解釋為對本實用新型的不當(dāng)?shù)南拗?。為了更清楚起見,圖中所示尺寸并未按比例繪制,可能會做放大、縮小或其他改變。此外,在實際制作中應(yīng)包含長度、寬度及深度的三維空間尺寸。
[0022]本實用新型優(yōu)選實施例以影像傳感芯片為例,當(dāng)然,本實用新型不限定為影像傳感芯片,其他的具有功能區(qū)需要進(jìn)行密封保護(hù)的半導(dǎo)體芯片比如MEMS芯片等也屬于本實用新型所說的半導(dǎo)體芯片。
[0023]請參考圖4,為本實用新型優(yōu)選實施例晶圓級影像傳感芯片的封裝結(jié)構(gòu)剖視圖,晶圓200具有網(wǎng)格狀排布的多顆影像傳感芯片,每一影像傳感芯片具有功能區(qū)211,晶圓200具有第一表面200a以及與第一表面200a相對的第二表面200b。該多個功能區(qū)211均位于晶圓200的第一表面200a上,所謂功能區(qū)211是指影像傳感芯片上設(shè)置有光敏感器件的感光區(qū)。保護(hù)基板300覆蓋在晶圓200的第一表面200a上。在晶圓200與保護(hù)基板300之間具有網(wǎng)格狀排布的多個支撐結(jié)構(gòu)320,支撐結(jié)構(gòu)320使得晶圓200與保護(hù)基板300之間形成間隔,防止保護(hù)基板300的表面300a觸碰功能區(qū)211,且支撐結(jié)構(gòu)320與晶圓200以及保護(hù)基板300包圍形成網(wǎng)格狀排布的多個密封空腔310,一個密封空腔310對應(yīng)一個功能區(qū)211,功能區(qū)211位于密封空腔310內(nèi)。
[0024]本實施例中,支撐結(jié)構(gòu)320的材質(zhì)是感光膠。支撐結(jié)構(gòu)320通過曝光顯影的工藝形成于保護(hù)基板300上,然后通過絲網(wǎng)印刷工藝或者涂布印刷工藝在支撐結(jié)構(gòu)320的端面上形成黏合劑或者在晶圓200上形成與支撐結(jié)構(gòu)320形狀對應(yīng)的黏合劑,然后將晶圓200與保護(hù)基板300對位壓合。
[0025]影像傳感芯片具有用于與外部電路電連接的焊墊212,本實施例中,焊墊212與功能區(qū)211位于影像傳感芯片的同一側(cè),本實施例中,在晶圓200與保護(hù)基板300對位壓合之后,采用硅通孔工藝在晶圓200的第二表面200b上形成與焊墊212電連接的焊接凸起216。
[0026]具體的,請參考圖4,在晶圓200的第二表面200b形成連通至焊墊212的通孔,在通孔的側(cè)壁以及晶圓200的第二表面200b形成絕緣層213,在絕緣層213上以及通孔的底部形成金屬布線層214,在金屬布線層214延伸至晶圓200的第二表面200b的位置上形成焊接凸起216,焊墊212與焊接凸起216通過金屬布線層214電連接。影像傳感芯片通過焊接凸起216與外部電路實現(xiàn)電連接。
[0027]晶圓在完成封裝并切割得到單顆成品半導(dǎo)體芯片之后,需要對成品半導(dǎo)體芯片進(jìn)行有關(guān)信賴性的一系列測試,此處不再對信賴性測試的相關(guān)內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)闡述,信賴性測試通常包括吸濕以及高溫,舉例來說,將完成封裝的成品半導(dǎo)體芯片置于高濕度環(huán)境中一段時間,隨后將其置于高溫環(huán)境中一段時間,然后檢查該成品半導(dǎo)體芯片的各項參數(shù)。
[0028]成品半導(dǎo)體芯片在經(jīng)歷高溫測試環(huán)境之后,支撐結(jié)構(gòu)容易產(chǎn)生分層的情形,經(jīng)觀察研究推斷,導(dǎo)致支撐結(jié)構(gòu)分層的主要原因在于,半導(dǎo)體芯片在封裝工藝流程以及信賴性測試中引入了水汽進(jìn)入密封空腔,當(dāng)遇到高溫環(huán)境時,水汽瞬間氣化膨脹沖擊支撐結(jié)構(gòu),從而導(dǎo)致支撐結(jié)構(gòu)分層開裂。
[0029]本實用新型通過對支撐結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化改進(jìn),從而有效解決支撐結(jié)構(gòu)分層開裂的技術(shù)問題。
[0030]請參考圖5,為本實用新型優(yōu)選實施例的支撐結(jié)構(gòu)的示意圖,支撐結(jié)構(gòu)320具有四個首尾相接的支撐臂321、支撐臂322、支撐臂323以及支撐臂324,四個支撐臂包圍形成封閉的長方形。當(dāng)然,本實用新型不限定支撐臂的數(shù)目,也不限定支撐臂包圍形成的圖形,只要具有由多個支撐臂首尾相接形成封閉的環(huán)結(jié)構(gòu)即可。
[0031]本實用新型通過在至少一個支撐臂上設(shè)置至少一個朝向功能區(qū)延伸的支撐凸壩,使得水汽在支撐凸壩的邊角區(qū)域產(chǎn)生漩渦,漩渦與水汽之間發(fā)生碰撞摩擦從而產(chǎn)生能量損失,降低了水汽對支撐結(jié)構(gòu)的沖擊力,從而有效解決了支撐結(jié)構(gòu)分層開裂的問題。
[0032]本實施例中,在彼此相對的支撐臂321以及支撐臂323上分別設(shè)置有兩個朝向功能區(qū)211延伸的支撐凸壩325。
[0033]為了有利于水汽漩渦的形成,支撐凸壩325的橫截面為長方形或者正方形。
[0034]支撐凸壩325可以與支撐臂321的材質(zhì)相同,兩者可以在同一工藝中同時形成,優(yōu)點在于簡化了工藝流程,且提高了工藝的穩(wěn)定性以及產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。
[0035]設(shè)計人員可以根據(jù)密封空腔310的體積、密封空腔310中的水汽含量、支撐臂形狀、支撐臂的厚度等因素,合理設(shè)置支撐凸壩的形狀、個數(shù)、位置。
[0036]若支撐凸壩325厚度d過小,則不利于有效弱化水汽的沖擊力,優(yōu)選的支撐凸壩325的厚度d在100微米至450微米之間。本實施例中,支撐臂321的厚度為300微米,支撐凸壩325的厚度為150微米。
[0037]支撐凸壩325在半導(dǎo)體芯片與保護(hù)基板之間形成支撐,提供了支撐力,且支撐凸壩325可以弱化水汽對支撐臂的沖擊力,因此,可以適當(dāng)減小支撐臂的厚度D,支撐臂的厚度D減小,使得支撐臂與功能區(qū)211之間的距離變大,降低了黏合劑污染功能區(qū)211的風(fēng)險。
[0038]由于對位壓合時,黏合劑具有流動性,容易產(chǎn)生溢膠現(xiàn)象,通過在支撐臂321、322、323、324以及支撐凸壩325用于與黏合劑接觸的端面上形成凹槽結(jié)構(gòu),凹槽結(jié)構(gòu)可以容置多余的黏合劑,防止黏合劑溢出而污染功能區(qū)211。
[0039]支撐臂長度M大于其上支撐凸壩325長度m,優(yōu)選的,支撐臂長度M是其上支撐凸壩325長度m的2倍至1倍。
[0040]密封空腔中的水汽主要是在支撐結(jié)構(gòu)的形成階段以及晶圓與保護(hù)基板對位壓合階段產(chǎn)生的,請參考圖6,為本實用新型另一實施例支撐結(jié)構(gòu)的示意圖,通過在至少一個支撐臂上設(shè)置至少一個開口,有利于大部分水汽在封裝完成之前排出,降低后期信賴性測試時密封空腔中的水汽含量,進(jìn)一步降低了水汽受熱膨脹對支撐結(jié)構(gòu)的沖擊。
[0041 ]本實施例中,支撐結(jié)構(gòu)420具有四個首尾相接的支撐臂421、422,423、424,在支撐臂422上以及支撐臂424上分別設(shè)置有一個開口 426,在晶圓與保護(hù)基板對位壓合的工藝中,含有烘烤的工藝,水汽因此會蒸發(fā),通過在支撐臂上設(shè)置開口,方便水汽排出,且由于對位壓合工藝中黏合劑會逐漸填充開口 426從而保證密封腔的密封性,不會由于設(shè)置開口而導(dǎo)致密封空腔不密封,防止后續(xù)工藝中發(fā)生污染功能區(qū)211’的情況。
[0042]開口 426長度不宜過大,否則黏合劑不能完全充滿開口而導(dǎo)致密封空腔不密封。設(shè)計人員可以根據(jù)支撐臂的材質(zhì)、支撐臂的尺寸、黏合劑的材質(zhì)、工藝參數(shù)等綜合考量,設(shè)計出合理的開口數(shù)目以及開口的尺寸。
[0043]于本實施例中,僅在支撐臂421上且僅設(shè)置一個支撐凸壩425,支撐凸壩425設(shè)置于支撐臂421的中心,支撐凸壩425的長度是支撐臂421長度的1/3。
[0044]為了提高支撐結(jié)構(gòu)的支撐力,可以在密封空腔內(nèi)設(shè)置支撐柱。于本實施例中,在密封空腔內(nèi)設(shè)置有多個支撐柱427,支撐柱427形成于晶圓與保護(hù)基板兩者之一上。
[0045]支撐柱427可以與支撐臂的材質(zhì)相同,為了簡化工藝流程,提高工藝的穩(wěn)定性,可以在形成支撐臂的同時形成支撐柱。本實施例中,支撐臂、支撐柱以及支撐凸壩在同一工藝中同時形成。
[0046]本實施例中支撐臂、支撐柱以及支撐凸壩的材質(zhì)是光刻膠,首先,將光刻膠整面涂布于保護(hù)基板或者晶圓上,通過曝光顯影工藝圖案化并定型。設(shè)計人員可以根據(jù)支撐臂的材質(zhì)、工藝參數(shù)、密封空腔的體積、功能區(qū)的大小和位置等因素合理設(shè)計支撐柱427的尺寸以及位置。
[0047]當(dāng)然,支撐臂、支撐柱以及支撐凸壩的材質(zhì)不限定為有機(jī)材料,任一者可以是無機(jī)材料,如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等絕緣介質(zhì)材料,通過沉積工藝形成于晶圓或者保護(hù)基板上,然后采用刻蝕工藝進(jìn)行圖形化。
[0048]黏合劑可以為高分子粘接材料,例如硅膠、環(huán)氧樹脂、苯并環(huán)丁烯等聚合物材料。
[0049]應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體,各實施方式中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。
[0050]上文所列出的一系列的詳細(xì)說明僅僅是針對本實用新型的可行性實施方式的具體說明,它們并非用以限制本實用新型的保護(hù)范圍,凡未脫離本實用新型技藝精神所作的等效實施方式或變更均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),包括: 半導(dǎo)體芯片,其一面設(shè)置有功能區(qū); 保護(hù)基板,覆蓋所述半導(dǎo)體芯片具有功能區(qū)的一面; 支撐結(jié)構(gòu),位于所述半導(dǎo)體芯片與所述保護(hù)基板之間,所述支撐結(jié)構(gòu)包括多個首尾相接的支撐臂,所述支撐臂與所述半導(dǎo)體芯片以及所述保護(hù)基板包圍形成密封空腔,所述功能區(qū)位于所述密封空腔內(nèi); 其特征在于, 至少一個支撐臂上具有至少一個朝向所述功能區(qū)方向延伸的支撐凸壩。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述支撐凸壩的橫截面為長方形或者正方形。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述支撐凸壩的長度范圍是10微米至450微米之間。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述支撐臂以及所述支撐凸壩的材質(zhì)為感光膠。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,至少一個支撐臂上設(shè)置至少一個開口,所述開口中填充有黏合劑。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述密封空腔內(nèi)包括至少一個支撐柱。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述支撐臂以及所述支撐凸壩的其中一個端面設(shè)置有凹槽結(jié)構(gòu)。
【文檔編號】H01L27/146GK205508822SQ201620193449
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年3月14日
【發(fā)明人】段珍珍, 王宥軍, 王鑫琴
【申請人】蘇州晶方半導(dǎo)體科技股份有限公司
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