專利名稱:高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及到電機(jī)技術(shù),具體涉及到一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的圓筒型永磁直線同步電機(jī)的結(jié)構(gòu)如圖12所示。當(dāng)電樞鐵心采用硅鋼片疊成時(shí),由于疊片方向?yàn)檩S向,永磁體以及繞組通電產(chǎn)生的電樞磁場(chǎng)方向有一部分會(huì)與疊片方向相同,在鐵心中形成較大的渦流,產(chǎn)生較大的渦流損耗,并且鐵心疊片工藝復(fù)雜,加工成本高;如果采用實(shí)心鐵心,雖然工藝簡(jiǎn)單、成本低,但鐵心會(huì)產(chǎn)生更大的渦流損耗,大大降低電機(jī)的效率。同時(shí),由于相與相之間都存在磁耦合,這一方面會(huì)因互感的存在影響電流的控制精度和電機(jī)的動(dòng)態(tài)特性;另一方面也會(huì)因每一相繞組通電產(chǎn)生的磁通所經(jīng)過的磁路較長(zhǎng)而使定子鐵耗較大,從而限制了電機(jī)效率的進(jìn)一步提高。另外,由于動(dòng)子的質(zhì)量大,系統(tǒng)的動(dòng)態(tài)特性差。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有圓筒形永磁直線同步電機(jī)的電樞鐵心結(jié)構(gòu)存在的渦流損耗大、鐵心結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問題,本發(fā)明提出了一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)。本發(fā)明所提供的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)包括初級(jí)、次級(jí)和氣隙;次級(jí)包括導(dǎo)磁板和間隔板;導(dǎo)磁板和間隔板沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板與導(dǎo)磁板的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼和多個(gè)相電樞單元;相電樞單元由相單元電樞鐵心和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身和齒靴構(gòu)成;每個(gè)相單元電樞鐵心的初級(jí)齒的齒靴上開有j個(gè)沿圓周方向的通槽,所述j個(gè)槽沿軸向均布,其中j為自然數(shù);相鄰兩個(gè)通槽的中心之間的距離τ m與次級(jí)中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板的中心之間的距離τ ρ滿足關(guān)系2 τ m = τ p ;每個(gè)通槽內(nèi)嵌有一塊平板型永磁體,所述平板型永磁體的形狀與齒靴的形狀相同,但平板型永磁體與齒靴相鄰的表面的面積小于或等于對(duì)應(yīng)的齒靴的表面的面積;每個(gè)相電樞單元中有2nX j塊平板型永磁體,每塊平板型永磁體為平行充磁,所述充磁方向是沿軸向充磁;沿軸向相鄰兩塊平板型永磁體的充磁方向相反,并且沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體的充磁方向相反;每個(gè)相單元電樞鐵心的初級(jí)齒的平行齒身上纏繞有一個(gè)線圈,相鄰初級(jí)齒上的兩個(gè)線圈繞向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心的初級(jí)齒上的所有線圈串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組,該相單元電樞繞組為集中繞組,屬于同一相的所有相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)為每相電樞繞組;多個(gè)相電樞單元沿軸向均勻分布固定在機(jī)殼內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相單元電樞鐵心的中心之間的距離、 與次級(jí)的相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板的中心之間的距離τρ之間滿足關(guān)系、= kTp 士(1/m) τρ,其中 k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù)。本發(fā)明還提供另一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)包括初級(jí)、次級(jí)和氣隙;次級(jí)包括導(dǎo)磁板和間隔板;導(dǎo)磁板和間隔板沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板與導(dǎo)磁板的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼和多個(gè)相電樞單元;每個(gè)相電樞單元由相單元電樞鐵心和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身和齒靴構(gòu)成;所述齒靴與次級(jí)的平行齒之間形成氣隙,每個(gè)齒靴與氣隙相鄰的兩個(gè)側(cè)面上沿軸向排列固定有2i塊平板型永磁體,其中i為自然數(shù),每個(gè)相電樞單元中共有 2ηX 2i塊平板型永磁體,所有平板型永磁體為平行充磁,所述充磁方向與其所在齒靴的平面相垂直,且沿軸向相鄰的永磁體充磁方向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心上的、沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體的充磁方向相反,沿軸向每相鄰兩塊永磁體的中心之間的距離τ 1]]與次級(jí)中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系2τω= τ ρ,多個(gè)相電樞單元沿軸向依次排列并固定在機(jī)殼內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相電樞單元之間的相單元電樞鐵心的中心之間的距離τ 1與沿軸向次級(jí)中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系、= k τ ρ士(l/m) τ p,其中k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù),每個(gè)相單元電樞鐵心的初級(jí)齒的平行齒身上纏繞有一個(gè)線圈,沿圓周方向相鄰的兩個(gè)線圈的繞向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心的所有初級(jí)齒上的線圈串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組,屬于同一相的相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)組成該相的電樞繞組,所述樞繞組為集中繞組。本發(fā)明采用特殊的初級(jí)結(jié)構(gòu)及次級(jí)結(jié)構(gòu),構(gòu)成一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī), 消除了相間互感,降低了次級(jí)質(zhì)量,提高了電機(jī)的電流及電磁力控制精度、推力密度和動(dòng)態(tài)特性。該電機(jī)既可以作為電動(dòng)機(jī)使用,也可以作為發(fā)電機(jī)使用。
圖1和圖2是具體實(shí)施方式
一所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的橫截面示意圖,其中,圖1中的齒靴4的橫截面為直角三角形,圖2中的齒靴4的橫截面為等腰梯形, 圖3是圖1所示的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的初級(jí)結(jié)構(gòu)示意圖,圖4是圖3的A-A剖面圖,圖5是圖1所示的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的平板型永磁體7和齒靴4之間的位置關(guān)系示意圖,圖6是圖1所示的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的次級(jí)結(jié)構(gòu)示意圖,圖7是圖6 的側(cè)視圖,圖8和圖9是具體實(shí)施方式
二所述的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的橫截面示意圖,圖10是圖8所示的的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)的初級(jí)結(jié)構(gòu)示意圖,圖11是圖10的 C-C剖視圖,圖12是現(xiàn)有的圓筒型永磁直線同步電機(jī)的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施例方式具體實(shí)施方式
一參見圖1至圖7說明本實(shí)施方式。本實(shí)施方式的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),它包括初級(jí)、次級(jí)和氣隙;次級(jí)3包括導(dǎo)磁板8和間隔板9 ;導(dǎo)磁板8和間隔板9沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板8沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板9與導(dǎo)磁板8的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼1和多個(gè)相電樞單元10 ;相電樞單元10由相單元電樞鐵心2和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心2為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身6和齒靴4構(gòu)成; 每個(gè)相單元電樞鐵心2的初級(jí)齒的齒靴4上開有j個(gè)沿圓周方向的通槽,所述j個(gè)槽沿軸向均布,其中j為自然數(shù);相鄰兩個(gè)通槽的中心之間的距離τω與次級(jí)3中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板8的中心之間的距離%滿足關(guān)系2τω= τ ρ;每個(gè)通槽內(nèi)嵌有一塊平板型永磁體7,所述平板型永磁體7的形狀與齒靴4的形狀相同,但平板型永磁體7與齒靴4相鄰的表面的面積小于或等于對(duì)應(yīng)的齒靴4的表面的面積;每個(gè)相電樞單元10中有2nX j塊平板型永磁體, 每塊平板型永磁體為平行充磁,所述充磁方向是沿軸向充磁;沿軸向相鄰兩塊平板型永磁體的充磁方向相反,并且沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體的充磁方向相反;每個(gè)相單元電樞鐵心2的初級(jí)齒的平行齒身6上纏繞有一個(gè)線圈,相鄰初級(jí)齒上的兩個(gè)線圈繞向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心2的初級(jí)齒上的所有線圈串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組, 該相單元電樞繞組為集中繞組,屬于同一相的所有相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)為每相電樞繞組;多個(gè)相電樞單元沿軸向均勻分布固定在機(jī)殼1內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相單元電樞鐵心的中心之間的距離τ t與次級(jí)3的相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板8的中心之間的距離τ ρ之間滿足關(guān)系 τ t = k τ ρ士(1/m) τ p,其中k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù)。所述平板型永磁體7的形狀與齒靴4的形狀相同,但平板型永磁體7與齒靴4相鄰的表面的面積小于對(duì)應(yīng)的齒靴4的表面的面積,使得平板型永磁體的沿圓周方向的寬度小于或等于齒靴的寬度,并且所述平板型永磁體的徑向高度小于或等于齒靴的徑向高度。參見圖5所示,是平板型永磁體7比齒靴4小的情況,平板型永磁體7嵌入到通槽之后,其邊緣與齒靴4邊緣具有一定的距離。
具體實(shí)施方式
二 本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式
一所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)中的齒靴4的進(jìn)一步限定,本實(shí)施方式所述的齒靴4的橫截面為直角三角形或等腰梯形。初級(jí)的齒靴4與次級(jí)的平行齒之間形成的為氣隙,因此為了使氣隙均勻,所述齒靴4的形狀應(yīng)當(dāng)與次級(jí)的平行齒的外形相適應(yīng),進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)之間所形成的氣隙均勻。當(dāng)次級(jí)2中沿圓周方向相鄰的兩個(gè)次級(jí)齒之間為直角時(shí),參見圖1所示,則所述齒靴4為直角三角形,進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)齒之間形成均勻的氣隙。當(dāng)次級(jí)2中沿圓周方向相鄰的兩個(gè)次級(jí)齒之間不是直角時(shí),參見圖2所示,則所述齒靴4為等腰梯形,進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)齒之間形成均勻的氣隙。
具體實(shí)施方式
三參見圖8至11說明本實(shí)施方式。本實(shí)施方式所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),它包括初級(jí)、次級(jí)3和氣隙;次級(jí)3包括導(dǎo)磁板8和間隔板9 ;導(dǎo)磁板8和間隔板9沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板8沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板9與導(dǎo)磁板8的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼1和多個(gè)相電樞單元10 ;每個(gè)相電樞單元10由相單元電樞鐵心2和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心2為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身6 和齒靴4構(gòu)成;所述齒靴4與次級(jí)3的平行齒之間形成氣隙,每個(gè)齒靴4與氣隙相鄰的兩個(gè)側(cè)面上沿軸向排列固定有2i塊平板型永磁體7,其中i為自然數(shù),每個(gè)相電樞單元10中共有2η X 2i塊平板型永磁體7,所有平板型永磁體7為平行充磁,所述充磁方向與其所在齒靴 (4)的平面相垂直,且沿軸向相鄰的永磁體充磁方向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心2上的、沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體7的充磁方向相反,沿軸向每相鄰兩塊永磁體的中心之間的距離、與次級(jí)3中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系2τω= τ ρ,多個(gè)相電樞單元10沿軸向依次排列并固定在機(jī)殼1內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相電樞單元10之間的相單元電樞鐵心2的中心之間的距離τ t與沿軸向次級(jí)3中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系Tt = kTp士(1/m) τρ,其中k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取 m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù),每個(gè)相單元電樞鐵心2的初級(jí)齒的平行齒身6上纏繞有一個(gè)線圈5,沿圓周方向相鄰的兩個(gè)線圈5的繞向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心2的所有初級(jí)齒上的線圈5串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組,屬于同一相的相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)組成該相的電樞繞組,所述樞繞組為集中繞組。
具體實(shí)施方式
四本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式
三所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)中的齒靴4的進(jìn)一步限定,本實(shí)施方式所述的齒靴4的橫截面為直角三角形或等腰梯形。初級(jí)的齒靴4與次級(jí)的平行齒之間形成的為氣隙,因此為了使氣隙均勻,所述齒靴4的形狀應(yīng)當(dāng)與次級(jí)的平行齒的外形相適應(yīng),進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)之間所形成的氣隙均勻。當(dāng)次級(jí)2中沿圓周方向相鄰的兩個(gè)次級(jí)齒之間為直角時(shí),參見圖8所示,則所述齒靴4為直角三角形,進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)齒之間形成均勻的氣隙。當(dāng)次級(jí)2中沿圓周方向相鄰的兩個(gè)次級(jí)齒之間不是直角時(shí),參見圖9所示,則所述齒靴4為等腰梯形,進(jìn)而保證齒靴4與次級(jí)齒之間形成均勻的氣隙。
具體實(shí)施方式
五本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式
一、二、三或四所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)中的次級(jí)的材料的進(jìn)一步限定,所述次級(jí)的材料由高導(dǎo)磁材料構(gòu)成。
具體實(shí)施方式
六本實(shí)施方式與具體實(shí)施方式
一、二、三或四所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī)中的間隔板的材料的進(jìn)一步限定,所述間隔板為非磁性材料。
權(quán)利要求
1.一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),它包括初級(jí)、次級(jí)和氣隙;次級(jí)C3)包括導(dǎo)磁板 ⑶和間隔板(9);導(dǎo)磁板⑶和間隔板(9)沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板⑶沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板(9)與導(dǎo)磁板(8)的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼(1)和多個(gè)相電樞單元(10);相電樞單元(10)由相單元電樞鐵心( 和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心( 為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身(6)和齒靴(4)構(gòu)成;每個(gè)相單元電樞鐵心( 的初級(jí)齒的齒靴(4)上開有j個(gè)沿圓周方向的通槽,所述j個(gè)槽沿軸向均布,其中j為自然數(shù);相鄰兩個(gè)通槽的中心之間的距離、與次級(jí)(3)中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板(8)的中心之間的距離τρ 滿足關(guān)系2 τ m = τ p ;每個(gè)通槽內(nèi)嵌有一塊平板型永磁體(7),所述平板型永磁體(7)的形狀與齒靴的形狀相同,但平板型永磁體(7)與齒靴(4)相鄰的表面的面積小于或等于對(duì)應(yīng)的齒靴的表面的面積;每個(gè)相電樞單元(10)中有2nXj塊平板型永磁體,每塊平板型永磁體為平行充磁,所述充磁方向是沿軸向充磁;沿軸向相鄰兩塊平板型永磁體的充磁方向相反,并且沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體的充磁方向相反;每個(gè)相單元電樞鐵心( 的初級(jí)齒的平行齒身(6)上纏繞有一個(gè)線圈,相鄰初級(jí)齒上的兩個(gè)線圈繞向相反, 位于同一個(gè)相單元電樞鐵心O)的初級(jí)齒上的所有線圈串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組,該相單元電樞繞組為集中繞組,屬于同一相的所有相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)為每相電樞繞組;多個(gè)相電樞單元沿軸向均勻分布固定在機(jī)殼(1)內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相單元電樞鐵心的中心之間的距離τ t與次級(jí)(3)的相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板(8)的中心之間的距離%之間滿足關(guān)系τ t = k τ p士(1/m) τ p,其中k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于,所述平板型永磁體(7)的形狀與齒靴的形狀相同,且平板型永磁體(7)與齒靴(4)相鄰的表面的面積小于對(duì)應(yīng)的齒靴的表面的面積。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于,所述齒靴(4) 的橫截面為直角三角形或等腰梯形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于,次級(jí)齒由高導(dǎo)磁材料構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于所述間隔板為非磁性材料。
6.一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),它包括初級(jí)、次級(jí)C3)和氣隙;次級(jí)C3)包括導(dǎo)磁板⑶和間隔板(9);導(dǎo)磁板⑶和間隔板(9)沿軸向依次相間排列,所述導(dǎo)磁板⑶沿圓周方向均勻分布設(shè)置有2η個(gè)平行齒,所述間隔板(9)與導(dǎo)磁板(8)的形狀相同,其中η為自然數(shù);其特征在于初級(jí)包括機(jī)殼(1)和多個(gè)相電樞單元(10);每個(gè)相電樞單元(10)由相單元電樞鐵心( 和相單元電樞繞組組成;相單元電樞鐵心O)為在內(nèi)圓周上均勻設(shè)置有 2η個(gè)初級(jí)齒的圓環(huán)鐵心,每個(gè)初級(jí)齒由平行齒身(6)和齒靴(4)構(gòu)成;所述齒靴(4)與次級(jí)(3)的平行齒之間形成氣隙,每個(gè)齒靴(4)與氣隙相鄰的兩個(gè)側(cè)面上沿軸向排列固定有 2i塊平板型永磁體(7),其中i為自然數(shù),每個(gè)相電樞單元(10)中共有2nX2i塊平板型永磁體(7),所有平板型永磁體(7)為平行充磁,所述充磁方向與其所在齒靴的平面相垂直,且沿軸向相鄰的永磁體的充磁方向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心( 上的、沿圓周方向相鄰的兩塊平板型永磁體(7)的充磁方向相反,沿軸向每相鄰兩塊永磁體的中心之間的距離τω與次級(jí)⑶中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系2τω= τρ,多個(gè)相電樞單元(10)沿軸向依次排列并固定在機(jī)殼(1)內(nèi),沿軸向相鄰兩個(gè)相電樞單元(10)之間的相單元電樞鐵心O)的中心之間的距離、與沿軸向次級(jí)(3)中相鄰兩個(gè)導(dǎo)磁板之間的距離τρ之間滿足關(guān)系、= kTp 士(1/m) τρ,其中k、m均為自然數(shù),當(dāng)電機(jī)為兩相電機(jī)時(shí),取m = 4,其余情況m等于電機(jī)的相數(shù),每個(gè)相單元電樞鐵心O)的初級(jí)齒的平行齒身 (6)上纏繞有一個(gè)線圈(5),沿圓周方向相鄰的兩個(gè)線圈(5)的繞向相反,位于同一個(gè)相單元電樞鐵心O)的所有初級(jí)齒上的線圈(5)串聯(lián)組成一個(gè)相單元電樞繞組,屬于同一相的相單元電樞繞組串聯(lián)或并聯(lián)組成該相的電樞繞組,所述樞繞組為集中繞組。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于,所述齒靴(4) 的橫截面為直角三角形或等腰梯形。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于,次級(jí)齒由高導(dǎo)磁材料構(gòu)成。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),其特征在于所述間隔板為非磁性材料。
全文摘要
高動(dòng)態(tài)圓筒形直線磁阻電機(jī),涉及電機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明解決了現(xiàn)有圓筒形永磁直線同步電機(jī)的電樞鐵心結(jié)構(gòu)存在的渦流損耗大、鐵心結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問題。本發(fā)明所述的直線磁阻電機(jī)由初級(jí)、次級(jí)以及氣隙構(gòu)成,初級(jí)包括機(jī)殼、初級(jí)鐵心、初級(jí)繞組以及永磁體,初級(jí)鐵心由圓筒形初級(jí)軛和初級(jí)齒構(gòu)成,初級(jí)齒由平行齒身和三角形或梯形齒靴構(gòu)成,永磁體為三角形或梯形平板,軸向充磁,沿圓周方向嵌放在齒靴上所開的槽中;初級(jí)繞組的線圈繞在齒身上;次級(jí)包括次級(jí)鐵心齒和間隔板,次級(jí)鐵心齒和間隔板呈輻射狀、二者沿運(yùn)動(dòng)方向依次相間排列;初級(jí)與次級(jí)同軸配置,二者之間為氣隙。本發(fā)明具有推力密度高、容錯(cuò)能力強(qiáng)、動(dòng)子質(zhì)量小、動(dòng)態(tài)響應(yīng)快以及易實(shí)現(xiàn)模塊化等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H02K41/03GK102158042SQ20111007416
公開日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2011年3月25日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月25日
發(fā)明者寇寶泉, 趙斌超, 金銀錫 申請(qǐng)人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)