本發(fā)明關(guān)于一種光學(xué)檢測機(jī)，特別是一種具活動式光源的光學(xué)檢測機(jī)。

背景技術(shù)：

地球上的能源隨著工業(yè)不斷的發(fā)展、進(jìn)步逐漸消耗殆盡，而人類不斷的消耗能源卻也造成了許多地球上的環(huán)保問題，如海平面上升、氣候異常變遷等嚴(yán)重的問題，導(dǎo)致許多可怕的自然災(zāi)害比以往更函劇烈。近幾年來國際原油價格不斷的飆漲，所以我們迫切的需要開發(fā)一種具永續(xù)性又低污染的新能源。太陽能恰擁有這兩種特性，太陽能的應(yīng)用在這十幾年間已運用的相當(dāng)廣泛，例如，家用的太陽能熱水器、太陽能式計算器等。汽車業(yè)更期望能把太陽能運用在于汽車能源上。因此，太陽能在未來的科技產(chǎn)業(yè)上占有相當(dāng)大的利勢。

要應(yīng)用太陽能就必須利用太陽能電池板，太陽能電池板的工藝技術(shù)上已有相當(dāng)?shù)乃剑枪に嚿蠠o可避免的仍會出現(xiàn)瑕疵，而這些細(xì)小的瑕疵卻有可能影響太陽能電池板的效能。因此，太陽能電池板在出廠前勢必需經(jīng)瑕疵檢測，以提高太陽能發(fā)電系統(tǒng)的使用效率。然而，目前太陽能電池板的光學(xué)檢測仍有光照均勻度不足的問題，使得太陽能電池板的瑕疵有可能藏于陰影中而無法被精確地檢測出。如此一來，將造成出廠的太陽能電池板的質(zhì)量下降。因此，如何提升太陽能電池板的光學(xué)檢測質(zhì)量，以確保出廠的太陽能電池板的質(zhì)量，則為研發(fā)人員應(yīng)解決的問題之一。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明在于提供一種光學(xué)檢測機(jī)，借以提升太陽能電池板的光學(xué)檢測質(zhì)量。

本發(fā)明的一實施例所揭露的光學(xué)檢測機(jī)，包含一架體及一光源。架體具有一光源設(shè)置空間、一待測物設(shè)置空間及一檢測口。光源設(shè)置空間位于待測物設(shè)置空間上方，且光源設(shè)置空間通過檢測口連通待測物設(shè)置空間。光源可滑動地位于光源設(shè)置空間，且光源的滑動方向非平行于檢測口的中心軸線，以令光源具有一檢測位置及一清除位置。當(dāng)光源位于檢測位置時，光源遮蓋檢測口。當(dāng)光源位于清除位置時，光源相對偏離檢測口的中心軸線而顯露出至部分部檢測口。

其中，該架體更具有一裝設(shè)口，該裝設(shè)口與該檢測口分別位于該光源設(shè)置空間的相異側(cè)，且該裝設(shè)口的中心軸線正交于該檢測口的中心軸線，該光源可自該裝設(shè)口滑入或退出該光源設(shè)置空間。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含一掀蓋，樞設(shè)于該架體，并遮蓋至少部分該裝設(shè)口。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含至少一滑動組件，該滑動組件包含一固定軌件及一活動軌件，該固定軌件裝設(shè)于該架體，該活動軌件裝設(shè)于該光源，該活動軌件可滑動地裝設(shè)于該固定軌件。

其中，該滑動組件更包含多個第一滾輪，該些第一滾輪設(shè)于該固定軌件的一側(cè)，且該些第一滾輪承載該活動軌件。

其中，該滑動組件更包含多個第二滾輪，該些第二滾輪設(shè)于該固定軌件的另一側(cè)，并相對于該些第一滾輪，且該些第二滾輪抵靠該活動軌件。

其中，該滑動組件更包含多個第三滾輪，該些第三滾輪設(shè)于該固定軌件的另一側(cè)，并相鄰于該些第一滾輪，且該些第三滾輪抵靠該活動軌件。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含一定位組件，該定位組件包含一第一定位塊、一第二定位塊及一定位銷，該第一定位塊裝設(shè)于該固定軌件，該第二定位塊裝設(shè)于該光源，該定位銷可分離地插設(shè)該第一定位塊與該第二定位塊，以令該光源位于該檢測位置。

其中，更包含一限位組件，該限位組件包含二第一限位擋塊及一第二限位擋塊，該二第一限位擋塊分別裝設(shè)于該固定軌件的相對兩端，該第二限位擋塊裝設(shè)于該光源，并可滑動地位于該二第一限位擋塊之間。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含二緩沖組件，該二緩沖組件分別介于該二第一限位擋塊與該第二限位擋塊之間。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含一磁性組件，設(shè)于該二第一限位擋塊之一，該第二限位擋塊的材質(zhì)為金屬，該磁性組件可分離地吸附于該第二限位擋塊，以令該光源位于該檢測位置。

其中，該至少一滑動組件的數(shù)量為二，該二滑動組件分別位于該光源設(shè)置空間的相對兩側(cè)。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含一影像捕獲設(shè)備，裝設(shè)于該架體，且該光源設(shè)置空間位于該影像捕獲設(shè)備與該待測物設(shè)置空間之間，并對應(yīng)于該檢測口。

其中，該光源為外同軸光源。

其中，該光源具有相對的一第一出光面及一第二出光面，該第一出光面朝向該檢測口。

其中，光學(xué)檢測機(jī)更包含一把手，該光源更具有一側(cè)面，該側(cè)面介于該第一出光面與該第二出光面之間，且該把手設(shè)置于該光源的該側(cè)面。

本發(fā)明的一實施例所揭露的光學(xué)檢測機(jī)，包含一架體及一光源。架體具有一底緣、一光源設(shè)置空間、一待測物設(shè)置空間及一檢測口。光源設(shè)置空間較待測物設(shè)置空間遠(yuǎn)離底緣，且光源設(shè)置空間通過檢測口連通待測物設(shè)置空間。光源位于光源設(shè)置空間，且光源可相對靠近或遠(yuǎn)離架體的底緣，以令光源具有一檢測位置及一清除位置。當(dāng)光源相對靠近底緣而位于檢測位置時，光源遮蓋鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間。當(dāng)光源相對遠(yuǎn)離底緣而位于清除位置時，鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間顯露于外。

其中，該光源可滑動地位于該光源設(shè)置空間，且該光源的滑動方向平行于該檢測口的中心軸線。

其中，該架體包含具有一容納架及多個支撐腳架，該些支撐腳架連接于該容納架底部，該底緣位于該些支撐腳架遠(yuǎn)離該容納架的一端，該光源固定于該容納架內(nèi)的該光源設(shè)置空間，該待測物設(shè)置空間位于該些支撐腳架之間，并通過位于該容納架的底部的該檢測口和該光源設(shè)置空間相連通。

其中，該架體包含具有一容納架及多個伸縮腳架，該些伸縮腳架連接于該容納架底部，該底緣位于該些伸縮腳架遠(yuǎn)離該容納架的一端，該光源固定于該容納架內(nèi)的該光源設(shè)置空間，該待測物設(shè)置空間位于該些伸縮腳架之間，并通過位于該容納架的底部的該檢測口和該光源設(shè)置空間相連通，該些伸縮腳架的長度可伸長或縮短，以令該光源可相對靠近或遠(yuǎn)離該架體的該底緣。

根據(jù)上述實施例的光學(xué)檢測機(jī)，光源可相對架體水平滑動，使得光源能夠遮蓋檢測口而位于檢測位置，或偏移至清除位置以顯露出至少部分檢測口。藉此能夠兼顧提升光學(xué)檢測機(jī)的檢測質(zhì)量與提升清潔破損碎裂的待測物的便利性。

此外，在部分實施例中，光源可相對架體的底緣垂直滑動，使得光源能夠光源遮蓋鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間而位于檢測位置，或偏移至清除位置以令鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間顯露于外。藉此能夠兼顧提升光學(xué)檢測機(jī)的檢測質(zhì)量與提升清潔破損碎裂的待測物的便利性。

以上關(guān)于本發(fā)明內(nèi)容的說明及以下實施方式的說明系用以示范與解釋本發(fā)明的原理，并且提供本發(fā)明的專利申請范圍更進(jìn)一步的解釋。

附圖說明

圖1為根據(jù)本發(fā)明第一實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

圖2為圖1的光源外拉的立體示意圖。

圖3為圖1的光學(xué)檢測機(jī)去除光源與傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

圖4為圖1的架體搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

圖5為圖1的光源與滑動組件的立體示意圖。

圖6為圖5的分解示意圖。

圖7至圖8為圖1的光源的作動示意圖。

圖9為圖7的立體示意圖。

圖10為根據(jù)本發(fā)明第二實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

圖11為圖10的光源上移的立體示意圖。

圖12為根據(jù)本發(fā)明第三實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

圖13為圖12的光源上移的立體示意圖。

其中，附圖標(biāo)記：

10、10a、10b光學(xué)檢測機(jī)

20傳輸機(jī)構(gòu)

22傳輸帶

24背景板

30待測物

30’破損碎裂的待測物

100架體

110光源設(shè)置空間

120待測物設(shè)置空間

130檢測口

140裝設(shè)口

150容納架

160支撐腳架

160b伸縮腳架

170底緣

200光源

210第一出光面

220第二出光面

230側(cè)面

300掀蓋

400滑動組件

500定位組件

600限位組件

700緩沖組件

800磁性組件

850影像捕獲設(shè)備

900把手

a、b、c方向

l1、l2中心軸線

s、s’滑動方向

具體實施方式

請參閱圖1至圖4。圖1為根據(jù)本發(fā)明第一實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。圖2為圖1的光源外拉的立體示意圖。圖3為圖1的光學(xué)檢測機(jī)去除光源與傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。圖4為圖1的架體搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。

本實施例的光學(xué)檢測機(jī)10包含一架體100、一光源200、一掀蓋300及一影像捕獲設(shè)備850。

架體100具有一光源設(shè)置空間110、一待測物設(shè)置空間120、一檢測口130及一裝設(shè)口140。光源設(shè)置空間110位于待測物設(shè)置空間120上方，且光源設(shè)置空間120通過檢測口130連通待測物設(shè)置空間120。其中，待測物設(shè)置空間120供一傳輸機(jī)構(gòu)20穿設(shè)，傳輸機(jī)構(gòu)20包含一傳輸帶22及一背景板24。傳輸帶22用以令待檢測的物品沿一傳送路徑移動。背景板24例如為中空方形的板體，并固定于傳輸帶22對應(yīng)檢測口130下方的位置。此外，背景板24位于傳輸帶22的傳送路徑上，使得待檢測的物品可受傳輸帶22傳輸而移動至背景板24上方。裝設(shè)口140與檢測口130分別位于光源設(shè)置空間110的相異側(cè)，且裝設(shè)口140的中心軸線l2正交于檢測口130的中心軸線l1。其中，上述的背景板24例如為黑色板金材(抑光板)。當(dāng)待測物被打光時，背景板24的黑色背景可突顯待測物，以方便算法的前后景分離(定位用)。待檢測的物品例如為太陽能電池。

光源200可自裝設(shè)口140滑入或退出光源設(shè)置空間110，且光源200的滑動方向(如箭頭s所指示的方向)非平行于檢測口130的中心軸線l1，以令光源200具有一檢測位置(如圖1所示)及一清除位置(如圖2所示)。當(dāng)光源200位于檢測位置時，光源200遮蓋檢測口130，當(dāng)光源200位于清除位置時，光源200相對偏離檢測口130的中心軸線l1而顯露出至部分部檢測口130。值得注意的是，在本實施例中，光源200的滑動方向(如箭頭s所指示的方向)正交于檢測口130的中心軸線l1，但并不以此為限，在其他實施例中，光源200的滑動方向也可以和檢測口130的中心軸線l1夾一銳角。

在本實施例中，光源200例如為外同軸光源，并具有相對的一第一出光面210、一第二出光面220及一側(cè)面230。光源200的第一出光面210朝向檢測口130。側(cè)面230介于第一出光面210與第二出光面220之間，并背向裝設(shè)口140。

掀蓋300樞設(shè)于架體100，并遮蓋部分裝設(shè)口140。當(dāng)光源200位于檢測位置時，掀蓋300遮蓋住光源200與架體100的間隙，以提升光學(xué)檢測機(jī)10的檢測質(zhì)量。值得注意的是，在本實施例中，掀蓋300遮蓋部分裝設(shè)口140，但并不以此為限，在其他實施例中，掀蓋300也可以遮蓋全部裝設(shè)口140或是也可以無設(shè)置掀蓋300。

接著進(jìn)一步說明光源200與架體100之間的滑動關(guān)系，請參閱圖3至圖6。圖5為圖1的光源與滑動組件的立體示意圖。圖6為圖5的分解示意圖。在本實施例中，光學(xué)檢測機(jī)10更包含二滑動組件400、二定位組件500、二限位組件600、四緩沖組件700及四磁性組件800。上述各組件皆分為兩組，且兩組分別位于光源200的左右兩側(cè)。以下為方便說明，各組件的架構(gòu)僅以一組為單位進(jìn)行說明。

滑動組件400包含一固定軌件410及一活動軌件420。固定軌件410裝設(shè)于架體100?；顒榆壖?20裝設(shè)于光源200，且活動軌件420可滑動地裝設(shè)于固定軌件410，以令光源200可相對架體100滑動。

此外，為提升光源200的滑動順暢度與質(zhì)量，滑動組件400更包含多個第一滾輪430、多個第二滾輪440及多個第三滾輪450。固定軌件410這些第一滾輪430設(shè)于固定軌件410的一側(cè)，且這些第一滾輪承載活動軌件420。這些第二滾輪440設(shè)于固定軌件410的另一側(cè)，并相對于這些第一滾輪430，且這些第二滾輪440抵靠活動軌件420。這些第三滾輪450設(shè)于固定軌件410的另一側(cè)，并相鄰于這些第一滾輪430，且這些第三滾輪450抵靠固定軌件410。

定位組件500包含一第一定位塊510、一第二定位塊520及一定位銷530。第一定位塊510裝設(shè)于固定軌件410。第二定位塊520裝設(shè)于光源200的側(cè)面230。定位銷530可分離地插設(shè)第一定位塊510與第二定位塊520，以令光源200定位于檢測位置。

限位組件600包含二第一限位擋塊610及一第二限位擋塊620。二第一限位擋塊610分別裝設(shè)于固定軌件410的相對兩端。第二限位擋塊620裝設(shè)于光源200，并可滑動地位于二第一限位擋塊610之間，以局限光源200的位移距離。

二緩沖組件700例如為彈簧或阻尼，并分別介于二第一限位擋塊610與第二限位擋塊620之間。詳細(xì)來說，在本實施例中，二緩沖組件700是設(shè)于二第一限位擋塊610上，以令光源200滑移至檢測位置或清除位置時，能受到緩沖組件700的作用而減輕振動幅度。但并不以此為限，在其他實施例中，二緩沖組件700也可以設(shè)于第二限位擋塊620的相對兩側(cè)，以可以達(dá)到相似的緩沖效果。

二磁性組件800分別設(shè)于二第一限位擋塊610，且第二限位擋塊620的材質(zhì)為金屬，使磁性組件800可分離地吸附于第二限位擋塊，以令光源200受磁力吸附而定位于檢測位置或清除位置。在本實施例中，光源200單一側(cè)的磁性組件800的數(shù)量為二，但并不以此為限，在其他實施例中，光源200單一側(cè)的磁性組件800的數(shù)量也可以為單個，并僅設(shè)置于其中一第一限位擋塊610，以令光源200受磁力吸附而定位于檢測位置。

影像捕獲設(shè)備850例如為攝影機(jī)。影像捕獲設(shè)備850裝設(shè)于架體100，且光源設(shè)置空間110位于影像捕獲設(shè)備850與待測物設(shè)置空間120之間。影像捕獲設(shè)備850的攝影范圍對應(yīng)于檢測口130，使得影像捕獲設(shè)備850能夠通過檢測口130拍攝位于背景板24上方的待檢測物品。

在本實施例中，光學(xué)檢測機(jī)10更包含一把手900。把手900設(shè)置于光源200的側(cè)面230。把手900可供使用者握持，以便于將光源200向外推至清除位置，或向內(nèi)拉回檢測位置。

請參閱圖7至圖9。圖7至圖8為圖1的光源的作動示意圖。圖9為圖7的立體示意圖。

如圖3與圖7所示，當(dāng)光源200位于檢測位置時，光源200會遮蓋于檢測口130上方，且光源200的第一出光面210會對準(zhǔn)架體100的檢測口130。使得光源200所發(fā)出的光線先從第一出光面210射出并投向位于背景板24上方的待測物30。接著，投射至待測物30后的光線經(jīng)待測物30與背景板24的反射，會自光源200的第二出光面220射出并投向架體100上方的影像捕獲設(shè)備850，以受影像捕獲設(shè)備850擷取影像。藉由影像捕獲設(shè)備850所拍攝出的影像來判斷待測物30是否符合規(guī)范，即可判斷待測物30是否存在瑕疵。此外，因本實施例的光源200為同軸光源，與傳統(tǒng)的照明裝置相比，同軸光源對待測物30的照明較為均勻、明亮，故能夠提升本實施例的光學(xué)檢測機(jī)10的檢測質(zhì)量。

如圖8與圖9所示，由于在檢測過程中，待測物30有可能會發(fā)生破損、碎裂的狀況。當(dāng)破損、碎裂的狀況發(fā)生時，破損的待測物30’不會隨傳輸帶22前進(jìn)而殘留于背景板24上。此時，破損的待測物30’就會干擾后續(xù)待測物30的檢測結(jié)果。因此，當(dāng)待測物有破損碎裂的狀況發(fā)生時，則有清除的必要。當(dāng)使用者要清除破損碎裂的待測物30’時，使用者可沿箭頭a所指示的方向?qū)⒐庠?00向外推，使光源200相對偏離檢測口130的中心軸線l1而顯露出至部分部檢測口130與位于檢測口130下方的背景板24。如此一來，將有助于使用者清除破損碎裂的待測物30’，而提升清潔破損碎裂的待測物30’的便利性。

請參閱圖10至圖11。圖10為根據(jù)本發(fā)明第二實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。圖11為圖10的光源上移的立體示意圖。

本實施例的光學(xué)檢測機(jī)10a包含一架體100及一光源200。架體100包含具有一容納架150及多個支撐腳架160。這些支撐腳架160連接于容納架150底部。容納架150具有一光源設(shè)置空間110以及一檢測口130。檢測口130位于光源設(shè)置空間110靠近這些支撐腳架160的一側(cè)。這些支撐腳架160圍繞出待測物設(shè)置空間120，且待測物設(shè)置空間120通過位于容納架150的底部的檢測口130和光源設(shè)置空間110相連通。架體100的底緣170位于這些支撐腳架160遠(yuǎn)離容納架150的一端。

光源200可滑動地位于光源設(shè)置空間110，且光源200的滑動方向s’平行于檢測口130的中心軸線l1，使得光源200可相對靠近或遠(yuǎn)離架體100的底緣170，以令光源200具有一檢測位置(如圖10所示)及一清除位置(如圖11所示)。

如圖10所示，當(dāng)光源200相對靠近底緣170而位于檢測位置時，光源200遮蓋鄰近檢測口130下方的待測物設(shè)置空間120。

如圖11所示，當(dāng)光源200沿箭頭b所指示的方向相對遠(yuǎn)離底緣170而位于清除位置時，鄰近檢測口130下方的待測物設(shè)置空間120顯露于外，以便于使用者要清除破損碎裂的待測物。

上述實施例中，光源200分別是以可水平與垂直滑動的方式設(shè)置于架體100，但并不以此為限，請參閱圖12至圖13。圖12為根據(jù)本發(fā)明第三實施例所述的光學(xué)檢測機(jī)搭配傳輸機(jī)構(gòu)的立體示意圖。圖13為圖12的光源上移的立體示意圖。

本實施例的光學(xué)檢測機(jī)10b包含一架體100及一光源200。架體100包含具有一容納架150及多個伸縮腳架160b。這些伸縮腳架160b連接于容納架150底部，且這些伸縮腳架160b的長度可伸長或縮短。容納架150具有一光源設(shè)置空間110以及一檢測口130。檢測口130位于光源設(shè)置空間110靠近這些伸縮腳架160b的一側(cè)。這些伸縮腳架160b圍繞出待測物設(shè)置空間120，且待測物設(shè)置空間120通過位于容納架150的底部的檢測口130和光源設(shè)置空間110相連通。架體100的底緣170位于這些伸縮腳架160b遠(yuǎn)離容納架150的一端。

光源200位于光源設(shè)置空間110內(nèi)，并固定于容納架150。由于上述的這些伸縮腳架160b的長度可伸長或縮短，以令光源200可相對靠近或遠(yuǎn)離架體100的底緣170，以令光源200具有一檢測位置(如圖12所示)及一清除位置(如圖13所示)。

如圖12所示，當(dāng)光源200相對靠近底緣170而位于檢測位置時，光源200遮蓋鄰近檢測口130下方的待測物設(shè)置空間120。

如圖13所示，當(dāng)這些伸縮腳架160b的長度伸長，使得光源200沿箭頭所指示的方向相對遠(yuǎn)離底緣170而位于清除位置時，鄰近檢測口130下方的待測物設(shè)置空間120顯露于外，以便于使用者要清除破損碎裂的待測物。

根據(jù)上述實施例的光學(xué)檢測機(jī)，光源可相對架體水平滑動，使得光源能夠遮蓋檢測口而位于檢測位置，或偏移至清除位置以顯露出至少部分檢測口。藉此能夠兼顧提升光學(xué)檢測機(jī)的檢測質(zhì)量與提升清潔破損碎裂的待測物的便利性。

此外，在部分實施例中，光源可相對架體的底緣垂直滑動，使得光源能夠光源遮蓋鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間而位于檢測位置，或偏移至清除位置以令鄰近檢測口下方的待測物設(shè)置空間顯露于外。藉此能夠兼顧提升光學(xué)檢測機(jī)的檢測質(zhì)量與提升清潔破損碎裂的待測物的便利性。

當(dāng)然，本發(fā)明還可有其它多種實施例，在不背離本發(fā)明精神及其實質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。