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分體絕緣母線槽的制作方法

文檔序號:11083079閱讀:639來源:國知局
分體絕緣母線槽的制造方法與工藝
本實(shí)用新型涉及配電設(shè)備技術(shù),尤其是一種分體絕緣母線槽。
背景技術(shù)
:現(xiàn)有的分體絕緣母線槽包括殼體,殼體內(nèi)并行設(shè)有多條導(dǎo)體,為了保證各導(dǎo)體之間的絕緣,現(xiàn)有的作法在導(dǎo)體表面纏繞絕緣膜,絕緣膜通過包覆的方式將導(dǎo)體包裹,該結(jié)構(gòu)具有如下缺陷:1、絕緣膜在包覆導(dǎo)體時,需要加熱成型,增加了加工工藝,工藝更復(fù)雜,且合理的形狀和尺寸較難控制;2、絕緣膜一般采用聚脂材料或其它絕緣材料制成,在加熱彎折時,絕緣材料局部會因高溫而遭受不同程度的破壞,根據(jù)八度原則,勢必影響產(chǎn)品的運(yùn)行安全和使用壽命;3、絕緣膜在包覆導(dǎo)體時,因絕緣膜的形狀和尺寸與導(dǎo)體間不可能完全地貼合一起,勢必會在導(dǎo)體與殼體之間產(chǎn)生大量的留空,而留空對于分體絕緣母線槽的溫升是非常致命的,將導(dǎo)致導(dǎo)體的溫升高、阻抗大,運(yùn)行過程中線損大,能耗高。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的主要目的是提供一種分體絕緣母線槽,旨在簡化導(dǎo)體表面絕緣層的加工工藝,并延長其使用壽命。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提出包括分體絕緣母線槽包括殼體和并行排列在所述殼體內(nèi)的多片導(dǎo)體,每片所述導(dǎo)體的周側(cè)面均包設(shè)有絕緣層;所述絕緣層包括設(shè)置在所述導(dǎo)體兩側(cè)的絕緣片和設(shè)置在所述導(dǎo)體兩端的絕緣塊;所述絕緣塊與所述導(dǎo)體的端面相適配,所述絕緣片與所述導(dǎo)體的側(cè)面相適配;所述絕緣塊與所述絕緣片之間具有用于防止所述絕緣片向背離所述導(dǎo)體側(cè)面的方向移動而脫離所述絕緣塊的配合結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地,所述配合結(jié)構(gòu)包括滑槽和能在所述滑槽內(nèi)滑動的滑塊,所述滑槽或滑塊的滑動方向沿所述導(dǎo)體的長度方向。優(yōu)選地,所述滑槽的橫截面為弧形或燕尾形。優(yōu)選地,所述配合結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述絕緣塊的側(cè)面與所述絕緣片之間。優(yōu)選地,所述配合結(jié)構(gòu)包括設(shè)置在所述絕緣塊端面上的第一配合面和設(shè)置在所述絕緣片端面上與所述第一配合面相適配的第二配合面。優(yōu)選地,所述第一配合面呈鋸齒狀或波浪狀。優(yōu)選地,所述配合結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述絕緣塊的端面與所述絕緣片之間。優(yōu)選地,所述絕緣塊與所述導(dǎo)體配合的端面為內(nèi)凹的圓弧面。優(yōu)選地,所述絕緣塊的端面上向內(nèi)開設(shè)有矩形凹槽,所述矩形凹槽內(nèi)壁與所述導(dǎo)體配合。優(yōu)選地,所述絕緣塊的端面上向內(nèi)開設(shè)有梯形凹槽,且所述梯形凹槽的開口由內(nèi)而外逐漸變大,所述梯形凹槽內(nèi)壁與所述導(dǎo)體配合。。本實(shí)用新型技術(shù)方案中,由絕緣塊和絕緣片代替現(xiàn)有技術(shù)中的絕緣膜實(shí)現(xiàn)對導(dǎo)體的絕緣,由于絕緣塊、絕緣片、導(dǎo)體之間彼此配合,滿足導(dǎo)體與絕緣塊和絕緣片之間的無間隙,通過配合結(jié)構(gòu)連接絕緣塊與絕緣片,將導(dǎo)體限定在絕緣塊與絕緣片圍設(shè)的空間內(nèi),在加工過程中,不需要高溫彎折,工藝更簡單,裝配效率更高,且使用壽命更長。附圖說明為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型分體絕緣母線槽第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1中單個導(dǎo)體與絕緣層裝配的局部放大示意圖;圖3為本實(shí)用新型分體絕緣母線槽第二實(shí)施例中單個導(dǎo)體與絕緣層裝配的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4為本實(shí)用新型分體絕緣母線槽第三實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖5為圖4中單個導(dǎo)體與絕緣層裝配的局部放大示意圖。附圖標(biāo)號說明:標(biāo)號名稱標(biāo)號名稱1殼體52絕緣塊2頂部絕緣支架52a第一配合面3底部絕緣之間52b圓弧面20安裝槽52c矩形凹槽4導(dǎo)體52d梯形凹槽5絕緣層6配合結(jié)構(gòu)51絕緣片61滑槽51a第二配合面62滑塊本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例,參照附圖做進(jìn)一步說明。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說明,本實(shí)用新型實(shí)施例中所有方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運(yùn)動情況等,如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時,則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外,在本實(shí)用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。在本實(shí)用新型的描述中,“多個”的含義是至少兩個,例如兩個,三個等,除非另有明確具體的限定。在本實(shí)用新型中,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“連接”、“固定”等應(yīng)做廣義理解,例如,“固定”可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或成一體;可以是機(jī)械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關(guān)系,除非另有明確的限定。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本實(shí)用新型中的具體含義。另外,本實(shí)用新型各個實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合,但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ),當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實(shí)現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在,也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型提出一種導(dǎo)向槽。請參照圖1,在本實(shí)用新型實(shí)施例一中,所述分體絕緣母線槽包括殼體1、設(shè)置在殼體1內(nèi)的頂部絕緣支架2、底部絕緣支架3和并行排列在所述頂部絕緣支架2與底部絕緣支架3之間的多片導(dǎo)體4,每片所述導(dǎo)體4的周側(cè)面均包設(shè)有絕緣層5;所述絕緣層5包括設(shè)置在所述導(dǎo)體4兩側(cè)的絕緣片51和設(shè)置在所述導(dǎo)體4兩端的絕緣塊52;所述絕緣塊52與所述導(dǎo)體4的端面相適配,所述絕緣片51與所述導(dǎo)體4的側(cè)面相適配;所述絕緣塊52與所述絕緣片51之間具有用于防止所述絕緣片51向背離所述導(dǎo)體4側(cè)面的方向移動而脫離所述絕緣塊52的配合結(jié)構(gòu)6。這里的配合結(jié)構(gòu)6可以是滑槽與滑塊的配合,還可以是曲面與曲面的配合,此外,配合結(jié)構(gòu)6可設(shè)置在絕緣塊52的側(cè)面與絕緣片51的側(cè)面之間,還可以設(shè)置在絕緣塊52的端面與絕緣片51的端面之間。本實(shí)用新型技術(shù)方案中,由絕緣塊52和絕緣片51代替現(xiàn)有技術(shù)中的絕緣膜實(shí)現(xiàn)對導(dǎo)體4的絕緣,由于絕緣塊52、絕緣片51、導(dǎo)體4之間彼此配合,滿足導(dǎo)體4與絕緣塊52和絕緣片51之間的緊密貼合,通過配合結(jié)構(gòu)6連接絕緣塊52與絕緣片51,將導(dǎo)體4限定在絕緣塊52與絕緣片51圍設(shè)的空間內(nèi),在加工過程中,不需要高溫彎折,工藝更簡單,裝配效率更高,且使用壽命更長。優(yōu)選地,參見圖2,所述配合結(jié)構(gòu)6包括滑槽61和能在所述滑槽61內(nèi)滑動的滑塊62,所述滑槽61或滑塊62的滑動方向沿所述導(dǎo)體4的長度方向。安裝時,首先將絕緣塊52對應(yīng)安裝在頂部絕緣支架2、底部絕緣支架3的安裝槽20內(nèi),再將導(dǎo)體4安裝在兩絕緣塊52之間,最后再沿著導(dǎo)體4的長度方向?qū)⒔^緣片51的滑槽61對應(yīng)插入到滑塊62上,實(shí)現(xiàn)絕緣層5與導(dǎo)體4的無間隙安裝,上述的結(jié)構(gòu)簡單,易于安裝。優(yōu)選地,所述滑槽61的橫截面為弧形或燕尾形?;?1與滑塊62在配合后,在垂直于滑動方向上不能脫離,實(shí)現(xiàn)了絕緣片51與絕緣塊52的連接。優(yōu)選地,所述配合結(jié)構(gòu)6設(shè)置在所述絕緣塊的側(cè)面與所述絕緣片的側(cè)面之間。由于絕緣塊52的厚度遠(yuǎn)大于絕緣片51的厚度,上述的結(jié)構(gòu)加工在絕緣片51的側(cè)面上比較容易,能夠節(jié)約加工成本。實(shí)施例二在上述實(shí)施例一的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步參見圖4、圖5,所述配合結(jié)構(gòu)6包括設(shè)置在所述絕緣塊端面上的第一配合面52a和設(shè)置在所述絕緣片端面上與所述第一配合面相適配的第二配合面51a。在本方案一優(yōu)選實(shí)施例中,所述第一配合面52a呈鋸齒狀或波浪狀。由于上述的配合面不需要較厚的尺寸,因此所述配合結(jié)構(gòu)6可設(shè)置在所述絕緣塊52的端面與所述絕緣片51的端面之間。為了在安裝過程中對導(dǎo)體4進(jìn)行限位,參見圖2,方便安裝,在本方案一優(yōu)選實(shí)施例中,所述絕緣塊52與所述導(dǎo)體4配合的端面為內(nèi)凹的圓弧面52b。實(shí)施例三在本方案另一優(yōu)選實(shí)施例中,參見圖3,所述絕緣塊52的端面上向內(nèi)開設(shè)有矩形凹槽52c,所述矩形凹槽52c內(nèi)壁與所述導(dǎo)體4配合。在本方案又一優(yōu)選實(shí)施例中,參見圖5,所述絕緣塊52的端面上向內(nèi)開設(shè)有梯形凹槽52d,所述梯形凹槽52d的開口由內(nèi)而外逐漸變大,所述梯形凹槽52d內(nèi)壁與所述導(dǎo)體4配合。上述方案,將導(dǎo)體4安裝在兩絕緣塊52之間時,由于圓弧面52b、矩形凹槽52c或梯形凹槽52d與導(dǎo)體4的上下端部配合,限定了導(dǎo)體4的移動,在后面安裝絕緣片51時,導(dǎo)體4不會相對絕緣塊52移動,因此方便了安裝。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是在本實(shí)用新型的構(gòu)思下,利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換,或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域
均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3 
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