主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述主軸馬達(dá)具有轉(zhuǎn)子部、軸承部、定子部以及基底部，所述基底部通過(guò)鑄造成型，并將轉(zhuǎn)子部、軸承部、定子部容納在內(nèi)部。基底部具有：平板部，所述平板部相對(duì)于中心軸線朝向徑向擴(kuò)展；以及壁部，所述壁部從平板部的徑向外側(cè)的外緣沿軸向延伸。壁部具有安裝罩部件的安裝部件所在的孔部，且支承罩部件的至少一部分?；撞康膬?nèi)側(cè)的面具有已被切削加工的金屬面?；撞烤哂形挥诮饘倜媾c孔部之間的凹部。凹部朝向軸向上的任意一側(cè)凹陷，且在與中心軸線正交的水平方向上與金屬面以及孔部中的至少一方重疊。
【專利說(shuō)明】
主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在硬盤驅(qū)動(dòng)裝置等盤驅(qū)動(dòng)裝置中，隨著盤片的記錄密度增加，要求高精度地控制盤片的旋轉(zhuǎn)和頭的移動(dòng)等。在日本專利公開(kāi)公報(bào)第2006-40423號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的HDD(硬盤驅(qū)動(dòng)裝置)中，由于將內(nèi)部的氣體設(shè)為氦氣或氫氣等低密度氣體，因此在主軸馬達(dá)旋轉(zhuǎn)時(shí)能夠降低氣體對(duì)盤片或頭的阻礙。由此，能夠抑制盤片或頭的振動(dòng)，并能夠精確地記錄數(shù)據(jù)。這種盤驅(qū)動(dòng)裝置具有將SPCC等板材或鋁合金的鑄造進(jìn)行加工而形成的基底。
[0003]然而，在裝設(shè)于HDD的主軸馬達(dá)(以下，簡(jiǎn)稱“馬達(dá)”)中，有的主軸馬達(dá)的基底為HDD的機(jī)殼的一部分。如日本專利公開(kāi)公報(bào)第2006-40423號(hào)公報(bào)所不的那樣，在向HDD內(nèi)部充填氦等氣體時(shí)，例如，由于氦氣的分子極小，因此容易從HDD內(nèi)部泄漏到外部。在上述的這種主軸馬達(dá)中，由于基底通過(guò)鑄造制成，因此有可能存在在基底產(chǎn)生砂眼的情況。砂眼例如會(huì)露到已被切削加工的基底表面。因此，砂眼有可能經(jīng)過(guò)被切削加工的基底表面，將基底的內(nèi)部和外部連通。由此，存在有填充到基底內(nèi)部的氦等氣體泄漏到基底的外部的問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述主軸馬達(dá)具有能夠防止填充到內(nèi)部的氣體泄漏的結(jié)構(gòu)。
[0005]本申請(qǐng)所例示的一實(shí)施方式的主軸馬達(dá)為用于盤驅(qū)動(dòng)裝置中并安裝有盤驅(qū)動(dòng)裝置所帶有的罩部件的主軸馬達(dá)。該主軸馬達(dá)具有:轉(zhuǎn)子部，所述轉(zhuǎn)子部繞沿上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)，且具有轉(zhuǎn)子磁鐵；軸承部，所述軸承部將轉(zhuǎn)子部支承為能夠繞中心軸線旋轉(zhuǎn)；定子部，所述定子部與轉(zhuǎn)子磁鐵相向；以及基底部，所述基底部通過(guò)鑄造成型，且將轉(zhuǎn)子部、軸承部以及定子部容納于內(nèi)部。基底部具有:平板部，所述平板部相對(duì)于中心軸線朝向徑向擴(kuò)展；以及壁部，所述壁部從平板部的徑向外側(cè)的外緣沿軸向延伸。壁部具有安裝罩部件的安裝部件所在的孔部，且支承罩部件的至少一部分，基底部的內(nèi)側(cè)的面具有已被切削加工的金屬面?；撞烤哂形挥诮饘倜媾c孔部之間的凹部。凹部朝向軸向上的任一側(cè)凹陷，且在與中心軸線正交的水平方向上與金屬面以及孔部中的至少一個(gè)重疊。
[0006]盤驅(qū)動(dòng)裝置具有:上述的主軸馬達(dá)；盤片，所述盤片被主軸馬達(dá)支承；存取部，所述存取部對(duì)盤片實(shí)施信息讀取以及信息寫入中的至少任一方；罩部件，所述罩部件安裝于主軸馬達(dá)的基底部；以及安裝部件，所述安裝部件將罩部件安裝于主軸馬達(dá)的基底部。罩部件具有與壁部的上表面接觸的密封部。密封部位于比孔部靠徑向內(nèi)側(cè)的位置。
[0007]根據(jù)本申請(qǐng)所例示的一實(shí)施方式，提供一種主軸馬達(dá)以及盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述主軸馬達(dá)具有能夠防止填充到內(nèi)部的氣體泄漏的結(jié)構(gòu)。
[0008]有以下的本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)說(shuō)明，參照附圖，可以更清楚地理解本發(fā)明的上述及其他特征、要素、步驟、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為示出第一實(shí)施方式中的盤驅(qū)動(dòng)裝置的剖視圖。
[0010]圖2為示出第一實(shí)施方式中的盤驅(qū)動(dòng)裝置的局部的剖視圖。
[0011]圖3為示出第一實(shí)施方式中的主軸馬達(dá)的局部的俯視圖。
[0012]圖4為示出第二實(shí)施方式中的盤驅(qū)動(dòng)裝置的局部的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的馬達(dá)進(jìn)行說(shuō)明。另外，本發(fā)明的范圍不限定于以下的實(shí)施方式，在本發(fā)明的技術(shù)思想的范圍內(nèi)可以任意變更。此外，在以下的附圖中，為了容易理解各結(jié)構(gòu)，而存在有使各結(jié)構(gòu)中的比例尺以及數(shù)量等與實(shí)際結(jié)構(gòu)中的比例尺以及數(shù)量等不同的情況。
[0014]并且，在附圖中，為了方便起見(jiàn)，作為三維正交坐標(biāo)系示出XYZ坐標(biāo)系。在XYZ坐標(biāo)系中，Z軸方向作為與圖1所示的中心軸線J的軸向平行的方向。Y軸方向作為與Z軸方向正交的方向即圖1的左右方向。X軸方向作為與Z軸方向以及Y軸方向這兩個(gè)方向正交的方向。并且，以中心軸線J為中心的周向作為θζ方向。
[0015]并且，在以下的說(shuō)明中，將中心軸線J所延伸的方向(Ζ軸方向)作為上下方向。有時(shí)將Z軸方向的正側(cè)(+Z側(cè))稱為“上側(cè)(軸向上側(cè))”，將Z軸方向的負(fù)側(cè)(-Z側(cè))稱為“下側(cè)(軸向下側(cè))”。另外，上下方向、上側(cè)以及下側(cè)只是為了說(shuō)明而使用的名稱，并不表示組裝到實(shí)際設(shè)備時(shí)的位置關(guān)系和方向。并且，只要不特殊要求，有時(shí)將與中心軸線J平行的方向(Ζ軸方向)簡(jiǎn)稱為“軸向”，將以中心軸線J為中心的徑向簡(jiǎn)稱為“徑向”，將以中心軸線J為中心的周向(θζ方向)簡(jiǎn)稱為“周向”。
[0016]另外，在本說(shuō)明書(shū)中，沿軸向延伸不僅指嚴(yán)格意義上的沿軸向(Ζ軸方向)延伸的情況，還包括相對(duì)于軸向沿傾斜不足45°的范圍的方向延伸的情況。并且，在本說(shuō)明書(shū)中，沿徑向擴(kuò)展不僅指嚴(yán)格意義上的沿徑向擴(kuò)展，也就是說(shuō)不僅指朝向垂直于軸向(Ζ軸方向)的方向擴(kuò)展的情況，還包括朝向相對(duì)于徑向沿傾斜不足45 °的范圍的方向擴(kuò)展的情況。
[0017]〈第一實(shí)施方式〉
[0018]圖1為示出本實(shí)施方式的盤驅(qū)動(dòng)裝置I的剖視圖。圖2為示出盤驅(qū)動(dòng)裝置I的局部的剖視圖。
[0019]盤驅(qū)動(dòng)裝置I為硬盤驅(qū)動(dòng)裝置。如圖1所示，盤驅(qū)動(dòng)裝置I具有主軸馬達(dá)2、多個(gè)盤片5、存取部3以及罩部件4。也就是說(shuō)，本實(shí)施方式的主軸馬達(dá)2用于盤驅(qū)動(dòng)裝置I。
[0020]主軸馬達(dá)2使多個(gè)盤片5繞中心軸線J(土 θ ζ方向)旋轉(zhuǎn)。主軸馬達(dá)2具有基底部40、轉(zhuǎn)子部10、軸承部20以及定子部30。
[0021]基底部40為朝向上側(cè)開(kāi)口的箱體狀?；撞?0將盤片5、存取部3、轉(zhuǎn)子部10、軸承部20以及定子部30容納于內(nèi)部。基底部40具有平板部41、壁部42以及定子支承部48。平板部41相對(duì)于中心軸線J朝向徑向擴(kuò)展。
[0022]壁部42從平板部41的徑向外側(cè)的外緣沿軸向延伸。壁部42具有孔部，即螺紋孔42d0也就是說(shuō)，在本實(shí)施方式中，孔部的內(nèi)側(cè)具有螺牙。在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d從壁部42的上表面即壁部上表面42a朝向下側(cè)凹陷。
[0023]定子支承部48從平板部41的上表面即平板部上表面41a朝向上側(cè)突出。關(guān)于基底部40的其他結(jié)構(gòu)將在后面詳細(xì)敘述。
[0024]轉(zhuǎn)子部10繞沿上下方向延伸的中心軸線J(土 θ z方向)旋轉(zhuǎn)。轉(zhuǎn)子部10具有夾緊部件11、轉(zhuǎn)子輪轂12以及轉(zhuǎn)子磁鐵13。夾緊部件11支承多個(gè)盤片5。
[0025]軸承部20將轉(zhuǎn)子部10支承為能夠繞中心軸線J(± θ z方向)旋轉(zhuǎn)。軸承部20具有軸21以及套筒22。軸21固定于基底部40。軸21與套筒22之間隔著間隙相向。在軸21與套筒22之間的間隙填充有潤(rùn)滑油、氣體等流體。
[0026]定子部30具有定子鐵芯32和多個(gè)線圈31。定子鐵芯32被定子支承部48支承。定子鐵芯32例如為將磁性體層疊多個(gè)的層疊結(jié)構(gòu)體。定子鐵芯32具有朝向徑向外側(cè)突出的多個(gè)凸極33。在多個(gè)凸極33的每一個(gè)上卷繞有線圈31。線圈31與轉(zhuǎn)子磁鐵13隔著間隙在徑向上相向。也就是說(shuō)，定子部30與轉(zhuǎn)子磁鐵13相向。
[0027]罩部件4安裝于主軸馬達(dá)2。更為詳細(xì)地說(shuō)，罩部件4安裝于基底部40。罩部件4位于壁部42的上端，并封閉主軸馬達(dá)2的上側(cè)的開(kāi)口。罩部件4例如為平板狀。
[0028]如圖2所示，在本實(shí)施方式中，罩部件4利用安裝部件即螺釘70固定于基底部40。也就是說(shuō)，盤驅(qū)動(dòng)裝置I具有將罩部件4安裝于基底部40的安裝部件。螺釘70穿過(guò)將罩部件4沿軸向貫通的罩部件貫通孔4b被緊固到螺紋孔42d中。也就是說(shuō)，螺釘70位于螺紋孔42b中。由此，能夠?qū)⒄植考?牢固地固定于基底部40。
[0029]另外，在本發(fā)明中，安裝罩部件的安裝部件包括:將罩部件固定于基底部的部件；以及將罩部件定位到基底部的部件。
[0030]罩部件4具有密封部4a。密封部4a為罩部件4的下表面的一部分。密封部4a與壁部上表面42a接觸。也就是說(shuō)，壁部42支承罩部件4的至少一部分。
[0031]在本實(shí)施方式中，密封部4a例如隔著密封部件9與壁部上表面42a間接接觸。密封部件9不特別限定，例如為由樹(shù)脂材料等形成的襯墊。密封部4a位于比螺紋孔42d靠徑向內(nèi)側(cè)的位置。
[0032]如圖1所示，盤驅(qū)動(dòng)裝置I具有被基底部40和罩部件4包圍的容納空間S。例如，在容納空間S中填充有氦氣。另外，也可在容納空間S中填充氫氣、空氣等。在本實(shí)施方式中，基底部40和罩部件4構(gòu)成盤驅(qū)動(dòng)裝置I的機(jī)殼。
[0033]盤片5為存儲(chǔ)信息的介質(zhì)。盤片5被主軸馬達(dá)2支承。具體地說(shuō)，被主軸馬達(dá)2的轉(zhuǎn)子部10支承。盤片5與轉(zhuǎn)子部10 —同繞中心軸線J(± θ z方向)旋轉(zhuǎn)。
[0034]存取部3對(duì)盤片5實(shí)施信息讀取以及信息寫入中的至少任一方。存取部3具有頭
6、臂7以及頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)8。頭6靠近盤片5的表面實(shí)施磁讀取信息以及磁寫入信息中的至少一方。頭6被臂7支承。臂7被頭移動(dòng)機(jī)構(gòu)8支承。
[0035]接下來(lái)，對(duì)基底部40進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明?；撞?0通過(guò)鑄造成型。基底部40例如為將鋁合金作為材料的鑄造部件。如圖2所示，在本實(shí)施方式中，基底部40在表面具有冷硬層50。冷硬層50為在基底部40通過(guò)鑄造成型時(shí)與模具接觸的部分被急速冷卻內(nèi)部組織呈比其他部分密的層。在本實(shí)施方式中，基底部40除包含后述的金屬面47a、47b的金屬露出面之外，整個(gè)表面具有冷硬層50。
[0036]基底部40具有設(shè)置部45。設(shè)置部45從平板部上表面41a朝向上側(cè)突出。設(shè)置部45與壁部42連接。例如，在設(shè)置部45的上表面即設(shè)置部上表面45a安裝有斜坡機(jī)構(gòu)。斜坡機(jī)構(gòu)為在盤片5停止時(shí)保持頭6的機(jī)構(gòu)。
[0037]在本實(shí)施方式中，基底部40的內(nèi)側(cè)的面具有已被切削加工的金屬面47a、47b。在圖2的例子中，金屬面47a為壁部42的內(nèi)側(cè)面即壁部?jī)?nèi)側(cè)面42b的至少一部分。在圖2的例子中，金屬面47b為設(shè)置部上表面45a的至少一部分。金屬面47a例如呈與中心軸線J平行。金屬面47b例如與中心軸線J正交。例如，金屬面47a與金屬面47b連接。在本實(shí)施方式中，例如，金屬面47a、47b位于壁部42的附近。在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d與金屬面47a、47b在與中心軸線J正交的水平方向(X軸方向)上重疊。
[0038]另外，在本說(shuō)明書(shū)中，例如，金屬面為已被鑄造的基底部40的表面中的比冷硬層50靠?jī)?nèi)部的金屬部分朝向容納空間S露出的部分。在本實(shí)施方式中，金屬面既可是如圖2所示的金屬面47a、47b那樣的平坦面，也可是曲面，還可是螺紋孔的內(nèi)表面。
[0039]并且，在本說(shuō)明書(shū)中，基底部40的內(nèi)側(cè)的面包含基底部的表面中的與容納空間S接觸的面。并且，在本說(shuō)明書(shū)中，壁部的內(nèi)側(cè)面包含壁部的表面中的與容納空間S接觸的面。
[0040]圖3為示出主軸馬達(dá)2的局部的俯視圖。如圖2以及圖3所示，基底部40具有凹部46。凹部46位于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間。如圖2所示，在本實(shí)施方式中，凹部46從基底部40的下表面即基底部下表面40a朝向上側(cè)凹陷。
[0041]另外，在本說(shuō)明書(shū)中，凹部位于金屬面與螺紋孔之間的位置是指在俯視時(shí)，凹部在金屬面與螺紋孔排列的方向上位于金屬面與螺紋孔之間的位置。在俯視時(shí)金屬面與螺紋孔排列的方向是指例如在俯視時(shí)與將金屬面47a、47b以及螺紋孔42d之間連接的最短線段平行的方向。在圖2以及圖3的例子中，金屬面47a、47b與螺紋孔42d排列的方向?yàn)閄軸方向。
[0042]另外，在以下的說(shuō)明中，有時(shí)將俯視時(shí)金屬面47a、47b與螺紋孔42d排列的方向(X軸方向)簡(jiǎn)稱為排列方向。并且，有時(shí)將俯視時(shí)與排列方向正交的方向(Y軸方向)簡(jiǎn)稱為正交方向。
[0043]如圖2所示，凹部46在與中心軸線J正交的水平方向即排列方向(X軸方向)上，與金屬面47a、47b以及螺紋孔42d中的至少一方重疊。
[0044]在通過(guò)鑄造成型的基底部40存在有產(chǎn)生砂眼(間隙)BW的情況。例如，砂眼BW通過(guò)切削加工而露到容納空間S。也就是說(shuō)，已被切削加工的金屬面47a、47b有可能具有朝向基底部40的內(nèi)側(cè)，即朝向容納空間S開(kāi)口的砂眼BW。在這種情況下，例如，如果基底部40具有螺紋孔42d，則砂眼BW有可能將容納空間S與螺紋孔42d連通。這種情況下，有可能造成已被填充到容納空間S內(nèi)的氦氣通過(guò)砂眼BW以及螺紋孔42d而泄露到盤驅(qū)動(dòng)裝置I的外部。
[0045]與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式，由于基底部40具有位于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間的凹部46，因此砂眼BW容易被凹部46遮擋。由此，能夠防止砂眼BW將容納空間S與螺紋孔42d連通。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，可獲得具有能夠防止被填充到內(nèi)部的氣體泄漏的結(jié)構(gòu)的主軸馬達(dá)2以及盤驅(qū)動(dòng)裝置I。
[0046]并且，在基底部40中，安裝罩部件4的螺紋孔42d所在的部位的基底部40的厚度容易變大。鑄件的厚度越厚的部位越容易產(chǎn)生砂眼BW。因此，在基底部40中，螺紋孔42d所在的部位容易比其他的部分產(chǎn)生砂眼BW。因此，容納空間S內(nèi)的氦氣與其他部分相比，尤其可能通過(guò)螺紋孔42d而泄露。
[0047]與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式，由于能夠防止氦氣如上述那樣從螺紋孔42d泄露，因此能夠特別有效地防止氦氣從容納空間S內(nèi)泄漏。
[0048]并且，如本實(shí)施方式那樣，在螺紋孔42d與金屬面47a、47b在水平方向(X軸方向)上重疊的情況下，螺紋孔42d與金屬面47a、47b之間的距離容易變小。因此，基底部40中的產(chǎn)生于螺紋孔42d與金屬面47a、47b之間的砂眼BW容易通過(guò)金屬面47a、47b而將螺紋孔42d和容納空間S連通。
[0049]與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式，可通過(guò)凹部46防止螺紋孔42d與容納空間S連通。因此，本實(shí)施方式的可防止氦氣泄漏的結(jié)構(gòu)，如本實(shí)施方式那樣尤其在螺紋孔42d與金屬面47a、47b在水平方向上(X軸方向)重疊的情況下能夠獲得更大效果。
[0050]在本實(shí)施方式中，凹部46在與中心軸線J正交的水平方向即排列方向(X軸方向)上，與金屬面47a、47b以及螺紋孔42d雙方重疊。因此，通過(guò)凹部46容易進(jìn)一步遮擋產(chǎn)生于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間的砂眼BW。由此，能夠進(jìn)一步防止氦氣從容納空間S泄漏。
[0051]在本實(shí)施方式中，凹部46位于壁部42的位置。例如，如果凹部46位于基底部40中的軸向尺寸較小的部位，則基底部40的軸向尺寸因凹部46而變得更小，從而容易減小剛性。壁部42為基底部40中的軸向尺寸較大的部位。因此，通過(guò)使凹部46位于壁部42而容易確?；撞?0的剛性。
[0052]另外，在本說(shuō)明書(shū)中，凹部位于壁部，例如是指壁部具有凹部的至少一部分。
[0053]在本實(shí)施方式中，凹部46的上側(cè)的端部即凹部上端46a位于壁部42。凹部上端46a位于比螺紋孔42d的下側(cè)的端部即螺紋下端42e靠上側(cè)的位置。因此，容易擴(kuò)大凹部46的軸向尺寸。由此，通過(guò)凹部46容易進(jìn)一步遮擋產(chǎn)生于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間的砂眼BW。
[0054]并且，能夠?qū)疾可隙?6a靠近壁部上表面42a。因此，能夠縮小壁部42中的凹部46的上側(cè)的部分的軸向尺寸。由此，能夠減少壁部42中的在凹部46的上側(cè)的部分產(chǎn)生的砂眼BW。通過(guò)上述結(jié)構(gòu)，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。
[0055]壁部42的一部分被凹部46分割成內(nèi)壁部43和外壁部44。也就是說(shuō)，壁部42具有內(nèi)壁部43和外壁部44。如圖3所示，內(nèi)壁部43在俯視時(shí)位于壁部?jī)?nèi)側(cè)面42b與凹部46之間的位置。外壁部44在俯視時(shí)位于凹部46與壁部的外側(cè)面即壁部外側(cè)面42c之間的位置。螺紋孔42d位于外壁部44。
[0056]內(nèi)壁部43的厚度LI比外壁部44的厚度L2薄。因此，容易將內(nèi)壁部43的厚度LI設(shè)置得較薄。由此，能夠減少在內(nèi)壁部43產(chǎn)生砂眼BW。因此，例如能夠防止產(chǎn)生從金屬面47a,47b經(jīng)由凹部46的上側(cè)通到螺紋孔42d的砂眼BW。其結(jié)果是，能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。厚度LI是指內(nèi)壁部43的排列方向(X軸方向)的尺寸。厚度L2是指外壁部44的排列方向的尺寸。
[0057]另外，在本說(shuō)明書(shū)中，壁部的外側(cè)面是指壁部中的與容納空間S相反的一側(cè)的面。
[0058]如圖2所示，在本實(shí)施方式中，凹部46位于壁部上表面42a中的供密封部件9接觸的部分的下側(cè)。也就是說(shuō)，密封部4a與凹部46在軸向上重疊。例如，如果在壁部上表面42a呈已被切削加工的金屬露出面的情況下，密封部4a位于比凹部46靠?jī)?nèi)側(cè)的位置，則有可能產(chǎn)生從金屬面47a、47b通到位于比壁部上表面42a中的密封部4a靠外側(cè)的部分的砂眼BW，從而造成氦氣泄漏。
[0059]然而，由于基底部40中的凹部46的上側(cè)的部分的厚度較容易變薄，因此不易產(chǎn)生砂眼BW。因此，通過(guò)將密封部4a設(shè)在與凹部46在軸向上重疊的位置，而能夠使密封部4a位于不易產(chǎn)生砂眼BW的部位。其結(jié)果是，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠防止產(chǎn)生從金屬面47a、47b經(jīng)由凹部46的上側(cè)的部分通到壁部上表面42a中的位于比密封部4a靠外側(cè)的部分的砂眼Bff0
[0060]并且，由于密封部4a與凹部46在軸向上重疊，因此，與密封部4a和凹部46在軸向上不重疊的情況相比，容易將壁部42中的比螺紋孔42d靠容納空間S側(cè)(-X側(cè))的部分的排列方向(X軸方向)的尺寸縮得小。由此，能夠防止在壁部42中的螺紋孔42d與金屬面47a、47b之間產(chǎn)生砂眼BW。
[0061]如圖3所示，在本實(shí)施方式中，將俯視時(shí)與金屬面47a、47b的正交方向的一側(cè)(+Y偵D的緣部以及螺紋孔42d的正交方向的一側(cè)(+Y側(cè))的緣部接觸的直線作為第一直線Cl。在本實(shí)施方式中，將俯視時(shí)與金屬面47a、47b的正交方向的另一側(cè)(-Y側(cè))的緣部以及螺紋孔42d的正交方向的另一側(cè)(-Y側(cè))的緣部接觸的直線作為第二直線C2。
[0062]在本實(shí)施方式中，被金屬面47a、47b的緣部、螺紋孔42d的緣部、第一直線Cl以及第二直線C2包圍的區(qū)域AR在俯視時(shí)與凹部46的至少一部分重疊。容易泄漏氦氣的區(qū)域?yàn)榻饘倜?7a、47b與螺紋孔42d直線連接的區(qū)域AR。因此，優(yōu)選區(qū)域AR與凹部46的至少一部分重疊。因此，通過(guò)凹部46，容易進(jìn)一步遮擋產(chǎn)生于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間的砂眼BW。由此能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。
[0063]在本實(shí)施方式中，在俯視時(shí)第一直線Cl以及第二直線C2與凹部46重疊。因此，在俯視時(shí)，凹部46容易與區(qū)域AR的整個(gè)正交方向(Y軸方向)重疊。由此，通過(guò)凹部46，容易進(jìn)一步遮擋產(chǎn)生于金屬面47a、47b與螺紋孔42d之間的砂眼BW。因此能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。
[0064]不特別限制凹部46的形狀。在本實(shí)施方式中，凹部46的俯視時(shí)的形狀例如為沿正交方向(Y軸方向)延伸的長(zhǎng)方形。凹部46從區(qū)域AR的正交方向的一側(cè)(+Y側(cè))延伸到正交方向的另一側(cè)(-Y側(cè))。如圖2所示，凹部46的在正交方向(Y軸方向)上觀察到的形狀例如為排列方向(X軸方向)上的尺寸隨著從下側(cè)向上側(cè)變小的梯形。
[0065]在本實(shí)施方式中，凹部46例如在鑄造基底部40時(shí)同時(shí)形成。因此，在本實(shí)施方式中，凹部46的表面具有冷硬層50。由于冷硬層50的內(nèi)部組織較密，因此不會(huì)在冷硬層50產(chǎn)生砂眼BW。由此，產(chǎn)生于壁部42的砂眼BW被凹部46的冷硬層50更可靠地遮擋。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。
[0066]省略圖示，但壁部42例如具有與用于將罩部件4安裝于基底部40所需的螺紋孔42d的數(shù)量以及螺釘70的數(shù)量相當(dāng)?shù)陌疾?6。壁部42例如具有六個(gè)凹部46。壁部42例如具有六個(gè)螺紋孔42d。盤驅(qū)動(dòng)裝置I例如具有六個(gè)螺釘70。
[0067]在本實(shí)施方式中，基底部40具有涂層膜60。在圖2的例子中，涂層膜60覆蓋基底部40的除金屬面47a、47b以及螺紋孔42d之外的整個(gè)表面。也就是說(shuō)，凹部46的表面具有涂層膜60。因此，例如，即使砂眼BW在凹部46的表面開(kāi)口的情況下，也能夠通過(guò)涂層膜60遮擋并防止氦氣泄漏到外部。并且，如本實(shí)施方式那樣，在凹部46的表面具有冷硬層50的情況下，能夠通過(guò)冷硬層50和涂層膜60進(jìn)一步防止氦氣泄漏。涂層膜60例如為環(huán)氧等的樹(shù)脂膜或鍍鎳等的金屬膜。
[0068]另外，在本實(shí)施方式中，還可采用以下這種結(jié)構(gòu)。
[0069]在本實(shí)施方式中，凹部46也可在與中心軸線J正交的水平方向(X軸方向)上，只與金屬面47a、47b以及螺紋孔42d中的任一個(gè)重疊。
[0070]在本實(shí)施方式中，可采用凹部46朝向軸向上的任意一側(cè)凹陷的結(jié)構(gòu)。也就是說(shuō)，在本實(shí)施方式中，凹部46也可朝向下側(cè)凹陷。這種情況下，例如，凹部46從平板部上表面41a朝向下側(cè)凹陷。
[0071]并且，在本實(shí)施方式中，凹部46的個(gè)數(shù)也可比用于將罩部件4安裝于基底部40所需的螺釘70的個(gè)數(shù)少。這種情況下，例如，既可是一個(gè)凹部46跨越多個(gè)螺紋孔42d與多個(gè)金屬面47a、47b之間，也可是凹部46不位于一部分的螺紋孔42d與一部分的金屬面47a、47b之間的位置。
[0072]并且，在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d也可位于壁部42的任意位置。在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d例如既可位于壁部外側(cè)面42c，也可位于壁部42的下表面。并且，在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d所延伸的方向不特別限定，例如既可是相對(duì)于軸向傾斜的方向，也可是水平方向。
[0073]并且，在本實(shí)施方式中，螺紋孔42d與金屬面47a、47b之間也可不在以中心軸線J為中心的水平方向(X軸方向)上重疊。
[0074]并且，在本實(shí)施方式中，壁部42也可具有不帶螺牙的孔部來(lái)代替螺紋孔42d。這種情況下，不帶螺牙的孔部例如為對(duì)罩部件4的位置進(jìn)行定位的銷所在的孔。銷為安裝罩部件4的安裝部件。通過(guò)這種結(jié)構(gòu)，由于能夠通過(guò)銷將罩部件4定位于基底部件40，因此能夠?qū)⒄植考?精確地固定于基底部40。由此能夠提高容納空間S的密閉性。另外，在本實(shí)施方式中，壁部42也可具有螺紋孔42d和不帶螺牙的孔部這兩種。
[0075]并且，在本實(shí)施方式中，基底部40也可不具有冷硬層50。并且，基底部40也可不具有涂層膜60。
[0076]并且，在本實(shí)施方式中，基底部40的內(nèi)側(cè)的面也可只具有金屬面47a、47b中的一個(gè)。并且，在本實(shí)施方式中，平板部上表面41a也可具有金屬面。并且，在本實(shí)施方式中，基底部40的內(nèi)側(cè)的面可在任意位置具有金屬面。
[0077]在本實(shí)施方式中，也可向砂眼BW中填充樹(shù)脂。通過(guò)該結(jié)構(gòu)，容納空間S內(nèi)的氦氣不易進(jìn)入到砂眼BW內(nèi)，從而能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。樹(shù)脂只要能夠填充到砂眼BW中，就不特別限定。
[0078]在本實(shí)施方式中，盤驅(qū)動(dòng)裝置I也可不具有密封部件9。這種情況下，罩部件4的密封部4a例如與壁部上表面42a直接接觸。
[0079]<第二實(shí)施方式>
[0080]第二實(shí)施方式在凹部位于平板部這一點(diǎn)上與第一實(shí)施方式不同。另外，對(duì)于與第一實(shí)施方式相同的結(jié)構(gòu)，為了方便起見(jiàn)而標(biāo)注相同的符號(hào)等，因此有時(shí)省略它們的說(shuō)明。
[0081]圖4為示出本實(shí)施方式的盤驅(qū)動(dòng)裝置101的局部的剖視圖。盤驅(qū)動(dòng)裝置101具有主軸馬達(dá)102。主軸馬達(dá)102具有基底部140?；撞?40具有平板部141、壁部142以及凹部146。
[0082]平板部141具有設(shè)置部145。設(shè)置部145從平板部141的上表面即平板部上表面141a朝向上側(cè)突出。設(shè)置部145位于離開(kāi)壁部142的部位。設(shè)置部145的上表面即設(shè)置部上表面145a的至少一部分為已被切削加工的金屬面147a。設(shè)置部145的與壁部142相反的一側(cè)(-X側(cè))的側(cè)面即設(shè)置部側(cè)面145b的至少一部分為已被切削加工的金屬面147b。也就是說(shuō)，基底部140的內(nèi)側(cè)的面具有金屬面147a、147b。
[0083]在本實(shí)施方式中，凹部146從基底部140的下表面即基底部下表面140a朝向上側(cè)凹陷。凹部146位于金屬面147a、147b與螺紋孔42d之間的位置。凹部146例如與金屬面147b在水平方向(X軸方向)上重疊。由此，能夠與第一實(shí)施方式相同地防止氦氣泄漏。
[0084]在本實(shí)施方式中，凹部146位于平板部141。平板部141的軸向尺寸比壁部142的軸向尺寸小。因此，容易縮小基底部140中的凹部146的上側(cè)的端部即凹部上端146a與平板部上表面141a之間的軸向尺寸L3。由此，例如能夠防止產(chǎn)生于平板部141的砂眼BW延伸到壁部142。因此，根據(jù)本實(shí)施方式，能夠防止砂眼BW將容納空間S與螺紋孔42d連通。其結(jié)果是能夠進(jìn)一步防止氦氣泄漏。
[0085]壁部142具有螺紋孔即設(shè)備安裝螺紋孔142f。設(shè)備安裝螺紋孔142f從壁部142的外側(cè)面即壁部外側(cè)面142c朝向容納空間S側(cè)(-X側(cè))凹陷。壁部外側(cè)面142c中的設(shè)備安裝螺紋孔142f開(kāi)口的位置位于比螺紋孔42d靠下側(cè)的位置。設(shè)備安裝螺紋孔142f例如延伸到螺紋孔42d的下側(cè)。設(shè)備安裝螺紋孔142f位于比罩部件4的密封部4a靠徑向外側(cè)的位置。
[0086]例如在設(shè)備安裝螺紋孔142f中緊固有將盤驅(qū)動(dòng)裝置101安裝于個(gè)人電腦等其他設(shè)備的螺釘。雖省略圖示，但壁部142具有多個(gè)設(shè)備安裝螺紋孔142f。
[0087]例如，在壁部142具有設(shè)備安裝螺紋孔142f的結(jié)構(gòu)中，砂眼BW將容納空間S與設(shè)備安裝螺紋孔142f連通，氦氣有可能通過(guò)設(shè)備安裝螺紋孔142f泄漏到盤驅(qū)動(dòng)裝置101的外部。
[0088]與此相對(duì)，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)凹部146能夠防止砂眼BW將容納空間S與設(shè)備安裝螺紋孔142f連通。由此，能夠防止氦氣通過(guò)設(shè)備安裝螺紋孔142f泄漏。
[0089]雖省略圖示，但壁部142具有多個(gè)設(shè)備安裝孔142f。盤驅(qū)動(dòng)裝置101的其他結(jié)構(gòu)為與圖1至圖3所示的盤驅(qū)動(dòng)裝置I相同的結(jié)構(gòu)。
[0090]另外，上述說(shuō)明的第一實(shí)施方式以及第二實(shí)施方式的各結(jié)構(gòu)在不相互矛盾的范圍內(nèi)，可以適當(dāng)?shù)亟M合。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種主軸馬達(dá)，其用于盤驅(qū)動(dòng)裝置，且安裝有所述盤驅(qū)動(dòng)裝置所帶有的罩部件， 所述主軸馬達(dá)包括: 轉(zhuǎn)子部，所述轉(zhuǎn)子部繞沿上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)且具有轉(zhuǎn)子磁鐵； 軸承部，所述軸承部將所述轉(zhuǎn)子部支承為能夠繞所述中心軸線旋轉(zhuǎn)； 定子部，所述定子部與所述轉(zhuǎn)子磁鐵相向；以及 基底部，所述基底部通過(guò)鑄造成型，并將所述轉(zhuǎn)子部、所述軸承部以及所述定子部容納在內(nèi)部， 所述基底部具有: 平板部，所述平板部相對(duì)于所述中心軸線朝向徑向擴(kuò)展；以及 壁部，所述壁部從所述平板部的徑向外側(cè)的外緣沿軸向延伸， 所述主軸馬達(dá)的特征在于， 所述壁部具有安裝所述罩部件的安裝部件所在的孔部，且支承所述罩部件的至少一部分， 所述基底部的內(nèi)側(cè)的面具有已被切削加工的金屬面， 所述基底部具有位于所述金屬面與所述孔部之間的凹部， 所述凹部朝向軸向上的任意一側(cè)凹陷，且在與所述中心軸線正交的水平方向上與所述金屬面以及所述孔部中的至少一方重疊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部在所述水平方向上與所述金屬面以及所述孔部雙方重疊。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述孔部與所述金屬面在所述水平方向上重疊。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 當(dāng)在俯視的情況下將與所述金屬面的一側(cè)的緣部和所述孔部的一側(cè)的緣部接觸的直線作為第一直線，將與所述金屬面的另一側(cè)的緣部和所述孔部的另一側(cè)的緣部接觸的直線作為第二直線時(shí)，被所述金屬面的緣部、所述孔部的緣部、所述第一直線以及所述第二直線包圍的區(qū)域與所述凹部的至少一部分重疊。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 在俯視時(shí)，所述第一直線以及所述第二直線與所述凹部重疊。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部的表面具有冷硬層。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部的表面具有涂層膜。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部位于所述壁部。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部從所述基底部的下表面朝向上側(cè)凹陷， 所述凹部的上側(cè)的端部位于所述壁部， 所述壁部具有在俯視時(shí)位于所述壁部的內(nèi)側(cè)面與所述凹部之間的內(nèi)壁部和位于所述凹部與所述壁部的外側(cè)面之間的外壁部， 所述孔部位于所述外壁部， 所述內(nèi)壁部的厚度比所述外壁部的厚度薄。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述凹部從所述基底部的下表面朝向上側(cè)凹陷， 所述凹部的上側(cè)的端部位于所述壁部，且位于比所述孔部的下側(cè)的端部靠上側(cè)的位置。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 當(dāng)在俯視的情況下將與所述金屬面的一側(cè)的緣部和所述孔部的一側(cè)的緣部接觸的直線作為第一直線，將與所述金屬面的另一側(cè)的緣部和所述孔部的另一側(cè)的緣部接觸的直線作為第二直線時(shí)， 被所述金屬面的緣部、所述孔部的緣部、所述第一直線以及所述第二直線包圍的區(qū)域與所述凹部的至少一部分重疊。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 在俯視時(shí)，所述第一直線以及所述第二直線與所述凹部重疊。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述孔部的內(nèi)側(cè)具有螺牙。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)，其特征在于， 所述孔部為對(duì)所述罩部件進(jìn)行定位的銷所在的孔。15.一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，所述盤驅(qū)動(dòng)裝置包括: 權(quán)利要求1所述的主軸馬達(dá)； 盤片，所述盤片被所述主軸馬達(dá)支承； 存取部，所述存取部至少對(duì)所述盤片實(shí)施信息讀取以及信息寫入中的一方； 罩部件，所述罩部件安裝于所述主軸馬達(dá)的所述基底部；以及 安裝部件，所述安裝部件將所述罩部件安裝于所述主軸馬達(dá)的所述基底部， 所述盤驅(qū)動(dòng)裝置的特征在于， 所述罩部件具有與所述壁部的上表面接觸的密封部， 所述密封部位于比所述孔部靠徑向內(nèi)側(cè)的位置。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于， 所述密封部與所述凹部在軸向上重疊。
【文檔編號(hào)】H02K5/04GK105978207SQ201510652134
【公開(kāi)日】2016年9月28日
【申請(qǐng)日】2015年10月10日
【發(fā)明人】中村明義, 平澤敏弘
【申請(qǐng)人】日本電產(chǎn)株式會(huì)社