樣品腔室中的氣體，得到在EUV輻照前后樣品材料發(fā)生放氣的氣體組分及氣體分壓。
[0040]該EUV輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)的一種工作流程為:
[0041]I)關(guān)閉第一插板閥A3和第二插板閥B3，關(guān)閉截止閥A53、A43、B43、C43，關(guān)閉角閥B5、面密封閥C52，使EUV輻照材料測(cè)試設(shè)備的各部分(EUV光源腔室、收集鏡腔室、樣品腔室)隔離，使各部分的真空抽氣系統(tǒng)能夠分別抽真空，能減少系統(tǒng)抽真空的時(shí)間。
[0042]2)啟動(dòng)EUV光源腔室真空抽氣系統(tǒng)、收集鏡腔室真空抽氣系統(tǒng)、樣品腔室真空抽氣系統(tǒng)。如前所述，以EUV光源腔室A為例，先打開(kāi)角閥A14，用機(jī)械栗A12對(duì)EUV光源腔室A進(jìn)行旁抽，通過(guò)觀測(cè)普通規(guī)管A21當(dāng)抽到約1Pa左右的壓力時(shí)，打開(kāi)分子栗All和插板閥A13并關(guān)閉角閥A14對(duì)EUV光源腔室A進(jìn)行主抽，直至抽到要求的真空壓力(一般遠(yuǎn)低于幾Pa的工作壓力，如至10 4pa的腔室極限真空，用于排出腔內(nèi)原有氣體更好的進(jìn)行EUV輻照材料測(cè)試)。收集鏡腔室B和樣品腔室C同EUV光源腔室A。當(dāng)抽到要求的真空壓力后，關(guān)閉插板閥B13，微量打開(kāi)插板閥C13。
[0043]3)保持面密封閥C52關(guān)閉，打開(kāi)角閥B5，利用分子栗Bll和機(jī)械栗B12對(duì)面密封閥C52后面的管道進(jìn)行抽真空，直至10 4pa的腔室極限真空左右(通過(guò)觀測(cè)普通規(guī)管C53示數(shù))。關(guān)閉角閥B5后，關(guān)閉收集鏡腔室B的真空抽氣系統(tǒng)(關(guān)閉分子栗Bll和機(jī)械栗B12)。
[0044]4)打開(kāi)第二插板閥B3，使收集鏡腔室B和樣品腔室C導(dǎo)通。打開(kāi)減壓閥B42、截止閥B43 (如有，也打開(kāi)截止閥B43和第二插板閥B3間的流量控制單元)，由氣瓶B41向收集鏡腔室B和樣品腔室C中注入對(duì)EUV輻照吸收率較小的緩沖氣體(保持較小流導(dǎo)以節(jié)約用氣)，使氣體通過(guò)微量打開(kāi)的插板閥C13由樣品腔室C的栗組流出，保持收集鏡腔室B中的氣體壓力動(dòng)態(tài)穩(wěn)定在略高于EUV光源腔室A的工作壓力(如比EUV光源腔室A的工作壓力尚 1Pa)。
[0045]5)微量打開(kāi)面密封閥C52和角閥B5，打開(kāi)分子栗Bll和機(jī)械栗Bll，使樣品腔室C中的氣體流過(guò)面密封閥C52、四極質(zhì)譜計(jì)C51的四級(jí)桿、角閥B5、分子栗Bll和機(jī)械栗B12，通過(guò)調(diào)節(jié)面密封閥C52和觀測(cè)普通規(guī)管C53，使四極質(zhì)譜計(jì)C51保持正常工作，能夠監(jiān)測(cè)樣品腔室中的氣體、得到在EUV輻照前樣品腔室中的氣體組分及氣體分壓。測(cè)試完畢后，依次關(guān)閉四極質(zhì)譜計(jì)C51、面密封閥C52、角閥B5，再關(guān)閉收集鏡腔室B的真空抽氣系統(tǒng)(關(guān)閉分子栗Bll和機(jī)械栗B12)。
[0046]6)關(guān)閉插板閥A13 (角閥A14已關(guān)閉)，打開(kāi)減壓閥A52和截止閥A53 (如有，也打開(kāi)截止閥A53和EUV光源腔室A間的流量控制單元)，將工作氣體(一般為Xe氣或者Xe和比的混合氣體)由氣瓶A51導(dǎo)入到EUV光源腔室A中直至達(dá)到EUV光源的工作壓力要求(如幾Pa)，EUV光源開(kāi)始工作產(chǎn)生EUV輻照。為了能持續(xù)產(chǎn)生穩(wěn)定的EUV輻照，需要始終打開(kāi)減壓閥A52和截止閥A53向EUV光源腔室A注入工作氣體(保持較小流導(dǎo)以節(jié)約用氣)，同時(shí)微量打開(kāi)插板閥A13使廢氣通過(guò)EUV光源腔室A的栗組流出，保持EUV光源腔室A中的氣體壓力動(dòng)態(tài)穩(wěn)定在正常工作壓力范圍內(nèi)。
[0047]7)打開(kāi)第一插板閥A3，并打開(kāi)減壓閥A42、截止閥A43 (如有，也打開(kāi)截止閥Al和第一插板閥A3間的流量控制單元)，由氣瓶A41注入對(duì)EUV輻照吸收率較小的緩沖氣體(保持較小流導(dǎo)以節(jié)約用氣)。統(tǒng)一調(diào)節(jié)插板閥A13、C13以及緩沖氣體氣瓶A41、B41的流導(dǎo)，使緩沖氣體始終由收集鏡腔室B流到EUV光源腔室A和樣品腔室C中，以有效阻止污染物由EUV光源腔室和樣品腔室向收集鏡腔室擴(kuò)散。
[0048]8)當(dāng)需要測(cè)試輻照后樣品腔室C中的氣體組分和分壓時(shí)，微量打開(kāi)面密封閥C52和角閥B5，打開(kāi)分子栗BI I和機(jī)械栗B12，使樣品腔室C中的氣體流過(guò)面密封閥C52、四極質(zhì)譜計(jì)C51的四級(jí)桿、角閥B5、分子栗Bll和機(jī)械栗B12，通過(guò)調(diào)節(jié)面密封閥C52和觀測(cè)普通規(guī)管C53，使四極質(zhì)譜計(jì)C51保持正常工作，能夠監(jiān)測(cè)樣品腔室中的氣體、得到在EUV輻照后樣品材料發(fā)生放氣的氣體組分及氣體分壓。
[0049]以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，所述極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備包括EUV光源腔室(A)、收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)，其特征在于，所述抽真空系統(tǒng)包括: 分別連接到所述EUV光源腔室(A)、收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)的真空栗單元和真空計(jì)單元； 連接于所述EUV光源腔室(A)和收集鏡腔室(B)之間的第一插板閥(A3); 連接于所述收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)之間的第二插板閥(B3); 第一氣源(A4)和第二氣源(B4)，分別連通所述第一插板閥(A3)和第二插板閥(B3)，用于提供EUV輻照的緩沖氣體； 氣體分析單元(C5)，其與所述樣品腔室(C)連接。2.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述真空栗單元中的至少一個(gè)包括分子栗(All、BI 1、Cll)和機(jī)械栗(A12、B12、C12)，分子栗與相應(yīng)腔室(A、B、C)之間通過(guò)插板閥(A13、B13、C13)連接，在分子栗和機(jī)械栗之間用三通連接，三通的第三端口通過(guò)閥門(mén)連接到相應(yīng)腔室上。3.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述真空計(jì)單元中的至少一個(gè)包括第一真空計(jì)(A21、B21、C21)和第二真空計(jì)(A22、B22、C22)，第一真空計(jì)和第二真空計(jì)具有不同的量程。4.如權(quán)利要求1所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣源(A4)和第二氣源(B4)中的至少一個(gè)包括氣瓶(A41、B41)、減壓閥門(mén)(A42、B42)和截止閥門(mén)(A43、B43)，氣瓶(A41、B41)依次通過(guò)減壓閥門(mén)(A42、B42)和截止閥門(mén)(A43、B43)與相應(yīng)插板閥(A3、B3)連接，所述截止閥門(mén)(A43、B43)和相應(yīng)插板閥(A3、B3)之間連接有流量控制單元。5.如權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體分析單元(C5)通過(guò)閥門(mén)(B5)與所述收集鏡腔室(B)的真空栗單元(BI)相連。6.如權(quán)利要求5所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體分析單元(C5)包括氣體分析儀(C51)、流量調(diào)節(jié)閥(C52)和第三真空計(jì)(C53)，所述氣體分析儀(C51)和所述樣品腔室(C)之間通過(guò)所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)連接，所述的第三真空計(jì)(C53)連接到所述氣體分析儀(C51)與所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)之間的管道上。7.如權(quán)利要求6所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述收集鏡腔室(B)的真空栗單元包括分子栗(Bll)和機(jī)械栗(B12)，該分子栗與收集鏡腔室(B)之間通過(guò)插板閥(B13)連接，在分子栗(Bll)和機(jī)械栗(B12)之間用三通連接，三通的第三端口通過(guò)閥門(mén)連接到收集鏡腔室(B); 所述氣體分析儀(C51)通過(guò)閥門(mén)(B5)接入所述插板閥(B13)和所述分子栗(Bll)之間。8.如權(quán)利要求5所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述氣體分析儀(C51)為四極質(zhì)譜計(jì)。9.如權(quán)利要求6所述的用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，其特征在于，所述流量調(diào)節(jié)閥(C52)為面密封閥。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于極紫外輻照材料測(cè)試設(shè)備的抽真空系統(tǒng)，測(cè)試設(shè)備包括EUV光源腔室(A)、收集鏡腔室(B)和樣品腔室(C)，真空獲得裝置包括分別連接到各腔室的真空泵單元和真空計(jì)單元、連接于腔室之間的第一、第二插板閥(A3、B3)、連通第一、第二插板閥(A3、B3)的第一、第二氣源(A4、B4)，以及通過(guò)閥門(mén)與收集鏡腔室(B)的真空泵單元(B1)相連的氣體分析單元(C5)。本實(shí)用新型能夠?qū)y(cè)試設(shè)備的各部分進(jìn)行抽真空，有效阻止污染物由EUV光源腔室和樣品腔室向收集鏡腔室擴(kuò)散，并且在真空壓力不匹配的情況下能夠測(cè)得樣品腔室中的氣體組分及分壓。
【IPC分類】G01N17/00
【公開(kāi)號(hào)】CN204758456
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520104669
【發(fā)明人】陳進(jìn)新, 王宇, 吳曉斌, 謝婉露, 王魁波, 崔惠絨
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院光電研究院
【公開(kāi)日】2015年11月11日
【申請(qǐng)日】2015年2月12日