1.一種光學(xué)基板，其具備：
支持基板、及
積層于所述支持基板上且于表面形成有凹凸形狀的凹凸構(gòu)造層，
所述凹凸構(gòu)造層所含的凸部的延伸方向于俯視上呈不規(guī)則分布，
所述凹凸構(gòu)造層的每單位面積的區(qū)域所含的所述凸部的俯視上的輪廓線包含直線區(qū)間多于曲線區(qū)間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)基板，其中
相對(duì)于所述凸部的延伸方向于俯視上大致正交的方向的所述凸部的寬度為固定。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)基板，其中
于藉由以所述凸部的寬度的平均值的π(圓周率)倍的長(zhǎng)度劃分所述凸部的俯視上的輪廓線而形成多個(gè)區(qū)間的情形時(shí)，所述曲線區(qū)間為相對(duì)于區(qū)間的兩端點(diǎn)間的所述輪廓線的長(zhǎng)度的該兩端點(diǎn)間的直線距離的比為0.75以下的區(qū)間，
所述直線區(qū)間為所述多個(gè)區(qū)間中并非所述曲線區(qū)間的區(qū)間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)基板，其中
于藉由以所述凸部的寬度的平均值的π(圓周率)倍的長(zhǎng)度劃分所述凸部的俯視上的輪廓線而形成多個(gè)區(qū)間的情形時(shí)，所述曲線區(qū)間為連接區(qū)間的一端及該區(qū)間的中點(diǎn)的線段與連接該區(qū)間的另一端及該區(qū)間的中點(diǎn)的線段所成的兩個(gè)角度中成為180°以下的角度為120°以下的區(qū)間，
所述直線區(qū)間為所述多個(gè)區(qū)間中并非所述曲線區(qū)間的區(qū)間，
所述多個(gè)區(qū)間中所述曲線區(qū)間的比率為70％以上。
5.一種光學(xué)基板，其具備：
支持基板、及
積層于所述支持基板上且于表面形成有凹凸形狀的凹凸構(gòu)造層，
所述凹凸構(gòu)造層所含的凸部的延伸方向于俯視上呈不規(guī)則分布，
相對(duì)于所述凸部的延伸方向于俯視上大致正交的方向的所述凸部的寬度為固定。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，其中
于對(duì)利用掃描式探針顯微鏡分析形成在所述凹凸構(gòu)造層的表面的凹凸形狀而獲得的凹凸分析圖像實(shí)施二維高速傅立葉變換處理而獲得傅立葉變換像的情形時(shí)，所述傅立葉變換像顯示以波數(shù)的絕對(duì)值為0μm-1的原點(diǎn)為大致中心的圓狀或圓環(huán)狀花樣，且所述圓狀或圓環(huán)狀花樣存在于波數(shù)的絕對(duì)值成為10μm-1以下的范圍內(nèi)的區(qū)域內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，其中
所述凹凸構(gòu)造層的凹凸的平均間距為100～1500nm，
所述凹凸構(gòu)造層的凹凸深度的標(biāo)準(zhǔn)偏差為10～100nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，其進(jìn)而具備于所述支持基板的與形成有所述凹凸構(gòu)造層的面相反的面形成的光學(xué)功能層。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，其進(jìn)而具備于所述凹凸構(gòu)造層上形成的被覆層。
10.一種模具，其用于制造權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，
所述模具具備凹凸部，所述凹凸部形成有與形成在所述光學(xué)基板的所述凹凸構(gòu)造層的凹凸形狀對(duì)應(yīng)的凹凸圖案。
11.一種發(fā)光元件，其包含權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的光學(xué)基板，
所述發(fā)光元件是于所述凹凸構(gòu)造層上依序積層第一電極、發(fā)光的有機(jī)層、及第二電極而形成。