本技術(shù)涉及可適用于電子設(shè)備的殼體部件、應(yīng)用該殼體部件的電子設(shè)備以及殼體部件的制造方法。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)上，將具有金屬狀外觀、同時(shí)能夠使諸如毫米波之類的電磁波透過的構(gòu)件設(shè)計(jì)為電子設(shè)備等的殼體部件。例如，專利文獻(xiàn)1披露了一種用于在汽車的車標(biāo)上裝載汽車?yán)走_(dá)的外部元件。例如，將銦沉積在樹脂膜上并通過嵌入成型方法將所述膜貼附到車標(biāo)的表面層。由此，可以形成具有裝飾性金屬光澤、并且由于銦的島形結(jié)構(gòu)而在電磁頻帶內(nèi)不具有吸收區(qū)域(專利文獻(xiàn)1的說明書第0006段，等等)的外部元件。

然而，在形成銦的島形結(jié)構(gòu)的方法中，在例如沉積面積較大的情況下，存在難于形成整體均勻的膜厚度的問題。此外，當(dāng)形成殼體部件時(shí)，存在由于流入其中的樹脂的溫度而容易破壞島形結(jié)構(gòu)的問題(專利文獻(xiàn)1的說明書第0007和0008段，等等)。

為了解決該問題，在專利文獻(xiàn)1中，披露了下面的技術(shù)。即，將其中將金屬區(qū)域作為島、并將圍繞該島的非金屬區(qū)域作為海的海島結(jié)構(gòu)人工地形成具有規(guī)律性。然后，將每個(gè)金屬區(qū)域通過非金屬區(qū)域相互絕緣，并且合適地控制金屬區(qū)域的面積、以及與相鄰金屬區(qū)域之間的間隔。由此，可以獲得具有與沉積銦的膜相比毫不遜色的電磁波透過性的材料(專利文獻(xiàn)1的說明書第0013段，等等)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本專利申請(qǐng)公開號(hào)2010-251899。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

技術(shù)問題

如上所述，用于形成具有金屬光澤同時(shí)能夠透過無線電波、而且還具有高可設(shè)計(jì)性的殼體部件的技術(shù)是所需的。

鑒于此，本技術(shù)的目的是提供一種具有金屬狀外觀同時(shí)能夠透過無線電波的具有高可設(shè)計(jì)性的殼體部件、應(yīng)用該殼體部件的電子設(shè)備以及殼體部件的制造方法。

解決問題的技術(shù)方案

為了達(dá)到上面提到的目的，根據(jù)本技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式的殼體部件包括裝飾膜和殼體部。

所述裝飾膜包括金屬層，所述金屬層通過氣相沉積形成在基礎(chǔ)膜上，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋。

所述殼體部包括被裝飾區(qū)域，所述裝飾膜被粘合至所述被裝飾區(qū)域。

在該殼體部件中，包括金屬層的裝飾膜被粘合至殼體部的被裝飾區(qū)域。金屬層通過氣相沉積形成在基礎(chǔ)膜上。在金屬層中，通過拉伸基礎(chǔ)膜形成微細(xì)裂紋。這樣，拓寬了構(gòu)成金屬層的金屬材料的選擇范圍?？梢詫?shí)現(xiàn)一種能夠透過無線電波并具有金屬狀外觀、而且具有高可設(shè)計(jì)性的殼體部件。

所述裝飾膜可以包括其中形成有所述金屬層的基礎(chǔ)膜。

因?yàn)橥ㄟ^拉伸基礎(chǔ)膜形成微細(xì)裂紋，所以可以以高粘著性在基礎(chǔ)膜上形成金屬層。結(jié)果，可以提高由包含基礎(chǔ)膜的裝飾膜裝飾的被裝飾區(qū)域的耐久性。

可以通過對(duì)所述基礎(chǔ)膜執(zhí)行雙軸拉伸來形成所述微細(xì)裂紋。

這樣，可以容易地形成微細(xì)裂紋。

所述金屬層可以具有抑制拉伸性的抑制結(jié)構(gòu)。

這樣，可以使用具有高拉伸性的金屬材料，并且提高可設(shè)計(jì)性。

所述抑制結(jié)構(gòu)可以是其中構(gòu)成所述金屬層的金屬材料具有霜柱形狀的結(jié)構(gòu)。

通過使金屬材料具有霜柱形狀，可以抑制金屬層的拉伸性。

所述金屬層可以是通過真空氣相沉積形成在所述基礎(chǔ)膜上的。在這種情況下，所述抑制結(jié)構(gòu)可以是通過在預(yù)定溫度條件和預(yù)定壓力條件下執(zhí)行所述真空氣相沉積形成的。

通過控制溫度條件和壓力條件，可以容易地形成抑制結(jié)構(gòu)。

所述金屬層可以是通過對(duì)從卷出輥沿著旋轉(zhuǎn)筒的外周面朝向卷繞輥輸送的所述基礎(chǔ)膜執(zhí)行真空氣相沉積形成的。

在使用卷對(duì)卷方式的情況下，可以以低成本容易地批量生產(chǎn)裝飾膜。

所述金屬層可以是由鋁、鈦、以及包含鋁和鈦中的至少之一的合金之中的任一種材料構(gòu)成的。

可以用這些難以用濕渡形成并且具有高拉伸性的材料形成金屬層。這樣，可以提高殼體部件的可設(shè)計(jì)性。

所述金屬層可以具有由金屬層或氧化金屬層層疊而成的疊層結(jié)構(gòu)。

這樣，可以抑制金屬層的拉伸性并且提高殼體部件的可設(shè)計(jì)性。

所述金屬層可以包括鋁、氧化鋁、鈦、氧化鈦、以及包含鋁和鈦中的至少之一的合金之中的任一種材料的層。

這樣，可以提高殼體部件的可設(shè)計(jì)性。

所述微細(xì)裂紋可以以小于或等于1μm且大于或等于500μm的節(jié)距形成。

這樣，可以呈現(xiàn)足夠的無線電波透過特性。

根據(jù)本技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式的電子設(shè)備包括：所述裝飾層、所述殼體部、以及容納在所述殼體部內(nèi)的電子元件。

所述電子設(shè)備可以包括設(shè)置所述在被裝飾區(qū)域的內(nèi)側(cè)的天線單元。

根據(jù)本技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式的殼體部件的制造方法包括：通過氣相沉積在基礎(chǔ)膜上形成金屬層，通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋。

形成裝飾膜，所述裝飾膜包含其中形成有所述微細(xì)裂紋的金屬層。

通過將承載膜粘合至所述裝飾膜來形成轉(zhuǎn)印膜。

通過模內(nèi)成型方法或燙印方法形成成型部件，以將所述裝飾膜從所述轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印下來。

根據(jù)本技術(shù)的另一個(gè)實(shí)施方式的殼體部件的制造方法包括：通過氣相沉積在要成為承載膜的基礎(chǔ)膜上形成金屬層，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋。

形成包含所述基礎(chǔ)膜和所述金屬層的轉(zhuǎn)印膜。

通過模內(nèi)成型方法或燙印方法形成成型部件，以將所述金屬層從所述轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印下來。

根據(jù)本技術(shù)的另一個(gè)實(shí)施方式的殼體部件的制造方法包括：通過氣相沉積在基礎(chǔ)膜上形成金屬層，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋。

形成裝飾膜，所述裝飾膜包含其中形成有所述微細(xì)裂紋的金屬層。

通過嵌入成型方法，與所述裝飾膜一體地形成成型部件。

所述金屬層的形成步驟可以包括在預(yù)定溫度條件和預(yù)定壓力條件下執(zhí)行真空氣相沉積，以使得構(gòu)成所述金屬層的金屬材料具有霜柱形狀。

本發(fā)明的有益效果

如上所述，根據(jù)本技術(shù)，可以實(shí)現(xiàn)具有金屬狀外觀同時(shí)能夠透過無線電波的具有高可設(shè)計(jì)性的殼體部件。應(yīng)該注意的是這里所述的效果并不必要是限制性的且可以是本發(fā)明中描述的任何效果。

附圖說明

圖1是示出了作為根據(jù)一實(shí)施方式的電子設(shè)備的便攜式終端的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。

圖2是示出了圖1中示出的金屬裝飾部的結(jié)構(gòu)示例的示意性橫截面視圖。

圖3是示出了由基礎(chǔ)膜和金屬層構(gòu)成的光澤膜的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。

圖4是示出了真空沉積裝置的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。

圖5是示意性地示出了在真空氣相沉積之后、雙軸拉伸之前的光澤膜的放大視圖。

圖6是示出了膜溫度和真空度與要成為金屬層的膜的形狀之間的關(guān)系的示意圖。

圖7是示出了雙軸拉伸裝置的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。

圖8是用于描述模內(nèi)成型方法的示意圖。

圖9是用于描述嵌入成型方法的示意圖。

圖10是用于描述無線電波透過特性的評(píng)估的示意圖。

圖11是通過由顯微鏡對(duì)樣本2的表面狀態(tài)進(jìn)行放大和拍攝而獲得的圖片。

圖12是示出了將裝置膜的前后側(cè)倒過來粘合的情形的示意圖。

圖13是示出了金屬裝飾部的另一結(jié)構(gòu)示例的示意圖。

圖14是示出了包括基礎(chǔ)膜和金屬層的轉(zhuǎn)印膜的結(jié)構(gòu)示例的圖。

具體實(shí)施方式

下文中將參照附圖描述根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施方式。

[電子設(shè)備的結(jié)構(gòu)]

圖1是示出了作為根據(jù)本技術(shù)的一個(gè)實(shí)施方式的電子設(shè)備的便攜式終端的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。圖1的部分a是示出了便攜式終端100的正面?zhèn)鹊恼晥D，圖1的部分b是示出了便攜式終端100的背面?zhèn)鹊耐敢晥D。

便攜式終端100包括殼體部101和容納在殼體部101內(nèi)的電子元件(未示出)。如圖1的部分a所示，在作為殼體部101的前面?zhèn)鹊那懊娌?02上，設(shè)有通話部103、觸摸面板104和面對(duì)攝像頭105。通話部103設(shè)置用于在電話上與對(duì)方通話，并且包括揚(yáng)聲器單元106和音頻輸入單元107。對(duì)方的聲音從揚(yáng)聲器單元106輸出，而用戶的聲音經(jīng)由音頻輸入單元107傳送給對(duì)方。

在觸摸面板104上，顯示各種圖像和gui(圖形用戶界面)。用戶能夠經(jīng)由觸摸面板104看到靜止圖像或者動(dòng)態(tài)圖像。此外，用戶經(jīng)由觸摸面板104輸入各種觸摸操作。面對(duì)攝像頭105在拍攝用戶的面部等的圖像的時(shí)候使用。每個(gè)裝置的具體結(jié)構(gòu)不受限制。

如圖1的部分b所示，在作為殼體部101的背面?zhèn)鹊谋趁娌?08上，設(shè)有裝飾成具有金屬狀外觀的金屬裝飾部10。金屬裝飾部10具有金屬狀外觀，并且能夠透過無線電波。

在背面部108的預(yù)定區(qū)域中，設(shè)有被裝飾區(qū)域11，后面會(huì)詳細(xì)描述。通過將根據(jù)本技術(shù)的裝飾膜12粘合至所述被裝飾區(qū)域11中，構(gòu)成金屬裝飾部10。因此，被裝飾區(qū)域11是要設(shè)置金屬裝飾部10的區(qū)域。具有被裝飾區(qū)域11的殼體部101、和粘合至被裝飾區(qū)域11的裝飾膜12，構(gòu)成了根據(jù)本技術(shù)的殼體部件。

在圖1的部分b中示出的示例中，在背面部108的大致中央處，部分地形成金屬裝飾部10。形成金屬裝置部10的位置并不受限制，可以合適地設(shè)定。例如，可以在整個(gè)背面部108上形成金屬裝飾部10。這樣，可以使整個(gè)背面部108具有一樣的金屬狀外觀。

也可以通過使金屬裝飾部10周圍的其他部分的外觀與金屬裝飾部10的外觀基本類似，使得整個(gè)背面部108具有一樣的金屬狀外觀。此外，也可以通過使除了金屬裝飾部108之外的部分具有諸如木紋外觀之類的其他外觀來提高可設(shè)計(jì)性?？梢院线m地設(shè)定金屬裝飾部10的位置和尺寸、其他部分的外觀等，以便于呈現(xiàn)用戶所期望的設(shè)計(jì)性。

作為容納在殼體部101內(nèi)的電子元件，在本實(shí)施方式中，容納了經(jīng)由無線電波能夠與外部讀寫器等通信的天線單元15(見圖2)。天線單元15例如包括基板(未示出)、形成在基板上的天線線圈16(見圖2)、電連接到天線線圈16的信號(hào)處理電路單元(未示出)等。天線單元15的具體結(jié)構(gòu)不受限制。要注意的是，作為容納在殼體部101內(nèi)的電子元件，也可以容納諸如ic芯片和電容器之類的各種電子元件。

圖2是示出了金屬裝飾部10的結(jié)構(gòu)示例的示意性橫截面視圖。如上所述，金屬裝飾部10包括在與天線單元15等的位置對(duì)應(yīng)的區(qū)域中設(shè)置的被裝飾區(qū)域11、和粘合至被裝飾區(qū)域11的裝飾膜12。

裝飾膜12包括粘著層18、基礎(chǔ)膜19、金屬層20和密封樹脂21。粘著層18是用于將裝飾膜12粘合至被裝飾區(qū)域11的層。粘著層18是通過在基礎(chǔ)膜19的與形成有金屬層20的表面相對(duì)側(cè)的表面上涂布粘著材料而形成的。粘著材料的種類、涂布方法等不受限制。

密封樹脂21是由透明材料構(gòu)成的，并且起到了保護(hù)基礎(chǔ)膜19和金屬層20的保護(hù)層的作用。密封樹脂21是通過涂布uv固化樹脂、熱固化樹脂、雙液固化性樹脂(two-componentcuringresin)等形成的。通過形成密封樹脂21，例如實(shí)現(xiàn)了平滑化、防污、防止剝離、防止刮傷等。

基礎(chǔ)膜19是由具有拉伸性的材料構(gòu)成的，典型地是使用樹脂膜作為基礎(chǔ)膜19。作為基礎(chǔ)膜19的材料，例如可以使用pet(聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯)、丙烯酸樹脂等。也可以使用其他材料。

金屬層20被形成用于使被裝飾區(qū)域11具有金屬狀外觀。金屬層20是通過真空氣相沉積形成在基礎(chǔ)膜19上的層，并且形成了許多微細(xì)的裂紋(下文中稱做微細(xì)裂紋)22。

通過所述微細(xì)裂紋22，在金屬層20上形成多個(gè)不連續(xù)面。因此，當(dāng)將無線電波施加到殼體部101時(shí)，可以充分地防止產(chǎn)生渦電流。因此，可以充分地防止由于渦電流損失而導(dǎo)致的電磁波能量降低，并且實(shí)現(xiàn)了高的無線電波透過性。

在本實(shí)施方式中，當(dāng)形成裝飾膜12時(shí)，首先形成由基礎(chǔ)膜19和金屬層20構(gòu)成的光澤膜23。此后，在光澤膜23上形成粘著層18和密封樹脂21。要注意的是，各層的形成順序并不局限于此。此外，根據(jù)殼體部101的成形條件等，在一些情況下可省略粘著層18和密封樹脂21。在這種情況下，光澤膜23作為根據(jù)本技術(shù)的裝飾膜而粘合至被裝飾區(qū)域11。

圖3是示出了由基礎(chǔ)膜19和金屬層20構(gòu)成的光澤膜23的結(jié)構(gòu)示例的放大示意圖。光澤膜23是通過在以輥到輥(roll-to-roll)方式輸送基礎(chǔ)膜19的狀態(tài)下實(shí)施真空氣相沉積而形成的，后面將會(huì)描述。圖3的部分a是在沿著基礎(chǔ)膜19的行進(jìn)方向(圖中的x方向)切斷光學(xué)膜的情況下的橫截面視圖。圖3的部分b是在沿著與基礎(chǔ)膜19的行進(jìn)方向正交的方向(圖中的y方向)切斷光學(xué)膜的情況下的橫截面視圖。

如圖3的部分a和圖3的部分b所示，在本實(shí)施方式中，金屬層20被形成為使得構(gòu)成金屬層20的金屬材料具有霜柱的形狀。即，多個(gè)在其中集合了金屬材料微細(xì)顆粒的微細(xì)柱狀結(jié)構(gòu)，像霜柱一樣形成在基礎(chǔ)膜19上。下文中，當(dāng)每個(gè)微細(xì)的柱稱作微細(xì)柱25時(shí)，在相鄰的微細(xì)柱25之間存在微小的空隙(未示出)。

在本實(shí)施方式中，霜柱狀結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)于抑制金屬層20的拉伸性的抑制結(jié)構(gòu)。要注意的是，這種結(jié)構(gòu)也可以表現(xiàn)為(微細(xì))柱結(jié)構(gòu)或纖維狀結(jié)構(gòu)。

如圖3的部分a中所示，對(duì)于每個(gè)微細(xì)柱25來講，微細(xì)顆粒的生長方向是以在z方向上遠(yuǎn)離基礎(chǔ)膜19的方式來移位，并且成為像香蕉一樣的彎曲形狀。每個(gè)微細(xì)柱25彎曲的方向基本上是彼此相同的。

如圖3的部分b中所示，每個(gè)微細(xì)柱25的橫截面的尺寸或位置存在變化。即多個(gè)微細(xì)柱25分別形成在基礎(chǔ)膜19上的隨機(jī)位置處。然而，并不局限于此，多個(gè)微細(xì)柱25也可以形成為沿著y方向布置在大致直線上。

形成在金屬層19中的微細(xì)裂紋22被形成在微細(xì)柱25之間。微細(xì)裂紋22是通過擴(kuò)張微細(xì)柱25之間的微細(xì)空隙形成的，并且比所述空隙足夠大。通過觀察光澤膜23的橫截面，可以充分確認(rèn)具有金屬層20的霜柱狀結(jié)構(gòu)和微細(xì)裂紋22。

將描述形成光澤膜23的方法。光澤膜23是通過氣相沉積和雙軸拉伸形成的。圖4是示出了真空沉積裝置的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。在該真空沉積裝置500中，可以通過輥到輥方式執(zhí)行連續(xù)的真空氣相沉積。

真空沉積裝置500包括設(shè)置在真空腔室(未示出)內(nèi)的膜輸送機(jī)構(gòu)501、分隔壁502、坩堝503和加熱源(未示出)。膜輸送機(jī)構(gòu)501包括卷出輥505、旋轉(zhuǎn)筒506和卷繞輥507。將基礎(chǔ)膜19從卷出輥505沿著旋轉(zhuǎn)筒506的外周表面朝向卷繞輥507輸送。

坩堝503設(shè)置在面對(duì)旋轉(zhuǎn)筒506的位置處。在坩堝503中，容納構(gòu)成金屬層20的金屬材料90。旋轉(zhuǎn)筒506的面對(duì)坩堝503的區(qū)域成為成膜區(qū)域510，并且在輸送通過成膜區(qū)域510期間，金屬材料90的微細(xì)顆粒91沉積在基礎(chǔ)膜19上。分隔壁502限制以朝向除了成膜區(qū)域510之外的區(qū)域的角度行進(jìn)的微細(xì)顆粒91。

作為金屬材料25，例如可使用對(duì)可見光具有高的反射率和相對(duì)低的透磁率的金屬(例如al、ti、cr、fe、co、ni、cu、zn、ag、w、ir、au、pt、sn或包含這些金屬的合金)。當(dāng)然，并不局限于此，也可以使用其他金屬材料。例如，在考慮了可設(shè)計(jì)性或材料成本的情況下，合適地選擇金屬材料25。

雖然金屬層20的膜厚度也不受限制，但是例如是以反射幾乎所有可見光的厚度(例如幾nm到100nm)成膜的。通過以大于或等于大約10nm的厚度形成金屬層20，可以呈現(xiàn)出足夠高的反射率。

在旋轉(zhuǎn)筒506被充分冷卻的狀態(tài)下，輸送基礎(chǔ)膜19。坩堝503內(nèi)的金屬材料90由例如加熱器、激光或電子槍等加熱源(未示出)加熱。這樣，從坩堝503產(chǎn)生包含微細(xì)顆粒91的蒸汽。然后，通過在行進(jìn)經(jīng)過成膜區(qū)域510的基礎(chǔ)膜19上沉積微細(xì)顆粒91，將金屬層20形成在基礎(chǔ)膜19上。需要注意的是，真空沉積裝置500的結(jié)構(gòu)不受限制。

圖5是示意性地示出了在真空氣相沉積之后、雙軸拉伸之前的光澤膜23′的放大視圖。圖5的部分a是在基礎(chǔ)膜19的行進(jìn)方向上切斷的情況下的橫截面視圖，圖5的部分b是在與行進(jìn)方向正交的方向上切斷的情況下的橫截面視圖。圖5的部分a和部分b中示出的光澤膜23′是處于形成微細(xì)裂紋22之前的狀態(tài)。

在進(jìn)入圖4中的成膜區(qū)域510并開始成膜之后，金屬材料90的微細(xì)顆粒91隨即以預(yù)定的角度從行進(jìn)中的基礎(chǔ)膜19的前側(cè)揚(yáng)起。當(dāng)基礎(chǔ)膜19行進(jìn)經(jīng)過成膜區(qū)域510時(shí)，金屬顆粒91的沉積方向接近于基礎(chǔ)膜19的法線方向。然后，在成膜區(qū)域510的中間位置處，金屬材料90的微細(xì)顆粒91在基本與基礎(chǔ)膜19的法線方向相同的方向上沉積。

當(dāng)基礎(chǔ)膜19經(jīng)過成膜區(qū)域510的中間位置時(shí)，金屬材料90的微細(xì)顆粒91從基礎(chǔ)膜19的后側(cè)以預(yù)定角度到達(dá)基礎(chǔ)膜19。當(dāng)基礎(chǔ)膜19的輸送繼續(xù)推進(jìn)時(shí)，微細(xì)顆粒91的沉積方向接近于基礎(chǔ)膜19的平面方向。結(jié)果，形成了多個(gè)具有像香蕉一樣彎曲形狀的微細(xì)柱25。

此外，在本實(shí)施方式中，真空氣相沉積的溫度條件和壓力條件被合適地控制，以使得金屬層20具有霜柱狀結(jié)構(gòu)。即本發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)了多個(gè)微細(xì)柱25以足夠的粘著性形成在基礎(chǔ)膜19上的合適條件。該條件是由膜溫度、真空度、成膜速度、沉積材料等決定的。特別地，膜溫度和真空度的影響顯著。通過考慮到這點(diǎn)，可通過控制膜溫度和真空度實(shí)現(xiàn)根據(jù)本技術(shù)的霜柱狀結(jié)構(gòu)。

圖6是示出了膜溫度和真空度與要成為金屬層20的膜的形狀之間的關(guān)系的示意圖。如圖6中所示，在膜溫度高和真空度高(壓力低)的情況下，獲得了致密且堅(jiān)硬、并且具有與基礎(chǔ)膜10的粘著力的膜結(jié)構(gòu)a。在膜結(jié)構(gòu)a的情況下，因?yàn)楸３至溯^高的拉伸性，所以難以通過下面要描述的雙軸拉伸形成合適的微細(xì)裂紋22。

在膜溫度低和真空度低(壓力高)的情況下，獲得了膜結(jié)構(gòu)c，該膜結(jié)構(gòu)c是充滿空隙的粗糙膜，非常易碎，并且沒有粘著力。在膜結(jié)構(gòu)c的情況下，容易通過雙軸拉伸形成裂紋，但由于金屬層20的強(qiáng)度，可能會(huì)損壞金屬光澤的外觀。此外，因?yàn)榕c基礎(chǔ)膜19的粘著力較低，在通過模內(nèi)成型(in-moldmolding)方法、嵌入成型(insertmolding)方法等形成殼體部101時(shí)，金屬層20很有可能會(huì)溢出落下。

當(dāng)將膜溫度和真空度控制成為上面描述的膜溫度和真空度的中間值時(shí)，因?yàn)槭且宰畛醺街交A(chǔ)膜19上的顆粒作為核而開始生長的、并且生長成為柱狀(柱結(jié)構(gòu))，所以獲得了具有適度硬度、粘著力的膜結(jié)構(gòu)b。在膜結(jié)構(gòu)b的情況下，與膜結(jié)構(gòu)a或塊狀金屬(bulkmetal)相比，可以抑制拉伸性，并且可通過雙軸拉伸合適地形成微細(xì)裂紋22。此外，與膜結(jié)構(gòu)c相比，膜結(jié)構(gòu)b具有合適的強(qiáng)度和足夠的粘著力，所以可實(shí)現(xiàn)金屬裝飾部10的高耐久性，并且可通過模內(nèi)成型等在殼體部101上實(shí)現(xiàn)合適的裝飾。

通過將膜溫度和真空度控制在中間范圍內(nèi)，可以形成具有膜結(jié)構(gòu)b的金屬層20。作為所述中間范圍，例如膜溫度在從大約-30℃到大約100℃的范圍內(nèi)，真空度在大約1×10^-4pa到大約1×10^-2pa的范圍內(nèi)。當(dāng)然，并不局限于此，使金屬層20具有膜結(jié)構(gòu)b的合適條件例如可以僅需要根據(jù)所要沉積的金屬材料來合適設(shè)定。例如，在金屬層20具有膜結(jié)構(gòu)a的情況下，可以僅需要降低膜溫度和真空度。此外，在金屬層20具有膜結(jié)構(gòu)c的情況下，可以僅需要升高膜溫度和真空度。

圖7是示出了雙軸拉伸裝置的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。雙軸拉伸裝置550包括基底構(gòu)件551、和設(shè)置在基底構(gòu)件551上并且具有基本相同結(jié)構(gòu)的四個(gè)拉伸機(jī)構(gòu)552。在這四個(gè)拉伸機(jī)構(gòu)552中，分別在彼此正交的兩個(gè)軸(x軸和y軸)的每個(gè)軸上布置兩個(gè)機(jī)構(gòu)，以使得這兩個(gè)機(jī)構(gòu)在每個(gè)軸上彼此面對(duì)。下文中將參照朝著與y軸方向的箭頭相反的方向拉伸光澤膜23′的拉伸機(jī)構(gòu)552a進(jìn)行描述。

拉伸機(jī)構(gòu)552a包括固定塊553、活動(dòng)塊554和多個(gè)夾緊件(clip)555。固定塊553被固定到基底構(gòu)件551。在拉伸方向(y方向)上延伸的拉伸螺釘556貫穿固定塊553。

活動(dòng)塊554可移動(dòng)地設(shè)置在基底構(gòu)件551上?；顒?dòng)塊554連接到貫穿固定塊553的拉伸螺釘556。因此，通過操作拉伸螺釘556，活動(dòng)塊554可以在y方向上移動(dòng)。

多個(gè)夾緊件555沿著與拉伸方向正交的方向(x方向)布置。在x方向上延伸的滑動(dòng)軸557貫穿多個(gè)夾緊件555中的每個(gè)夾緊件555。每個(gè)夾緊件555在x方向上的位置可以沿著滑動(dòng)軸557變化。多個(gè)夾緊件555中的每個(gè)夾緊件555、與活動(dòng)塊554是通過連接桿558和連接銷559彼此連接的。

可以通過拉伸螺釘556的操作量，來控制拉伸率(拉伸量相對(duì)于原始尺寸的比率)。此外，也可以通過合適地設(shè)定多個(gè)夾緊件555的數(shù)量或位置、連接銷558的長度等，來控制拉伸率。需要注意的是，雙軸拉伸裝置550的結(jié)構(gòu)不受限制。在根據(jù)本實(shí)施方式的雙軸拉伸裝置550中，雖然是利用全切片(full-cutsheet)對(duì)膜執(zhí)行雙軸拉伸的，但是也可以通過輥連續(xù)地執(zhí)行雙軸拉伸。例如，通過施加由輥之間的行進(jìn)方向引起的張力、以及由設(shè)置在輥之間的與行進(jìn)同步移動(dòng)的夾緊件555引起的與行進(jìn)方向垂直的張力，可以執(zhí)行連續(xù)的雙軸拉伸。

真空氣相沉積后的光澤膜23′被布置在基底構(gòu)件551上，拉伸機(jī)構(gòu)552的多個(gè)夾緊件555被附裝到四條邊的每條邊上。在通過溫控加熱燈(未示出)或溫控?zé)犸L(fēng)加熱光澤膜23′的狀態(tài)下，通過操作四個(gè)拉伸螺釘556來執(zhí)行雙軸拉伸。這樣，如圖3中所示，在金屬層20上形成多個(gè)微細(xì)裂紋22。

需要注意的是，雖然拉伸率不受限制，但是典型的是將拉伸率設(shè)定在從大約2％到大約10％的范圍內(nèi)。拉伸率可以基于光澤膜23的尺寸、金屬材料拉伸性等合適設(shè)定。所形成的微細(xì)裂紋22的節(jié)距雖然也取決于天線的頻帶，但是作為不能由人的肉眼判別的尺寸，可以被設(shè)定在例如大于等于1μm且小于等于500μm的范圍內(nèi)。但是并不局限于此，例如也可以基于外觀上的可設(shè)計(jì)性等進(jìn)行合適設(shè)定。

圖8是用于描述模內(nèi)成型方法的示意圖。模內(nèi)成型是通過圖8中示出的包括腔模601和芯模602的成型裝置600執(zhí)行的。如圖8的部分a中所示，在腔模601中形成與殼體部101的形狀對(duì)應(yīng)的凹部603。轉(zhuǎn)印膜30設(shè)置成覆蓋該凹部603。轉(zhuǎn)印膜30是通過將圖2中示出的裝飾膜12粘合至承載膜31而形成的。通過例如輥到輥方式從成型裝置600的外部提供轉(zhuǎn)印膜30。

如圖8的部分b中所示，將腔模601和芯模602夾緊，并且經(jīng)由形成在芯模602中的內(nèi)澆口部(gatepart)606將成型樹脂35注入凹部603中。在腔模601中，形成供應(yīng)成型樹脂35的直澆道部(spruepart)608和連接到直澆道部的橫澆道部(runnerpart)609。當(dāng)將腔模601和芯模602夾緊時(shí)，橫澆道部609和內(nèi)澆口部606彼此連接。這樣，將供應(yīng)到直澆道部608的成型樹脂35注入凹部603中。需要注意的是，用于注入成型樹脂35的結(jié)構(gòu)不受限制。

作為成型樹脂35，使用例如諸如abs(丙烯腈·丁二烯·苯乙烯)樹脂之類的通用樹脂、諸如pc(聚碳酸酯)樹脂、abs和pc混合樹脂之類的工程塑料等。并不局限于此，可以合適地選擇成型樹脂的材料和顏色(透明度)以便獲得所期望的殼體部(殼體部件)。

將在高溫下處于熔化狀態(tài)的成型材料35注入凹部603中。成型材料35被注入以對(duì)凹部603的內(nèi)表面施壓。此時(shí)，通過成型樹脂35對(duì)布置在凹部603上的轉(zhuǎn)印膜30施壓，以使其變形。通過成型樹脂35的熱量，使得形成在轉(zhuǎn)印膜30上的粘著層18熔化，并將裝飾膜12粘合至成型樹脂35的表面。

在注入成型樹脂35之后，將腔模601和芯模602冷卻，并將夾具松開。上面轉(zhuǎn)印了裝飾膜12的成型樹脂35被附著到芯模602。通過取出該成型樹脂35，制造出在預(yù)定區(qū)域中形成有金屬裝飾部10的殼體部101。需要注意的是，當(dāng)將夾具松開時(shí)，承載膜30剝離。

通過使用模內(nèi)成型方法，可以容易地使裝飾膜12的位置吻合，并且簡單地形成金屬裝飾部10。此外，殼體部101的形狀的設(shè)計(jì)自由度較高，可以制造出具有各種形狀的殼體部101。

需要注意的是，在殼體部101內(nèi)側(cè)容納的天線單元15可以在殼體部101成型時(shí)通過模內(nèi)成型方法附裝。替代性地，也可以在殼體部101成型之后，將天線單元15貼附到殼體部101的內(nèi)側(cè)。此外，在一些情況下，也可將天線單元15內(nèi)置于殼體內(nèi)部。

如圖2中所示，在本實(shí)施方式中，基礎(chǔ)膜19和殼體部101經(jīng)由粘著層18粘合。并不局限于此，如圖12中所示，也可以是密封樹脂21側(cè)被粘合至殼體部101。在這種情況下，使用透明的基礎(chǔ)膜19，而密封樹脂21可以是不透明的。即，作為密封樹脂21，可以使用任意顏色的樹脂。這樣，可以提高可設(shè)計(jì)性。此外，可以使基礎(chǔ)膜19起到保護(hù)層的作用。

圖9是用于描述嵌入成型方法的示意圖。在嵌入成型中，作為嵌入膜，在成型裝置650的腔模651內(nèi)設(shè)置裝飾膜12。然后如圖9的部分b中所示，將腔模651和芯模652夾緊，經(jīng)由內(nèi)澆口部656將成型樹脂35注入腔模651中。這樣，殼體部101與裝飾膜12一體成型。通過使用嵌入成型方法，還可以容易地形成金屬裝飾部10。此外，可以制造出具有各種形狀的殼體部101。需要注意的是，執(zhí)行模內(nèi)成型和嵌入成型的成型裝置的結(jié)構(gòu)并不受限制。

將要描述在形成根據(jù)本技術(shù)的金屬裝飾部10的情況下的金屬裝飾性和無線電透過性。圖10的部分a是用于描述無線電波透過性的評(píng)估方法的示意圖。圖10的部分b是示出了無線電波透過性的評(píng)估結(jié)果的表格。

作為用于該評(píng)估的樣本，形成了從樣本1到樣本8的8個(gè)樣本。在每個(gè)樣本中，金屬層20的膜是通過使用具有大約100μm厚度的pet膜作為基礎(chǔ)膜19，并通過真空氣相沉積形成的，以具有圖6中示出的膜結(jié)構(gòu)b。

作為氣相沉積條件，是使用從大約1×10^-3pa到大約1×10^-2pa的真空度，以大約1nm/s的速度執(zhí)行成膜的。此時(shí)，坩堝503與基礎(chǔ)膜19之間的距離大約是500nm。每個(gè)樣本的金屬材料如圖10的部分b的表格中一樣。此外，其中，tio2(氧化鈦)的氧化膜是通過在氣相沉積ti的同時(shí)以大約30sccm流動(dòng)氧氣來成膜的。

在真空氣相沉積之后，利用圖10的部分b中示出的拉伸率，執(zhí)行雙軸拉伸工藝。需要注意的是，在拉伸率為0％的情況下，不執(zhí)行拉伸工藝(樣本1)。在這些樣本之中的每個(gè)樣本中，確認(rèn)了其中可以以高反射性反射光的高可設(shè)計(jì)性。

如圖10的部分a中所示，使用網(wǎng)絡(luò)分析器(高頻電路)70來評(píng)估無線電波透過性。網(wǎng)絡(luò)分析器70的反射功率端子71和通過功率端子72位于直徑為100mm長度為260mm的導(dǎo)波管73的兩端。在導(dǎo)波管73的中央部分處設(shè)有孔75，在孔75中形成開口尺寸為40mm×40mm的正方形孔74。

將上述每個(gè)樣本分別夾在所述孔75中，以對(duì)其無線電波透過性進(jìn)行評(píng)估。在本實(shí)施方式中，作為無線電波透過性的評(píng)估值，計(jì)算由wifi等通常使用的2.45ghz下的衰減率。如圖10的部分b中所示，通過減去作為參考值的沒有放入樣本時(shí)的值，獲得以db表示的衰減率。衰減率越接近0db，無線電波透過性越高。而負(fù)的值越大，無線電波透過性較低。

樣本1是厚度為20nm、沒有被拉伸的co膜。在該樣本1中，表面電阻和無線電波衰減率分別為22ω/cm和-9.3db，無線電波透過性較低。

樣本2是厚度相同、且在x和y方向被分別拉伸大約3％的co膜。在該樣本2中，表面電阻是無限大，無線電波衰減率是-0.5db。即，呈現(xiàn)出非常高的無線電波透過性。其外觀也是與沒有被拉伸的樣本1的外觀基本相同的深色金屬，足以將其裝飾為具有金屬光澤。

圖11是通過用顯微鏡對(duì)樣本2的表面狀態(tài)進(jìn)行放大和拍攝而獲得的圖片。該圖片被拍攝為包括圖11中示出的x軸和y軸。然而，為了容易識(shí)別所述軸和刻度部分，各條線在該圖片上被增強(qiáng)圖示。

圖11中示出的x軸和y軸的一個(gè)刻度的尺寸大約是100μm。因此可以看出，在樣本2的金屬層20上，在雙軸方向上形成節(jié)距大約為10μm的微細(xì)裂紋22。需要注意的是，圖10的部分b中示出的裂紋尺寸(μm)等于微細(xì)裂紋22的節(jié)距。

樣本3是厚度為64nm、且執(zhí)行雙軸拉伸的al膜。如圖10的部分b中所示，在雙軸方向上合適地形成節(jié)距大約為15μm的微細(xì)裂紋22，無線電波衰減率非常高，為-0.1db。

這些al、ti等均是具有亮度和光澤的金屬，并且是用于實(shí)現(xiàn)金屬光澤的非常有用的金屬材料。然而，因?yàn)閍l、ti等具有高的拉伸性，所以通過傳統(tǒng)的技術(shù)難以形成微細(xì)裂紋22。在本技術(shù)中，通過在氣相沉積中形成金屬層20以具有霜柱狀結(jié)構(gòu)，可以抑制拉伸性。因此，即使在使用諸如al和ti之類的具有高拉伸性的金屬材料的情況下，也可以通過雙軸拉伸工藝合適地形成微細(xì)裂紋22。結(jié)果，可以呈現(xiàn)出高的無線電波透過性，并且具有非常好的金屬光澤外觀。

樣本4是co和al的雙層膜。即使在具有這種雙層結(jié)構(gòu)的情況下，也能形成具有合適無線電波透過性的光澤膜23。這樣，可以增加金屬光澤的變化性，進(jìn)一步提高了可設(shè)計(jì)性。需要注意的是，根據(jù)本技術(shù)，即使在使用三層或更多層的疊層結(jié)構(gòu)的情況下也能實(shí)現(xiàn)高的無線電波透過性。

在樣本5-8中，通過使用ti+tio2的雙層結(jié)構(gòu)，可利用ti膜表面和tio2膜光的干涉產(chǎn)生顏色。即使在利用這樣的由金屬+氧化膜構(gòu)成的裝飾膜的情況下，也可以通過本技術(shù)呈現(xiàn)出高的無線電波透過性。如圖10的部分b中所示，通過調(diào)節(jié)tio2的厚度，可以實(shí)現(xiàn)各種金屬光澤并提高可設(shè)計(jì)性。

如上所述，作為金屬層20，可以形成具有由金屬層或氧化金屬層層疊而成的疊層結(jié)構(gòu)的金屬層。即使在包括al、al2o3(氧化鋁)、ti、tio2和包含al和ti中的至少一種金屬的合金中的任一種的層的情況下，也可以呈現(xiàn)出高的無線電波透過性。

如上所述，在本實(shí)施方式中，裝飾膜12被粘合至殼體部101的被裝飾區(qū)域11。在所述裝飾膜12中，通過真空氣相沉積在基礎(chǔ)膜19上形成金屬層20，并且通過對(duì)基礎(chǔ)膜19執(zhí)行雙軸拉伸，在金屬層20中形成微細(xì)裂紋22。

因?yàn)橥ㄟ^氣相沉積沉積形成金屬材料膜，所以可以使用諸如al和ti之類的難以通過諸如非電解鍍(electrolessplating)之類的濕鍍?cè)跇渲线M(jìn)行沉積的材料。因此，可使用的金屬材料的選擇范圍是非常大的。此外，因?yàn)橥ㄟ^雙軸拉伸形成微細(xì)裂紋22，所以可以在真空氣相沉積中形成具有高粘著性的金屬層20。因此，在模內(nèi)成型時(shí)和嵌入成型時(shí)，金屬層20不會(huì)溢出落下，并且可以合適地使殼體部101成型。此外，還可以提高金屬裝飾部10本身的耐久性。

此外，因?yàn)樵谡婵諝庀喑练e中金屬層形成為具有霜柱形狀并且抑制了拉伸性，所以可以使用具有高拉伸性的諸如al、ti、ag、au和sn之類的金屬材料。在這點(diǎn)上，也顯著拓寬了金屬材料的選擇范圍，并且可以將殼體部101形成為具有所期望的金屬外觀。結(jié)果，可以實(shí)現(xiàn)能夠透過無線電波并且具有金屬狀外觀、具有高的可設(shè)計(jì)性的殼體部件。

此外，盡管真空成膜方法在傳統(tǒng)上是高成本的加工方法，但是在本實(shí)施方式中，因?yàn)榭赏ㄟ^輥到輥方式在膜上連續(xù)成膜。因此，可以顯著降低成本并實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)率的提高。

在具有上述無線電波透過性的銦箔中，通過不連續(xù)的銦膜實(shí)現(xiàn)無線電波透過性。然而，在該銦箔中，因?yàn)槟ず穸确浅１?，所以沒有獲得充足的反射率，會(huì)變暗，并且金屬裝飾的可設(shè)計(jì)性非常低。此外，銦是稀有金屬，所以花費(fèi)了材料成本。

還可以構(gòu)想到一種通過向金屬鍍膜增加應(yīng)力并使其形成裂紋的形成非連續(xù)膜的方法。然而，可通過濕鍍成膜的金屬材料是有限的。特別地，al、ti、zn等無法通過非電解鍍覆蓋樹脂。此外，存在諸如廢液處理之類的環(huán)境問題。

還可以構(gòu)想到一種通過精細(xì)圖案蝕刻形成非連續(xù)膜的方法。然而，由于增加了抗蝕劑涂布、曝光、蝕刻、清洗和樹脂密封之類的工藝而導(dǎo)致成本增加。

相反，在包括根據(jù)本技術(shù)的金屬裝飾部的殼體部中，可以呈現(xiàn)如下的各種效果。

可以提高無線電波透過特性，而且還可通過金屬裝飾提高設(shè)計(jì)性附加價(jià)值。

因?yàn)橥ㄟ^氣相沉積等可以使用基本所有的金屬，所以紋理的選擇范圍很廣。

即使在利用高拉伸性的金屬材料的情況下，也可以通過充分地冷卻基礎(chǔ)膜19來控制氣相沉積條件，實(shí)現(xiàn)結(jié)晶性的微細(xì)化、霜柱狀的生長結(jié)構(gòu)、微細(xì)柱之間的空隙等。結(jié)果，因?yàn)榭稍陔p軸拉伸中容易地實(shí)現(xiàn)易于形成微細(xì)裂紋22的結(jié)構(gòu)(拉伸性被抑制的結(jié)構(gòu))，所以可以實(shí)現(xiàn)具有無線電波透過性的裝飾。

因?yàn)橄啾扔趥鹘y(tǒng)上使用的產(chǎn)品可以提高光澤度和反射率，所以可以實(shí)現(xiàn)高的附加價(jià)值。

因?yàn)榭梢酝ㄟ^諸如輥到輥方式之類的批量生產(chǎn)工藝容易地形成光澤膜23，所以在批量生產(chǎn)和成本降低方面是非常有利的。

因?yàn)椴恍枰獙?shí)施掩模工藝或蝕刻工藝就可以成型，所以可以實(shí)現(xiàn)成本降低并防止產(chǎn)生有害廢棄物。

因?yàn)榭梢匀菀椎卦谧钔獠啃纬杀Ｗo(hù)金屬層20的保護(hù)層(例如圖2中的密封樹脂21)，所以可以防止諸如金屬層20剝落之類的缺陷，并且防止金屬層20由于長期使用而減少。因此，可以保持外觀品質(zhì)。此外，通過對(duì)保護(hù)部進(jìn)行著色，可以實(shí)現(xiàn)金屬+著色的新的設(shè)計(jì)表現(xiàn)。

因?yàn)榭梢匀菀椎匦纬蓸渲缘臍んw部101，所以可以實(shí)現(xiàn)商品重量的減輕。

本技術(shù)適用于在內(nèi)部容納有內(nèi)部天線等的基本所有的電子設(shè)備。這種電子設(shè)備的示例包括諸如移動(dòng)電話、智能手機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)、游戲機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、音頻設(shè)備、tv、投影儀、汽車導(dǎo)航系統(tǒng)、gps終端、數(shù)字?jǐn)z像機(jī)和可穿戴信息設(shè)備(眼鏡型、腕帶型)之類的電子設(shè)備，諸如遙控器、鼠標(biāo)和觸摸筆之類的通過無線通信等操作這些電子設(shè)備的操作設(shè)備，以及諸如車載雷達(dá)和車載天線之類的設(shè)置在車輛中的電子設(shè)備，等等。

需要注意的是，包括上面列出的效果在內(nèi)的在本說明書中記載的效果僅是示例性的并不是限制性的，而且可以提供額外的效果。而且，上文多個(gè)效果的描述并不意味著這些效果必須同時(shí)呈現(xiàn)。而是意味著，可根據(jù)條件等獲得上面提到的效果中的至少任一種，而且當(dāng)然也可以呈現(xiàn)在本說明書中沒有描述的效果。

<其他實(shí)施方式>

本技術(shù)并不局限于上面說明的實(shí)施方式，也可以實(shí)現(xiàn)其他各種實(shí)施方式。

圖13是示出了金屬裝飾部的其他結(jié)構(gòu)示例的示意圖。在圖13的部分a中示出的金屬裝飾部210中，在裝飾性膜212內(nèi)的基礎(chǔ)膜219上執(zhí)行凹凸加工，并通過真空氣相沉積在凹凸表面219a上形成金屬層220。然后，通過雙軸拉伸形成微細(xì)裂紋222。這樣，金屬層220的表面也具有與基礎(chǔ)膜219的凹凸對(duì)應(yīng)的凹凸形狀。結(jié)果，金屬裝飾部210可以是金屬精整加工(metalprocessingfinishing)的毛絲面加工(hairlineprocessing)和噴砂加工(blastprocessing)之類的設(shè)計(jì)。通過改變凹凸的形狀、尺寸等，可以改變金屬裝飾部210的紋理。需要注意的是，當(dāng)在與凹凸表面219a相對(duì)側(cè)的表面219b上形成金屬層220的情況下，也可以獲得相同的效果。

在圖13的部分b中示出的金屬裝飾部310中，在裝飾膜312內(nèi)的金屬層320上，形成作為光學(xué)干涉膜的氧化膜380。這是與圖10的部分b中示出的樣本5至8的ti+tio2的雙層結(jié)構(gòu)相當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)，可以呈現(xiàn)出很高的可設(shè)計(jì)性。例如，還可以實(shí)現(xiàn)根據(jù)觀看金屬裝飾部310的角度而發(fā)生色澤、紋理等變化的結(jié)構(gòu)。這也可以通過合適地設(shè)定基礎(chǔ)膜219的凹凸形狀、或者密著樹脂221的材質(zhì)或厚度來實(shí)現(xiàn)。

圖14是包括基礎(chǔ)膜和金屬層的轉(zhuǎn)印膜的結(jié)構(gòu)示例的示意圖。轉(zhuǎn)印膜430包括基礎(chǔ)膜419、剝離層481、硬涂層482、金屬層420、密著樹脂421和粘著層418。剝離層481和硬涂層482按所述順序形成在基礎(chǔ)膜419上。

因此，金屬層420是在其中形成有剝離層481和硬涂層482的基礎(chǔ)膜419上形成的。然后，通過拉伸基礎(chǔ)膜419，在金屬層420中形成微細(xì)裂紋422。

如圖14的部分b中所示，當(dāng)通過模內(nèi)成型方法形成殼體部101時(shí)，將基礎(chǔ)膜419和剝離層481剝離，將包括金屬層420的裝飾膜412粘合至被裝飾區(qū)域411。如上所述，基礎(chǔ)膜419可以用作承載膜。需要注意的是，其中形成有剝離層481和硬涂層482的基礎(chǔ)膜419也可以視為根據(jù)本技術(shù)的基礎(chǔ)膜。

在上文中，已經(jīng)通過霜柱狀結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了抑制金屬層拉伸性的抑制結(jié)構(gòu)。但并不局限于此，抑制結(jié)構(gòu)也可以用其他的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)。例如，可以將在構(gòu)成金屬層的金屬材料中混入雜質(zhì)的結(jié)構(gòu)用作抑制結(jié)構(gòu)。例如，與通過純金屬形成金屬層的情形相比，不通過純金屬、而是通過混入1％或更多雜質(zhì)的材料形成金屬層也可以抑制拉伸性。此外，通過形成金屬氧化層作為金屬層的基底層，也可以抑制拉伸性。需要注意的是，對(duì)于具有低拉伸性的金屬而言，可以不形成抑制結(jié)構(gòu)。在這種情形中，也可以通過真空氣相沉積和雙軸拉伸形成根據(jù)本技術(shù)的裝飾膜。

在上文中，如圖3等所示，形成彎曲的微細(xì)柱25。并不局限于此，也可以通過真空氣相沉積將微細(xì)柱形成在固定于平面上的基礎(chǔ)膜上。在這種情況下，金屬材料的微細(xì)顆粒呈直線狀生長，形成在一個(gè)方向上延伸的微細(xì)柱。當(dāng)然，也可以通過批量成膜處理形成光澤膜23。

在上文中，通過模內(nèi)成型和嵌入成型，使殼體部成型。并不局限于此，包括根據(jù)本技術(shù)的金屬裝飾部的殼體部件可以通過真空成型或壓力成型來成型。

用于形成微細(xì)裂紋22的拉伸并不局限于雙軸拉伸?？梢詧?zhí)行單軸拉伸或者三軸或更多軸拉伸。此外，可以進(jìn)一步通過輥到輥方式，對(duì)由圖4中示出的卷繞輥507卷起的基礎(chǔ)膜19執(zhí)行雙軸拉伸。此外，在執(zhí)行真空氣相沉積之后，可以進(jìn)一步在由卷繞輥507卷起之前執(zhí)行雙軸拉伸。

在上文中，裝飾膜12通過模內(nèi)成型方法或嵌入成型方法粘合至殼體部101。并不局限于此，裝飾膜12可以通過諸如熱轉(zhuǎn)印和粘附之類的其他方法粘合至殼體部101。即，可以通過使用圖8和圖14中示出的轉(zhuǎn)印膜30和430，利用燙印(hotstamping)方法形成殼體部，該殼體部具有被裝飾區(qū)域，包括金屬層的裝飾膜被轉(zhuǎn)印到該被裝飾區(qū)域。

上文所述的各實(shí)施方式的特征部分之中的至少兩個(gè)特征部分也可以組合。即，各實(shí)施方式中描述的各種特征部分可以在不區(qū)分各實(shí)施方式的情況下任意組合。

需要注意的是，本技術(shù)還可以采取以下的結(jié)構(gòu)。

(1)一種殼體部件，包括：

裝飾膜，所述裝飾膜包括金屬層，所述金屬層通過氣相沉積形成在基礎(chǔ)膜上，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋；以及

殼體部，所述殼體部包括被裝飾區(qū)域，所述裝飾膜被粘合至所述被裝飾區(qū)域。

(2)根據(jù)(1)所述的殼體部件，其中

所述裝飾膜包括其中形成有所述金屬層的基礎(chǔ)膜。

(3)根據(jù)(1)或(2)所述的殼體部件，其中

通過對(duì)所述基礎(chǔ)膜執(zhí)行雙軸拉伸來形成所述微細(xì)裂紋。

(4)根據(jù)(1)-(3)中任一項(xiàng)所述的殼體部件，其中

所述金屬層具有抑制拉伸性的抑制結(jié)構(gòu)。

(5)根據(jù)(4)所述的殼體部件，其中

所述抑制結(jié)構(gòu)是其中構(gòu)成所述金屬層的金屬材料具有霜柱形狀的結(jié)構(gòu)。

(6)根據(jù)(4)或(5)所述的殼體部件，其中

所述金屬層是通過真空氣相沉積形成在所述基礎(chǔ)膜上的，且

所述抑制結(jié)構(gòu)是通過在預(yù)定溫度條件和預(yù)定壓力條件下執(zhí)行所述真空氣相沉積形成的。

(7)根據(jù)(6)所述的殼體部件，其中

所述金屬層是通過對(duì)從卷出輥沿著旋轉(zhuǎn)筒的外周面朝向卷繞輥輸送的所述基礎(chǔ)膜執(zhí)行真空氣相沉積形成的。

(8)根據(jù)(4)-(7)中任一項(xiàng)所述的殼體部件，其中

所述金屬層是由鋁、鈦、以及包含鋁和鈦中的至少之一的合金之中的任一種材料構(gòu)成的。

(9)根據(jù)(4)-(7)中任一項(xiàng)所述的殼體部件，其中

所述金屬層具有由金屬層或氧化金屬層層疊而成的疊層結(jié)構(gòu)。

(10)根據(jù)(9)所述的殼體部件，其中

所述金屬層包括鋁、氧化鋁、鈦、氧化鈦、以及包含鋁和鈦中的至少之一的合金之中的任一種材料的層。

(11)根據(jù)(1)-(10)中任一項(xiàng)所述的殼體部件，其中

所述微細(xì)裂紋是以小于或等于1μm且大于或等于500μm的節(jié)距形成的。

(12)一種電子設(shè)備，包括：

裝飾膜，所述裝飾膜包括金屬層，所述金屬層通過氣相沉積形成在基礎(chǔ)膜上，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋；以及

殼體部，所述殼體部包括被裝飾區(qū)域，所述裝飾膜被粘合至所述被裝飾區(qū)域；以及

電子元件，所述電子元件被容納在所述殼體部內(nèi)。

(13)根據(jù)(12)所述的電子設(shè)備，

所述電子元件包括設(shè)置在所述被裝飾區(qū)域的內(nèi)側(cè)的天線單元。

(14)一種殼體部件的制造方法，包括：

通過氣相沉積在基礎(chǔ)膜上形成金屬層，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋；

形成裝飾膜，所述裝飾膜包含其中形成有所述微細(xì)裂紋的金屬層；

通過將承載膜粘合至所述裝飾膜來形成轉(zhuǎn)印膜；以及

通過模內(nèi)成型方法或燙印方法形成成型部件，以將所述裝飾膜從所述轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印下來。

(15)一種殼體部件的制造方法，包括：

通過氣相沉積在要成為承載膜的基礎(chǔ)膜上形成金屬層，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋；

形成包含所述基礎(chǔ)膜和所述金屬層的轉(zhuǎn)印膜；以及

通過模內(nèi)成型方法或燙印方法形成成型部件，以將所述金屬層從所述轉(zhuǎn)印膜轉(zhuǎn)印下來。

(16)一種殼體部件的制造方法，包括：

通過氣相沉積在基礎(chǔ)膜上形成金屬層，并通過拉伸所述基礎(chǔ)膜而在所述金屬層中形成微細(xì)裂紋；

形成裝飾膜，所述裝飾膜包含其中形成有所述微細(xì)裂紋的金屬層；以及

通過嵌入成型方法，與所述裝飾膜一體地形成成型部件。

(17)根據(jù)權(quán)利要求14所述的殼體部件的制造方法，其中

所述金屬層的形成步驟包括在預(yù)定溫度條件和預(yù)定壓力條件下執(zhí)行真空氣相沉積，以使得構(gòu)成所述金屬層的金屬材料具有霜柱形狀。

參考標(biāo)記列表

10、210、310金屬裝飾部

11、411被裝飾區(qū)域

12、212、312、412裝飾膜

15天線單元

19、219、419基礎(chǔ)膜

20、220、320、420金屬層

22、422微細(xì)裂紋

25微細(xì)柱

30、430轉(zhuǎn)印膜

31承載膜

90金屬材料

100便攜式終端

101殼體部

500真空沉積裝置

550雙軸拉伸裝置

600、650成型裝置