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耐高撓折的剛撓結合板的制作方法

文檔序號:12631863閱讀:638來源:國知局
耐高撓折的剛撓結合板的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及一種剛撓結合板,具體涉及一種耐高撓折的剛撓結合板。



背景技術:

隨著手機指紋識別蓬勃發(fā)展,指紋模塊承載板要求產品尺寸小,耐熱性高,同時具有優(yōu)越彎折性能以及多功能化的剛撓結合印制線路板應用越來越多。但現(xiàn)有四層剛撓結合板結合1‐2‐1的結構,無法滿足彎折次數(shù)大于10萬次的需求。為了滿足彎折次數(shù)要求現(xiàn)采用剛撓結合處點膠方式消除彎折時的應力,但點膠工作量大生產效率低,同時點膠也易出現(xiàn)點膠過量或點膠偏少造成報廢。



技術實現(xiàn)要素:

本發(fā)明針對上述問題提出了一種耐高撓折的剛撓結合板,在剛撓結合處形成凹陷,消除剛撓結合,增加了彎折次數(shù)。

具體的技術方案如下:

耐高撓折的剛撓結合板,所述剛撓結合板的中間層為厚度為20μm的聚酰亞胺層,聚酰亞胺層內側為PCB剛性板部,聚酰亞胺層外側為FPC撓性板部;

所述中間層的上表面自下而上依次疊加有:厚度為12μm的L2線路板,厚度為27μm的上層覆蓋膜,厚度為50μm的上層半固化片,厚度為200μm的上層FR4層,厚度為35μm的L1線路板和厚度為20μm的上層阻焊層;

所述中間層的下表面自上而下依次疊加有:厚度為12μm的L3線路板,厚度為27μm的下層覆蓋膜,厚度為50μm的下層半固化片,厚度為200μm的下層FR4層,厚度為35μm的L4線路板和厚度為20μm的下層阻焊層;

所述上層半固化片、下層半固化片、上層FR4層、下層FR4層、L1線路板、L4線路板、上層阻焊層和下層阻焊層均位于PCB剛性板部上,所述下層覆蓋膜的下表面上固定有補強鋼片,補強鋼片位于FPC撓性板部上,補強鋼片的厚度為200μm。

上述耐高撓折的剛撓結合板,其中,所述上層FR4層相較于上層半固化片向外延伸0.2mm,所述下層FR4層相較于下層半固化片向外延伸0.2mm,使剛撓結合板的剛撓結合處形成凹陷。

上述耐高撓折的剛撓結合板,其中,所述上層FR4層、下層FR4層、上層半固化片、下層半固化片、上層覆蓋膜、下層覆蓋膜和聚酰亞胺層上均設有若干穿線孔,L1線路板、L2線路板、L3線路板和L4線路板穿過穿線孔實現(xiàn)線路連通。

上述耐高撓折的剛撓結合板,其中,所述剛撓結合板的制備方法為:

(1)將半固化片和FR4層承載膜分別開料、鉆定位孔,對半固化片進行激光切割,將FR4層承載膜貼合在半固定片上,進行沖切,F(xiàn)R4層承載膜相對于半固化片向外延伸0.2mm;

(2)內層撓性板制作:將內層軟板開料后,依次經過內層鉆孔、內層前處理、內層線路超粗化、貼覆蓋膜、阻焊前處理、內層阻焊、內層阻焊曝光、內層阻焊顯影和內層阻焊固化操作;

(3)外層剛性板制作:將各分層疊層、層壓后依次進行X‐Ray靶沖、外層鉆孔、除鉆污、PTH、鍍銅、外層前處理、外層貼干膜、外層線路曝光、外層線路顯影、外層線路蝕刻、外層阻焊前處理、外層阻焊、外層阻焊曝光、外層阻焊顯影、外層阻焊固化操作;

(4)揭除保護蓋,依次進行化金、印刷字符、電性能測試、銑外形、撓性板處沖外型、成品清洗操作后,進行成品檢驗并包裝出貨。

本發(fā)明的有益效果為:

通過上述方法制備得到的本發(fā)明在剛撓結合交接處形成凹陷,消除剛撓結合,增加彎折次數(shù),提高了生產效率,降低了廢品率,降低了成本。

附圖說明

圖1為本發(fā)明剖視圖。

圖2為本發(fā)明半固化片激光切割示意圖。

圖3為本發(fā)明半固化片沖切示意圖。

圖4為本發(fā)明保護蓋結構圖(1)。

圖5為本發(fā)明保護蓋結構圖(2)。

圖6為本發(fā)明A‐A方向剖視圖。

具體實施方式

為使本發(fā)明的技術方案更加清晰明確,下面結合附圖對本發(fā)明進行進一步描述,任何對本發(fā)明技術方案的技術特征進行等價替換和常規(guī)推理得出的方案均落入本發(fā)明保護范圍。

附圖標記

厚度為20μm的聚酰亞胺層1、PCB剛性板部2、FPC撓性板部3、厚度為12μm的L2線路板4、厚度為27μm的上層覆蓋膜5、厚度為50μm的上層半固化片6、厚度為200μm的上層FR4層7、厚度為35μm的L1線路板8、厚度為20μm的上層阻焊層9、厚度為12μm的L3線路板10、厚度為27μm的下層覆蓋膜11、厚度為50μm的下層半固化片12、厚度為200μm的下層FR4層13、厚度為35μm的L4線路板14、厚度為20μm的下層阻焊層15、補強鋼片16、凹陷17、承載膜21、后蓋22、后蓋主體23、第一墊片組24、組第二墊片組25、第一墊片26、第二墊片27、承載凸塊28、避空腔29、避空槽210、第三墊片211、第四墊片212、揭蓋槽213。

如1圖所示耐高撓折的剛撓結合板,所述剛撓結合板的中間層為厚度為20μm的聚酰亞胺層1,聚酰亞胺層內側為PCB剛性板部2,聚酰亞胺層外側為FPC撓性板部3;

所述中間層的上表面自下而上依次疊加有:厚度為12μm的L2線路板4,厚度為27μm的上層覆蓋膜5,厚度為50μm的上層半固化片6,厚度為200μm的上層FR4層7,厚度為35μm的L1線路板8和厚度為20μm的上層阻焊層9;

所述中間層的下表面自上而下依次疊加有:厚度為12μm的L3線路板10,厚度為27μm的下層覆蓋膜11,厚度為50μm的下層半固化片12,厚度為200μm的下層FR4層13,厚度為35μm的L4線路板14和厚度為20μm的下層阻焊層15;

所述上層半固化片、下層半固化片、上層FR4層、下層FR4層、L1線路板、L4線路板、上層阻焊層和下層阻焊層均位于PCB剛性板部上,所述下層覆蓋膜的下表面上固定有補強鋼片16,補強鋼片位于FPC撓性板部上,補強鋼片的厚度為200μm。

所述上層FR4層相較于上層半固化片向外延伸0.2mm,所述下層FR4層相較于下層半固化片向外延伸0.2mm,使剛撓結合板的剛撓結合處形成凹陷17。

所述上層FR4層、下層FR4層、上層半固化片、下層半固化片、上層覆蓋膜、下層覆蓋膜和聚酰亞胺層上均設有若干穿線孔,L1線路板、L2線路板、L3線路板和L4線路板穿過穿線孔實現(xiàn)線路連通。

上述耐高撓折的剛撓結合板,其中,所述剛撓結合板的制備方法為:

(1)將半固化片和承載膜分別開料、鉆定位孔,如圖1所示對半固化片進行激光切割,將承載膜貼合在半固定片上,如圖2所示進行沖切,保護蓋的承載膜相對于半固化片向外延伸0.2mm;

(2)內層撓性板制作:將內層軟板開料后,依次經過內層鉆孔、內層前處理、內層線路超粗化、貼覆蓋膜、阻焊前處理、內層阻焊、內層阻焊曝光、內層阻焊顯影和內層阻焊固化操作;

(3)外層剛性板制作:將各分層疊層、層壓后依次進行X‐Ray靶沖、外層鉆孔、除鉆污、PTH、鍍銅、外層前處理、外層貼干膜、外層線路曝光、外層線路顯影、外層線路蝕刻、外層阻焊前處理、外層阻焊、外層阻焊曝光、外層阻焊顯影、外層阻焊固化操作;

(4)揭除保護蓋,依次進行化金、印刷字符、電性能測試、銑外形、撓性板處沖外型、成品清洗操作后,進行成品檢驗并包裝出貨。

如圖3‐6所示的保護蓋,所述保護蓋的厚度h1為12.5μm,包括內層的承載膜21和外層的后蓋22,所述承載膜單面背膠,后蓋以聚酰亞胺為材料,所述后蓋包括后蓋主體23,后蓋主體兩側分別設有一組第一墊片組24和一組第二墊片組25,所述第一墊片組包括一個第一墊片26和四個第二墊片27,第一墊片位于第二墊片的上方,第一墊片和第二墊片的下方均設有一個承載凸塊28,第一墊片和第二墊片均為長方形結構,第一墊片的寬度L1大于第二墊片的寬度L2,第一墊片與第二墊片之間、第二墊片與第二墊片之間均存在寬度L5為8.49mm的避空腔29,避空腔的內壁向內凹陷形成圓弧形結構的避空槽210;

所述第二墊片組包括第一第三墊片211和四個第四墊片212,第三墊片位于第四墊片的下方,第三墊片和第四墊片的上方均設有一個承載凸塊,,第三墊片和第四墊片均為長方形結構,第三墊片的寬度L3等于第一墊片的寬度L1,第四墊片的寬度L4等于第二墊片的寬度L2,第三墊片與第四墊片之間、第四墊片與第四墊片之間均存在避空腔,避空腔的內壁向內凹陷形成圓弧形結構的避空槽;

所述第一墊片組的第一墊片、第二墊片和第二墊片組的第三墊片、第四墊片交替設置;

所述承載膜的形狀、大小與后蓋的形狀、大小相同;

所述承載膜相對于承載凸塊處的后蓋向外延伸0.2mm。

所述后蓋主體的中軸線上設有一條揭蓋槽213,揭蓋槽通過蝕刻工藝成型。

所述第一墊片、第二墊片、第三墊片和第四墊片的長度L7為14.90mm。

所述第一墊片組或第二墊片組的寬度L6為120.58mm。

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