本實用新型涉及電磁加熱器具領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤及電磁烹飪器具。

背景技術(shù)：

電磁加熱方式被廣泛應(yīng)用于烹飪食物，使用電磁加熱烹飪食物時，鍋具的邊緣的溫度越高，加熱效果越好?，F(xiàn)有電磁烹飪器具的線圈盤的加熱區(qū)主要集中在鍋底的中心處。在加熱過程中，該加熱區(qū)的高頻交變磁感線分布并不均勻，往往會形成圍繞線圈盤中心的磁感線密集，四周邊緣的磁感線較稀疏，在鍋具底部形成的電磁渦流強度亦相應(yīng)地沿著中心向四周遞減，導(dǎo)致鍋具邊緣的溫度不理想，烹飪效果不佳。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤及電磁烹飪器具，旨在加熱時提高鍋具邊緣的溫度，改善烹飪效果。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的線圈盤包括：線圈盤座及繞組線圈，所述線圈盤座上設(shè)置有繞線槽，所述繞組線圈設(shè)置于所述繞線槽內(nèi)；所述繞組線圈包括設(shè)置于所述線圈盤座中部的主線圈，以及設(shè)置于所述主線圈周邊的多個副線圈，所述副線圈在所述主線圈周向上間隔排布。

優(yōu)選的，所述主線圈呈圓形設(shè)置。

優(yōu)選的，所述副線圈亦呈圓形設(shè)置。

優(yōu)選的，所述副線圈的外徑小于所述主線圈的外徑。

本實用新型還提供一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤包括線圈盤座和繞組線圈，所述線圈盤座上設(shè)置有繞線槽，所述繞組線圈設(shè)置于所述繞線槽內(nèi)，所述繞組線圈包括設(shè)置于所述線圈盤座中部的主線圈，以及設(shè)置于所述主線圈周邊的多個副線圈，所述副線圈在所述主線圈周向上間隔排布。

優(yōu)選的，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或壓力鍋。

優(yōu)選的，所述電磁烹飪器具為電磁爐，所述電磁烹飪器具還包括鍋具，所述副線圈的中心與所述線圈盤座中心的距離R₁大于所述鍋具底部的半徑R₂。

優(yōu)選的，所述線圈盤座呈平板狀設(shè)置。

優(yōu)選的，R₁-R₂≤20mm。

優(yōu)選的，4.0mm≤R₁-R₂≤15mm。

本實用新型的技術(shù)方案通過在線圈盤座的中部布置主線圈，并在主線圈的周向布置多個副線圈，通過主線圈可實現(xiàn)對鍋具中部加熱，通過多個副線圈的設(shè)置，可以加強鍋具周邊磁感密度，無論是鍋具中部還是邊緣，都具有較密集的磁感線，從而改善了烹飪效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型線圈盤一實施例的分體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中線圈繞組結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為包括有鍋具的本實用新型電磁烹飪器具一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標號說明：

本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。

另外，若本實用新型實施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個該特征。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當認為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實用新型要求的保護范圍之內(nèi)。

本實用新型提出一種線圈盤和設(shè)置有該線圈盤的電磁烹飪器具。在此，電磁烹飪器具可以是電磁爐、電飯煲或壓力鍋。為了方便表述，下述內(nèi)容中將具體以電磁爐為具體實施例進行闡述。

在本實用新型實施例中，如圖1至圖3所示，該線圈盤10包括線圈盤座11及多個繞組線圈12，線圈盤座上設(shè)置有繞線槽13，繞組線圈12設(shè)置于繞線槽13內(nèi)；繞組線圈10包括設(shè)置于線圈盤座11中部的主線圈12a，以及設(shè)置于主線圈12a周邊的多個副線圈12b，副線圈12b在主線圈12a周向上間隔排布。

線圈盤座11具有正反兩面，其中，正面布設(shè)繞組線圈12，反面設(shè)置有與每個繞組線圈12位置對應(yīng)的磁條(圖中未示出)。

當用戶在使用設(shè)置有上述線圈盤10的電磁爐對鍋具20進行加熱時，一方面，主線圈12a自身在鍋底的中部產(chǎn)生的磁感線較密集，遠離中部的位置產(chǎn)生的磁感線較稀疏。在對鍋具20底部加熱時，鍋具20中部受熱，鍋具20中部產(chǎn)生的熱量會向四周傳導(dǎo)，以給鍋具20周邊傳熱。另一方面，由于副線圈12b的這種布置，副線圈12b在鍋具20周邊產(chǎn)生多個加熱中心，其產(chǎn)生的磁感線較密集；因此，在上述主線圈12a和副線圈12b相互作用下，鍋具20周邊的磁感線較密集，鍋具20底部和周邊的加熱都比較均勻，不會產(chǎn)生鍋底中部糊鍋，鍋底邊緣不熱的情況，從而烹飪效果較佳。

本實用新型的技術(shù)方案通過在線圈盤座11的中部布置主線圈12a，并在線圈盤座11的周向布置多個副線圈12b，通過主線圈12a可實現(xiàn)對鍋具20中部加熱，通過多個副線圈12b的設(shè)置，可以加強鍋具20周邊磁感密度，無論是鍋具20中部還是邊緣，都具有較密集的磁感線，從而改善了烹飪效果。

上述主線圈12a的形狀可以是圓形、多邊形、橢圓形及不規(guī)則形狀等。但是鑒于鍋具20底部一般是呈圓形設(shè)置的，如果將主線圈12a設(shè)置呈非圓形，在對鍋具20加熱時，可能會導(dǎo)致鍋具20底部磁感分布不均，從而影響烹飪效果。在一較佳實施例中，主線圈12a呈圓形設(shè)置。如此，主線圈12a產(chǎn)生的磁感密度自其中心朝向其邊緣遞減較均勻。設(shè)置副線圈12b后，主線圈12a產(chǎn)生的磁感線不會導(dǎo)致多個副線圈12b相互之間的磁感線密度不均的情況發(fā)生，進而整個線圈盤11周邊的磁感線密度較均勻，加熱效果較佳。

另外，副線圈12b的形狀可以是圓形、方形、三角形等，但是同樣為了使線圈盤座11周邊的磁感較均勻，優(yōu)選副線圈12b呈圓形設(shè)置。

副線圈12b在主線圈12a周邊的數(shù)量不作限制，但是為了進一步增加線圈盤11周邊磁感密度，可以設(shè)置較多的副線圈12b，例如設(shè)置6個、8個、12個或者更多；如此，線圈盤10周邊的加熱中心更多，對鍋具20周邊的加熱效果更好。在此，為了能夠設(shè)置較多的副線圈12b，所以，副線圈12b的外徑優(yōu)選小于主線圈12a的外徑。

為了方便繞組線圈12繞設(shè)在線圈盤座11上，線圈盤座11上設(shè)置用于繞置繞組線圈12的繞線槽13。上述繞組線圈12可以是密繞線圈，也可以是疏繞線圈，繞組線圈12置于該繞線槽13內(nèi)。當繞組線圈12為密繞線圈時，可以通過在線圈盤座11上凸設(shè)凸筋，凸筋內(nèi)形成繞線槽13；當繞組線圈12為疏繞線圈時，可以通過在線圈盤座11上凹陷相應(yīng)多個環(huán)形槽，線圈繞組12繞置在多個所述環(huán)形槽的槽壁上，多個環(huán)形槽形成繞線槽13。

當然，繞組線圈12也可以是密繞線圈及疏繞線圈的組合，需要闡明的是，此處所述的密繞線圈及疏繞線圈的組合可以是：主線圈12a為密繞線圈，副線圈12b為疏繞線圈；或主線圈12a為疏繞線圈，副線圈12b為密繞線圈。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以通過本實用新型實施例及附圖可以獲得相應(yīng)的技術(shù)方案。疏繞線圈為優(yōu)選實施例，將主線圈12a及副線圈12b均設(shè)置為疏繞線圈。對于疏繞線圈而言，線圈盤座11上設(shè)置有至少三組自線圈盤座11的正面凹陷的環(huán)形槽，每組環(huán)形槽為一個繞線槽13。在本實施例中，為了使繞組線圈12在電磁爐中裝配時，更靠近面板30，以使鍋底的加熱效果更佳。該繞線槽13包括供所述主線圈12a安裝的第一繞線槽13a，以及供每個所述副線圈12b安裝的第二繞線槽13b。當然，為了方便線圈繞組12的繞設(shè)，多條環(huán)形槽徑向間隔分布構(gòu)成，以對應(yīng)地，便于將主線圈12a繞置安裝在第一線槽13a內(nèi)，并將至少兩個第二副線圈12b繞置安裝在對應(yīng)的第二線槽13b內(nèi)。

鍋具20一般具有鍋底和自鍋底邊緣向上延伸而出的鍋壁，用戶在使用電磁爐對鍋具加熱時，往往只有鍋底能被加熱，而鍋壁難以被加熱。在一實施例中，為了實現(xiàn)鍋壁的加熱，以優(yōu)化烹飪效果，所述副線圈13b的中心與所述線圈盤座11中心的距離R₁大于所述鍋具底部(鍋底)的半徑R₂。如此，在電磁爐對鍋具20進行加熱時，由于R₁大于R₂，如此，副線圈12b外圍部分可以對鍋壁加熱，從而對于鍋具20而言，鍋底中部由主線圈12a加熱，其周邊由副線圈12b加熱，其側(cè)壁也由副線圈12b加熱，從而受熱更均勻，烹飪效果更佳。

上述實施例中，安裝繞組線圈12的線圈盤座11可以是純凹式的，也可以是平凹式的，還可以是純平式的；但是對于線圈盤座而言，純平式線圈盤座制造簡潔，成本低廉，如果同樣能夠滿足對鍋具20周邊乃至側(cè)壁加熱，在本實施例中，優(yōu)選線圈盤座為平板狀設(shè)置。

當然，R₁相較于R₂不能大太多，否則導(dǎo)致電磁爐的成本過高。在一較佳實施例中，R₁-R₂≤20mm。例如R₁-R₂＝15mm、R₁-R₂＝10mm、R₁-R₂＝8mm、R₁-R₂＝5mm、R₁-R₂＝3mm等。

鍋具20的側(cè)壁與鍋底之間的夾角一般在45°至75°之間，而電磁感應(yīng)高度一般在7mm至15mm，所以在此，以電磁感應(yīng)高度15mm為例，15×tan15°mm≤R₁-R₂≤15×tan45°mm。也即4mm≤R₁-R₂≤15mm。

以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是在本實用新型的實用新型構(gòu)思下，利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域均包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。