本實(shí)用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡(jiǎn)單方便等優(yōu)勢(shì)，基于電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)在鍋具中產(chǎn)生渦流以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈盤中，加熱中心位于靠近盤心的內(nèi)部區(qū)域，導(dǎo)致線圈盤整體加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的主要目的是提出一種線圈盤，旨在解決上述加熱不均勻的問題，改善線圈盤的加熱效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的線圈盤，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米。優(yōu)選地，在同一匝線圈中相鄰兩所述凹部的最凹點(diǎn)之間的距離為15～110毫米。優(yōu)選地，所述線圈盤還包括設(shè)于所述線圈盤座的圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組和所述圓環(huán)形線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組的外圍設(shè)有所述異形線圈繞組。優(yōu)選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為35～130毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點(diǎn)之間的距離為25～110毫米。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的外圍設(shè)有所述圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為15～100毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點(diǎn)之間的距離為15～90毫米。優(yōu)選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優(yōu)選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組設(shè)于所述盤底或所述側(cè)部。本實(shí)用新型進(jìn)一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實(shí)用新型技術(shù)方案中，線圈盤座設(shè)有異形線圈繞組，異形線圈繞組呈環(huán)形，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部之間形成異形線圈繞組的凹部，從而在異形線圈繞組的分布區(qū)域形成強(qiáng)弱間隔分布的磁場(chǎng)，進(jìn)而形成多個(gè)加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強(qiáng)磁場(chǎng)強(qiáng)度，加強(qiáng)加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米，以使加熱中心之間具有適中的距離，既不會(huì)因?yàn)榧訜嶂行拈g距過小、分布過于集中而導(dǎo)致加熱區(qū)域的重疊，又避免了加熱中心間距過大、分布過疏而產(chǎn)生加熱效果微弱的加熱盲區(qū)，從而使線圈盤整體的加熱更均勻，改善了線圈盤的加熱效果。附圖說明為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型線圈盤一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤的加熱區(qū)域分布示意圖；圖3為本實(shí)用新型線圈盤另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中線圈盤的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號(hào)說明：標(biāo)號(hào)名稱標(biāo)號(hào)名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環(huán)形線圈繞組本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說明，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對(duì)位置關(guān)系、運(yùn)動(dòng)情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時(shí)，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型提出一種線圈盤。在本實(shí)用新型實(shí)施例中，如圖1所示，該線圈盤用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及異形線圈繞組200，異形線圈繞組200設(shè)于線圈盤座100，異形線圈繞組200呈環(huán)形，異形線圈繞組200具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組200的凹部220，異形線圈繞組200包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米。具體的，線圈盤座100用于支撐異形線圈繞組200，根據(jù)安培定則，沿環(huán)周間隔分布的凸部210和凹部220使得線圈盤中的磁場(chǎng)呈強(qiáng)弱間隔分布。如圖2所示，在線圈盤中，加熱區(qū)域的分布與磁場(chǎng)強(qiáng)度的分布基本相對(duì)應(yīng)，即線圈盤中磁場(chǎng)較強(qiáng)的區(qū)域，加熱效果也較強(qiáng)，強(qiáng)弱間隔分布的磁場(chǎng)在線圈盤上形成多個(gè)間隔的加熱中心，圖2中異形線圈繞組200所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即加熱中心。加熱中心的分布與異形線圈繞組200的凸部210和凹部220的尺寸相關(guān)，為了避免相鄰兩個(gè)加熱中心之間的距離過大形成加熱效果微弱的加熱盲區(qū)，或相鄰兩個(gè)加熱中心之間的距離過小導(dǎo)致加熱中心重疊相連，導(dǎo)致線圈盤的加熱不均勻，在包括多匝線圈的異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米，其中，最凸點(diǎn)為凸部210上距離環(huán)心最遠(yuǎn)的點(diǎn)。如圖1所示，D1為最內(nèi)匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離，D1不小于15毫米；D2為最外匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離，D2不大于130毫米；在最內(nèi)匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離在D1和D2之間。在該尺寸范圍內(nèi)，可避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生和加熱中心的重疊，從而提高線圈盤加熱的均勻性，改善線圈盤的加熱效果。本實(shí)用新型技術(shù)方案中，線圈盤座設(shè)有異形線圈繞組200，異形線圈繞組200呈環(huán)形，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組的凹部220，從而在異形線圈繞組的分布區(qū)域形成強(qiáng)弱間隔分布的磁場(chǎng)，進(jìn)而形成多個(gè)加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強(qiáng)磁場(chǎng)強(qiáng)度，加強(qiáng)加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點(diǎn)之間的距離為15～130毫米，從而使得加熱中心之間具有適中的距離，避免加熱區(qū)域的重疊或加熱盲區(qū)的產(chǎn)生，以使線圈盤的加熱更均勻，改善線圈盤的加熱效果。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，在同一匝線圈中相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離為15～110毫米。如圖1所示，在異形線圈繞組200的同一匝線圈中，凹部220上距離環(huán)心最近的點(diǎn)為最凹點(diǎn)，相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離為15～110毫米。D3為最內(nèi)匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離，D3不小于15毫米；D4為最外匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離，D4不大于110毫米；在最內(nèi)匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離在D3和D4之間。在該尺寸范圍內(nèi)，可避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生和加熱中心的重疊，使加熱更均勻。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，如圖1所示，線圈盤還包括設(shè)于線圈盤座100的圓環(huán)形線圈繞組300。根據(jù)安培定則，圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場(chǎng)沿環(huán)周均勻分布，在線圈盤中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而使得線圈盤在內(nèi)外方向上的加熱更加均勻，如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域?yàn)閳A環(huán)形線圈繞組300所形成的加熱區(qū)域。進(jìn)一步的，異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300內(nèi)外層相間設(shè)置。線圈盤包括一個(gè)或多個(gè)異形線圈繞組200，以及，一個(gè)或多個(gè)圓環(huán)形線圈繞組300，通過內(nèi)外層相間設(shè)置異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300，使沿環(huán)周分散分布的小加熱中心和連續(xù)的加熱區(qū)域在線圈盤內(nèi)外間隔分布，從而在線圈盤中均勻地引入多個(gè)加熱中心，以改善加熱效果。在本實(shí)用新型的一實(shí)施例中，如圖1和圖2所示，圓環(huán)形線圈繞組300的外圍設(shè)有異形線圈繞組200，相應(yīng)的，在內(nèi)部的連續(xù)加熱區(qū)域外圍形成多個(gè)分散的加熱中心。通過將圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)置在內(nèi)部，可減小線圈盤內(nèi)部的加熱盲區(qū)，考慮到每一分散的加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域的擴(kuò)散范圍，使加熱中心之間、以及加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域之間不產(chǎn)生重疊或盲區(qū)；同時(shí)，考慮到在線圈盤的生產(chǎn)過程中，異形線圈繞組200繞設(shè)的工藝限制了其凸部210和凹部220之間的連接部轉(zhuǎn)折不宜過大，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離為35～130毫米，相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離為25～110毫米。在本實(shí)用新型的另一實(shí)施例中，如圖3和圖4所示，異形線圈繞組200的外圍設(shè)有圓環(huán)形線圈繞組300，相應(yīng)的，在多個(gè)分散的加熱中心外圍形成連續(xù)加熱區(qū)域。當(dāng)異形線圈繞組200位于內(nèi)部時(shí)，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點(diǎn)之間的距離為15～100毫米，相鄰兩凹部220的最凹點(diǎn)之間的距離為15～90毫米，避免加熱中心之間的距離過小產(chǎn)生重疊或距離過大產(chǎn)生加熱盲區(qū)，同時(shí)，避免位于內(nèi)部的加熱中心與外圍的連續(xù)加熱區(qū)域之間產(chǎn)生重疊或加熱盲區(qū)；同時(shí)，避免異形線圈繞組200的凸部210和凹部220之間的連接部轉(zhuǎn)折過大而導(dǎo)致繞設(shè)困難。在上述實(shí)施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環(huán)形線圈繞組300均繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對(duì)平底鍋具進(jìn)行加熱。在上述實(shí)施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組設(shè)于盤底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于盤底時(shí)，盤底形成分散的加熱中心，以提高盤底的加熱強(qiáng)度；當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于側(cè)部時(shí)，側(cè)部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過程中側(cè)部加熱強(qiáng)度不足的問題，適應(yīng)多種烹飪需求。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤，該線圈盤的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是在本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3