本實(shí)用新型涉及烹飪器具領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤(pán)組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：現(xiàn)有采用電磁加熱方式的線圈盤(pán)，其上設(shè)置的線圈一般為同心圓繞組，同心圓繞組的線圈盤(pán)，繞組中間圓環(huán)位置的磁場(chǎng)相對(duì)繞組中心和外圍其他位置的磁場(chǎng)要強(qiáng)，鍋具加熱時(shí)，對(duì)應(yīng)繞組中間圓環(huán)位置的溫度相對(duì)其他位置要高，如此鍋具各部分受熱不均勻，易導(dǎo)致鍋具糊鍋、變形和烹飪效果不佳等問(wèn)題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的主要目的是提出一種線圈盤(pán)組件，旨在提高線圈盤(pán)座上各處磁場(chǎng)的均勻性，以使得鍋具受熱更加均勻。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的線圈盤(pán)組件，用于電磁烹飪器具，包括：線圈盤(pán)座，具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域，所述第一繞設(shè)區(qū)域和所述第二繞設(shè)區(qū)域均為凹槽；異形線圈繞組，呈環(huán)形且設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部；圓環(huán)形線圈繞組，設(shè)于所述第二繞設(shè)區(qū)域；以及，多個(gè)磁條組，沿所述線圈盤(pán)座周向間隔設(shè)置，每一所述磁條組包括自所述第一繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的兩第一磁條、以及自所述第二繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的一第二磁條，同一所述磁條組中的兩所述第一磁條自?xún)?nèi)朝外呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置，所述第二磁條的外端指向兩所述第一磁條的內(nèi)端設(shè)置。優(yōu)選地，同一所述磁條組中的兩所述第一磁條的內(nèi)端對(duì)應(yīng)位于一所述凸部所限定的內(nèi)部區(qū)域，所述第一磁條的外端對(duì)應(yīng)位于所述凹部所限定出的外部區(qū)域。優(yōu)選地，所述第二磁條沿所述圓環(huán)形線圈繞組徑向延伸。優(yōu)選地，所述第二磁條的外端指向所述凸部的中心設(shè)置。優(yōu)選地，同一所述磁條組中，所述第二磁條沿所述凸部的中心線方向延伸，兩所述第一磁條相對(duì)所述凸部的中心線呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。優(yōu)選地，每一所述凸部對(duì)應(yīng)設(shè)有一所述磁條組。優(yōu)選地，所述第二磁條的數(shù)量為4-10根。優(yōu)選地，所述凸部的數(shù)量為4-10個(gè)。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤(pán)組件，所述線圈盤(pán)組件包括：線圈盤(pán)座，具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域，所述第一繞設(shè)區(qū)域和所述第二繞設(shè)區(qū)域均為凹槽；異形線圈繞組，呈環(huán)形且設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部；圓環(huán)形線圈繞組，設(shè)于所述第二繞設(shè)區(qū)域；以及，多個(gè)磁條組，沿所述線圈盤(pán)座周向間隔設(shè)置，每一所述磁條組包括自所述第一繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的兩第一磁條、以及自所述第二繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的一第二磁條，同一所述磁條組中的兩所述第一磁條自?xún)?nèi)朝外呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置，所述第二磁條的外端指向兩所述第一磁條的內(nèi)端設(shè)置。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實(shí)用新型技術(shù)方案中，在線圈盤(pán)座設(shè)有異形線圈繞組和圓環(huán)形線圈繞組，同時(shí)在線圈盤(pán)座上對(duì)應(yīng)設(shè)置多個(gè)磁條組，每一磁條組中的兩第一磁條對(duì)應(yīng)異形線圈繞組設(shè)置，第二磁條對(duì)應(yīng)圓環(huán)形線圈繞組設(shè)置，且兩第一磁條自第二磁條的外端朝外側(cè)，呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置。如此，在第一磁條和第二磁條的聚磁作用下，在第二磁條外端至兩第一磁條所夾設(shè)的區(qū)域的磁場(chǎng)較強(qiáng)，而相應(yīng)形成一加熱中心。則相當(dāng)于在線圈盤(pán)座中間位置形成一個(gè)由圓環(huán)形線圈繞組所產(chǎn)生的大的加熱中心，且在該大的加熱中心外圍，形成多個(gè)由磁條組產(chǎn)生的且沿環(huán)周間隔分布的小加熱中心。該大的加熱中心外圍形成多個(gè)小加熱中心的方式，使得線圈盤(pán)座上能夠形成更大的加熱區(qū)域，避免了加熱區(qū)域僅集中在線圈盤(pán)座中心而導(dǎo)致鍋具局部受熱的現(xiàn)象，從而使得鍋具的受熱面積更大，受熱更加均勻。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型線圈盤(pán)組件一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤(pán)組件的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明：標(biāo)號(hào)名稱(chēng)標(biāo)號(hào)名稱(chēng)10線圈盤(pán)座30第一磁條20異形線圈繞組40圓環(huán)形線圈繞組21凸部50第二磁條22凹部本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說(shuō)明，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對(duì)位置關(guān)系、運(yùn)動(dòng)情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時(shí)，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無(wú)法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型提出一種線圈盤(pán)組件。在本實(shí)用新型實(shí)施例中，如圖1所示，該線圈盤(pán)組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤(pán)座10、異形線圈繞組20、圓環(huán)形線圈繞組40和多個(gè)磁條組，其中，線圈盤(pán)座10具有由外層向內(nèi)層依次設(shè)置的第一繞設(shè)區(qū)域和第二繞設(shè)區(qū)域，通常，所述第一繞設(shè)區(qū)域和所述第二繞設(shè)區(qū)域均為凹槽；異形線圈繞組20設(shè)于所述第一繞設(shè)區(qū)域，所述異形線圈繞組20呈環(huán)形，其具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個(gè)凸部21，每一所述凸部21由所述異形線圈繞組20的一部分相對(duì)相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部21之間形成所述異形線圈繞組20的凹部22。圓環(huán)形線圈繞組40設(shè)于所述線圈盤(pán)座10的第二繞設(shè)區(qū)域。多個(gè)磁條組同樣設(shè)于所述線圈盤(pán)座10，并沿所述線圈盤(pán)座10周向間隔分布；每一所述磁條組包括自所述第一繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的兩第一磁條30、以及自所述第二繞設(shè)區(qū)域的內(nèi)側(cè)朝外側(cè)設(shè)置的一第二磁條50，同一所述磁條組中的所述兩第一磁條30自?xún)?nèi)朝外呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置，所述第二磁條50的外端指向所述兩第一磁條30的內(nèi)端設(shè)置，而呈Y字形分布。由于多個(gè)磁條組是沿所述線圈盤(pán)座10的周向間隔設(shè)置的，且同一所述磁條組中的兩所述第一磁條30自?xún)?nèi)朝外呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置，則可以想到的是，相鄰兩所述磁條組中的兩相鄰的所述第一磁條30是自?xún)?nèi)朝外呈逐漸靠近設(shè)置的。具體的，線圈盤(pán)座10用于支撐異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40，根據(jù)安培定則，沿環(huán)周間隔分布的凸部21和凹部22改變了線圈盤(pán)座10中的磁場(chǎng)分布情況，凸部21產(chǎn)生的磁場(chǎng)主要分布在線圈盤(pán)座10靠外的位置，而凹部22產(chǎn)生的磁場(chǎng)主要分布在線圈盤(pán)座10的靠?jī)?nèi)的位置，如此，僅需要設(shè)置一組線圈繞組即可擴(kuò)大磁場(chǎng)的分布范圍。圓環(huán)形線圈繞組40所產(chǎn)生的磁場(chǎng)沿環(huán)周均勻分布，在線圈盤(pán)座10中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而使得線圈盤(pán)座10在內(nèi)外方向上的加熱更加均勻。如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域?yàn)閳A環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域。由于在一磁條組中，兩所述第一磁條30自所述第二磁條50的外端朝外側(cè)，呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置，也即所述第二磁條50的外端指向兩第一磁條30的內(nèi)端設(shè)置，由于磁條的聚磁作用，第二磁條50的外端與兩第一磁條30的內(nèi)端所在區(qū)域，即第二磁條50外端至兩第一磁條30所夾設(shè)的區(qū)域內(nèi)的的磁場(chǎng)相對(duì)會(huì)更強(qiáng)。由于在線圈盤(pán)座10中，加熱區(qū)域的分布與磁場(chǎng)強(qiáng)度的分布基本相對(duì)應(yīng)，即線圈盤(pán)座10中磁場(chǎng)較強(qiáng)的區(qū)域，加熱效果也較強(qiáng)，則第二磁條50外端至兩第一磁條30所夾設(shè)的區(qū)域相應(yīng)形成一加熱中心。本實(shí)用新型技術(shù)方案中，在線圈盤(pán)座10設(shè)有異形線圈繞組20和圓環(huán)形線圈繞組40，同時(shí)在線圈盤(pán)座10上對(duì)應(yīng)設(shè)置多個(gè)磁條組，每一磁條組中的兩第一磁條30對(duì)應(yīng)異形線圈繞組20設(shè)置，第二磁條50對(duì)應(yīng)圓環(huán)形線圈繞組40設(shè)置，且兩第一磁條30自第二磁條50的外端朝外側(cè)，呈逐漸遠(yuǎn)離設(shè)置。如此，在第一磁條30和第二磁條50的聚磁作用下，在第二磁條50外端至兩第一磁條30所夾設(shè)的區(qū)域的磁場(chǎng)較強(qiáng)，而相應(yīng)形成一加熱中心。則相當(dāng)于在線圈盤(pán)座10中間位置形成一個(gè)由圓環(huán)形線圈繞組40所產(chǎn)生的大的加熱中心，且在該大的加熱中心外圍，形成多個(gè)由磁條組產(chǎn)生的且沿環(huán)周間隔分布的小加熱中心。該大的加熱中心外圍形成多個(gè)小加熱中心的方式，使得線圈盤(pán)座10上能夠形成更大的加熱區(qū)域，避免了加熱區(qū)域僅集中在線圈盤(pán)座10中心而導(dǎo)致鍋具局部受熱的現(xiàn)象，從而使得鍋具的受熱面積更大，受熱更加均勻。本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述磁條組對(duì)應(yīng)所述凸部21或凹部22設(shè)置。例如，在一實(shí)施例中，所述磁條組對(duì)應(yīng)所述凸部21設(shè)置。由于在線圈盤(pán)座10中，加熱區(qū)域的分布與磁場(chǎng)強(qiáng)度的分布基本相對(duì)應(yīng)，即線圈盤(pán)座10中磁場(chǎng)較強(qiáng)的區(qū)域，加熱效果也較強(qiáng)。同時(shí)由于磁條的聚磁作用，則在對(duì)應(yīng)設(shè)有磁條組的凸部21的磁場(chǎng)會(huì)更強(qiáng)，也即在凸部21形成加熱中心，多個(gè)凸部21形成多個(gè)分散的加熱中心。由于凹部22未設(shè)置磁條組，該凹部22處的磁場(chǎng)較弱，因而線圈盤(pán)座10上的磁場(chǎng)呈強(qiáng)弱間隔分布，也即多個(gè)加熱中心是間隔分布的，從而避免了加熱中心的重疊，使得線圈盤(pán)座10整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤(pán)座10的加熱效果。在另一實(shí)施例中，所述磁條組對(duì)應(yīng)所述凹部22設(shè)置。同理，在凹部22形成加熱中心，多個(gè)凹部22形成多個(gè)分散的加熱中心。在其它實(shí)施例中，所述第一磁條30同時(shí)對(duì)應(yīng)所述凸部21和與該凸部21相鄰的所述凹部22設(shè)置。具體地，同一所述磁條組中的兩所述第一磁條30的內(nèi)端對(duì)應(yīng)位于一所述凸部21所限定的內(nèi)部區(qū)域，所述第一磁條30的外端對(duì)應(yīng)位于所述凹部22所限定出的外部區(qū)域。如此所述第一磁條30能夠?qū)⒋鸥芯€引導(dǎo)至所述凸部21內(nèi)側(cè)和所述凹部22外側(cè)，從而使得所述凹部22外側(cè)和所述凸部21內(nèi)側(cè)均具有磁感線分布，如此，使得異形線圈繞組20內(nèi)外側(cè)各處的磁場(chǎng)分布更加均勻，也即使得所述異形線圈繞組20上的加熱效果更加均勻。同時(shí)，該實(shí)施例中，兩第一磁條30的內(nèi)端以及第二磁條50的外端相當(dāng)于是對(duì)應(yīng)凸部21設(shè)置的，第二磁條50的外端與兩第一磁條30的內(nèi)端距離較近，聚磁效果更強(qiáng)，則在該凸部21附近對(duì)應(yīng)形成更強(qiáng)的磁場(chǎng)，也即形成一加熱中心，多個(gè)凸部21對(duì)應(yīng)形成多個(gè)加熱中心，每一加熱中心間隔分布，從而避免加熱中心的重疊，使得線圈盤(pán)座10整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤(pán)座10的加熱效果。且由于每一磁條對(duì)中的第一磁條30是自所述凸部21內(nèi)側(cè)朝外側(cè)逐漸朝相互遠(yuǎn)離的方向傾斜，也即第一磁條30是朝凹部22所在位置傾斜的，則第一磁條30將磁場(chǎng)引導(dǎo)至凹部22，從而使得凹部22也具有較強(qiáng)的加熱效果，從而避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生。如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域?yàn)閳A環(huán)形線圈繞組40所形成的加熱區(qū)域，異形線圈繞組20所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即為加熱中心。所述第二磁條50優(yōu)選沿所述圓環(huán)形線圈繞組40徑向延伸，如此可使得磁感線沿圓環(huán)形線圈繞組40徑向切割。由于所述凸部21的內(nèi)側(cè)與所述圓環(huán)形線圈繞組40外側(cè)之間的距離較大，為避免該處產(chǎn)生加熱盲區(qū)，所述第二磁條50的外端優(yōu)選指向所述凸部21的中心設(shè)置，從而將圓環(huán)形線圈繞組40產(chǎn)生的磁場(chǎng)導(dǎo)到凸部21內(nèi)側(cè)。該實(shí)施例中，凸部21所限定的內(nèi)部區(qū)域在第二磁條50的外端、兩第一磁條30的內(nèi)端的聚磁效果下，其磁場(chǎng)較強(qiáng)，從而在位于該兩第一磁條30之間的凸部21形成加熱中心。同一所述磁條組中，所述第二磁條50沿所述凸部21的中心線方向延伸，兩所述第一磁30相對(duì)所述凸部21的中心線呈對(duì)稱(chēng)設(shè)置。如此，凸部21與兩凹部22鄰接位置的磁場(chǎng)更加均勻一致，且能夠進(jìn)一步增強(qiáng)磁場(chǎng)的均勻分布。優(yōu)選地，每一所述凸部21均對(duì)應(yīng)設(shè)有一所述磁條組，如此，每一凸部21形成一加熱中心。該實(shí)施例中，若設(shè)置第二磁條50過(guò)多，則導(dǎo)致第二磁條50排布過(guò)于緊密，增加第二磁條50的成本；若設(shè)置第二磁條50過(guò)少，則不利于磁場(chǎng)的分散，因此所述第二磁條50的數(shù)量為4-10根，優(yōu)選為6根。該實(shí)施例中，考慮到每一分散的加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域的擴(kuò)散范圍，使外部的加熱中心之間、以及外部加熱中心和內(nèi)部的連續(xù)加熱區(qū)域之間不產(chǎn)生重疊或盲區(qū)；同時(shí)，考慮到線圈盤(pán)座10的生產(chǎn)，避免異形線圈繞組20的凸部21和凹部22之間的連接部折角過(guò)大而導(dǎo)致繞設(shè)困難。因此，異形線圈繞組20的凸部21的數(shù)量設(shè)置為4～10個(gè)，優(yōu)選為6個(gè)，6個(gè)分散的加熱中心之間、以及與位于線圈盤(pán)座10中部的圓形連續(xù)加熱區(qū)域之間，沒(méi)有重疊，且無(wú)過(guò)大的分隔距離所導(dǎo)致的加熱盲區(qū)，從而保證了線圈盤(pán)加熱的均勻性。在上述實(shí)施例中，線圈盤(pán)座10可以為純平式線圈盤(pán)座。異形線圈繞組20和/或圓環(huán)形線圈繞組40均繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對(duì)平底鍋具進(jìn)行加熱。在上述實(shí)施例中，線圈盤(pán)座10也可以為平凹式線圈盤(pán)座，包括盤(pán)底和自盤(pán)底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組20設(shè)于盤(pán)底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組20設(shè)于盤(pán)底時(shí)，盤(pán)底形成分散的加熱中心，以提高盤(pán)底的加熱強(qiáng)度；當(dāng)異形線圈繞組20設(shè)于側(cè)部時(shí)，側(cè)部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過(guò)程中側(cè)部加熱強(qiáng)度不足的問(wèn)題，適應(yīng)多種烹飪需求。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤(pán)，該線圈盤(pán)的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來(lái)的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專(zhuān)利范圍，凡是在本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實(shí)用新型的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3