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一種PTH孔板的處理工藝的制作方法

文檔序號(hào):11932693閱讀:493來(lái)源:國(guó)知局

本發(fā)明涉及印刷電路板制作技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種PTH孔板的處理工藝。



背景技術(shù):

PTH(Plating Through Hole)是印刷電路板(PCB)上的沉銅孔,孔壁有銅,一般為過(guò)電孔及元件孔。設(shè)置有PTH孔的印刷電路板,可以稱(chēng)為PTH孔板,PTH孔板的表面處理一般包括OSP和沉鎳金。其中,OSP為PCB銅箔表面處理的一種工藝,就是在潔凈的裸銅表面上,以化學(xué)的方法長(zhǎng)出一層有機(jī)皮膜,這層膜具有防氧化、耐熱沖擊和耐濕性的性能,用以保護(hù)銅表面在常態(tài)環(huán)境中不再繼續(xù)生銹。沉鎳金也叫無(wú)電鎳金或沉鎳浸金(Electroless Nickel Immersion Gold),是指在PCB裸銅表面涂覆可焊性涂層方法的一種工藝。

如果該P(yáng)TH孔板上的PTH孔也要進(jìn)行表面處理時(shí),其處理流程一般如下:圖形轉(zhuǎn)移—阻焊—貼二次干膜(干膜蓋住PTH孔)—沉鎳金。在沉鎳金工序中,由于PTH孔內(nèi)藏有氣泡,在沉鎳金缸80℃的條件下,二次干膜會(huì)被PTH孔內(nèi)的氣泡沖破,導(dǎo)致沉鎳金藥水會(huì)滲入PTH孔內(nèi),使得PTH孔和孔環(huán)滲金。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種PTH孔板的處理工藝,以解決PTH孔和孔環(huán)滲金的問(wèn)題。

本發(fā)明的目的采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):

一種PTH孔板的處理工藝,依次包括以下步驟:1)圖形轉(zhuǎn)移;2)阻焊;3)貼干膜,在PTH孔上貼設(shè)干膜;4)沉鎳金,在裸銅面進(jìn)行化學(xué)鍍鎳,然后進(jìn)行化學(xué)浸金;在步驟3)和步驟4)之間,還包括步驟3-1)貼紅膠帶,在貼設(shè)了干膜的PTH孔上貼設(shè)紅膠帶。

優(yōu)選的,在步驟3-1)中,貼紅膠帶的操作流程如下:手動(dòng)貼紅膠帶→壓紅膠帶。

優(yōu)選的,在步驟3-1)中,壓紅膠帶機(jī)的參數(shù)為:壓力1.5-2.0Kg/cm2;速度7-14m/min。

優(yōu)選的,在壓紅膠帶時(shí),先橫壓一次再豎壓一次。

優(yōu)選的,在步驟3)中,貼干膜的操作流程如下:化學(xué)前處理→貼干膜→曝光→顯影。其中,此流程中的貼干膜為二次干膜,而在步驟1)圖形轉(zhuǎn)移流程中的貼干膜為一次干膜。

優(yōu)選的,在步驟3)中,在進(jìn)行曝光時(shí),曝光尺的級(jí)數(shù)為:11-12級(jí)。

優(yōu)選的,在步驟3)中,干膜貼膜機(jī)的參數(shù)為:貼膜輥溫度為115±10℃;貼膜機(jī)速度為1.2-2m/min;貼膜壓力為0.4-0.55MPa。

優(yōu)選的,在步驟3)中,干膜的厚度為65μm。

優(yōu)選的,在步驟1)中,圖形轉(zhuǎn)移的操作流程如下:化學(xué)前處理→貼顯膜→第一次曝光→貼干膜→第二次曝光→顯影。

優(yōu)選的,在步驟2)中,阻焊的操作流程如下:化學(xué)前處理→絲印→預(yù)烤→曝光→顯影→后烤。

相比現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的有益效果在于:

(1)本發(fā)明所提供的PTH孔板的處理工藝,在沉鎳金前,PTH孔需依次進(jìn)行貼干膜和貼紅膠帶操作,保證了沉鎳金過(guò)程中,干膜不破孔,從而保證了PTH孔和孔環(huán)不滲金。

具體實(shí)施方式

下面,結(jié)合具體實(shí)施方式,對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步描述:

一種PTH孔板的處理工藝,依次包括以下步驟:1)圖形轉(zhuǎn)移;2)阻焊;3)貼干膜,在PTH孔上貼設(shè)干膜;4)沉鎳金,在裸銅面進(jìn)行化學(xué)鍍鎳,然后進(jìn)行化學(xué)浸金;其特征在于,在步驟3)和步驟4)之間,還包括步驟3-1)貼紅膠帶,在貼設(shè)了干膜的PTH孔上貼設(shè)紅膠帶。

在步驟1)中,圖形轉(zhuǎn)移的操作流程如下:化學(xué)前處理→貼顯膜→第一次曝光→貼干膜→第二次曝光→顯影。

在步驟2)中,阻焊的操作流程如下:化學(xué)前處理→絲印→預(yù)烤→曝光→顯影→后烤。

在步驟3)中,貼干膜的操作流程如下:化學(xué)前處理→貼干膜(此處的貼干膜為二次干膜,而在步驟1)圖形轉(zhuǎn)移流程中的貼干膜為一次干膜)→曝光→顯影。在進(jìn)行曝光時(shí),曝光尺的級(jí)數(shù)為:11-12級(jí);干膜貼膜機(jī)的參數(shù)為:貼膜輥溫度為115±10℃;貼膜機(jī)速度為1.2-2m/min;貼膜壓力為0.4-0.55MPa;干膜的厚度為65μm。

在步驟3-1)中,貼紅膠帶的操作流程如下:手動(dòng)貼紅膠帶→壓紅膠帶。其中,壓紅膠帶機(jī)的參數(shù)為:壓力1.5-2.0Kg/cm2;速度7-14m/min;在壓紅膠帶時(shí),先橫壓一次再豎壓一次。所貼的紅膠帶為耐高溫紅膠帶。

在步驟4)中,沉鎳金工藝既能滿(mǎn)足復(fù)雜的PCB裝配、焊接的要求,又比電鍍鎳金的成本低,同時(shí)還能對(duì)導(dǎo)線(xiàn)的側(cè)邊進(jìn)行有效的保護(hù),防止在使用過(guò)程中產(chǎn)生不良現(xiàn)象。

本發(fā)明實(shí)施例所提供的PTH孔板的處理工藝,在PTH孔上面蓋設(shè)了干膜和紅膠帶,從而保證PTH孔不會(huì)滲入沉鎳金藥水,有效解決了PTH孔和孔環(huán)滲金的問(wèn)題。

對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思,做出其它各種相應(yīng)的改變以及形變,而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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