本發(fā)明涉及電磁加熱領(lǐng)域,特別是一種能夠應(yīng)用于電磁爐、電飯煲和壓力鍋的電磁加熱線盤及采用該電磁加熱線盤的電磁加熱裝置。
背景技術(shù):
眾所周知,現(xiàn)有電磁爐、電飯煲及壓力鍋除了采用電阻發(fā)熱絲作為加熱源之外,也有部分是采用電磁加熱裝置加熱食物的。
現(xiàn)有應(yīng)用于電磁爐、電飯煲及壓力鍋的電磁加熱裝置一般采用以下結(jié)構(gòu):包括一支架,所述支架的上表面設(shè)置有電磁加熱線盤,所述電磁加熱線盤的表面呈平面板狀結(jié)構(gòu),同時(shí)支架的下表面周向間隔設(shè)置有多塊磁條,通過在支架的下表面間隔設(shè)置有多塊磁條,可以使得電磁加熱線盤表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度在不同的位置會(huì)發(fā)生變化而不是固定不變,進(jìn)而使得電磁加熱裝置在煮食過程中,電磁加熱裝置作用于廚具的外底壁上不同位置處的磁場(chǎng)強(qiáng)度也是有差別的,進(jìn)而廚具底部受熱不均勻,因而在煮食過程中,食物因受熱不均勻而容易發(fā)生翻滾,進(jìn)而便于煮熟食物。
上述的電磁加熱裝置一般是通過在支架的底部的不同位置配置磁條(軟磁材料),進(jìn)而改變電磁加熱線盤作用于廚具的外底壁不同位置的磁場(chǎng)強(qiáng)度,該種結(jié)構(gòu)雖然能夠?qū)崿F(xiàn)該功能,但是由于增加了磁條(軟磁材料),進(jìn)而使得電磁加熱裝置的成本大大地增加,降低了企業(yè)的社會(huì)競(jìng)爭(zhēng)力。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了解決上述問題,本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,同時(shí)不需要額外配置磁條,也能夠改變廚具在煮食過程中其外底壁受到的磁場(chǎng)強(qiáng)度的電磁加熱線盤和電磁加熱裝置。
本發(fā)明為解決其技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是:
一種電磁加熱線盤,包括:
線盤主體,所述線盤主體由導(dǎo)線繞制而成;
所述線盤主體的上表面凹凸不平并使得該線盤主體的上表面與待加熱的廚具的外底壁之間的距離為非等距。
作為上述技術(shù)方案的改進(jìn),所述線盤主體的外形呈圓形,且所述線盤主體的上表面包含一個(gè)以上的凸起結(jié)構(gòu)和/或一個(gè)以上的凹陷結(jié)構(gòu),
所述凸起結(jié)構(gòu)和/或凹陷結(jié)構(gòu)呈長(zhǎng)條狀且沿著由所述線盤主體的內(nèi)部指向線盤主體外部的方向布置于所述線盤主體的上。
作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn),所述線盤主體的上表面上同時(shí)包含有多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)和多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu),多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)和多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu)沿著所述線盤主體的周向依次交替分布。
在本發(fā)明中,所述凸起結(jié)構(gòu)和凹陷結(jié)構(gòu)均指向所述線盤主體的圓心。
一種電磁加熱裝置,包括:
支架;
所述支架上設(shè)置有所述的電磁加熱線盤。
本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例,所述電磁加熱線盤的線盤主體緊貼于所述支架的上表面上,所述支架的上表面至少設(shè)置有一能夠使得所述線盤主體的上表面向上拱起而形成凹凸不平結(jié)構(gòu)的凸起。
進(jìn)一步,所述支架的形狀呈圓形,所述凸起為一沿著所述支架的內(nèi)部指向其外部的凸條。
再進(jìn)一步,所述支架的上表面設(shè)置有多條凸起,多條凸起均指向所述支架的圓心且沿著所述支架的周向邊緣間隔均勻分布。
在本發(fā)明中,所述支架的外形呈上小下大的圓臺(tái)狀,所述支架上設(shè)置有兩個(gè)線盤主體,其中一個(gè)線盤主體設(shè)置于所述支架的頂部表面上,另一個(gè)線盤主體則鋪設(shè)于所述支架的外周側(cè)壁上,所述支架的頂部表面及外周側(cè)壁上均設(shè)置有使得所述線盤主體的上表面向上拱起而形成凹凸不平結(jié)構(gòu)的凸起。
本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例,所述支架頂部表面上的線盤主體與鋪設(shè)于其外周側(cè)壁上的線盤主體為由一根導(dǎo)線繞制而成。
本發(fā)明的有益效果是:由于本發(fā)明的電磁加熱線盤通過將所述線盤主體的上表面設(shè)置成凹凸不平并使得該線盤主體的上表面與待加熱的廚具的外底壁之間的距離為非等距,即線盤主體上表面各處與待煮食的廚具的外底壁之間的距離不是完全相等的,進(jìn)而使得線盤主體通電時(shí)作用于廚具底部各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度不會(huì)完全相同,因此用戶不需要額外配置磁條即可改變電磁加熱線盤作用于廚具底部各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度,有助于降低生產(chǎn)成本,增強(qiáng)企業(yè)的社會(huì)競(jìng)爭(zhēng)力;本發(fā)明的電磁加裝裝置由于采用了上述的電磁加熱線盤,因此也不需要額外配置磁條,降低了生產(chǎn)成本。
附圖說明
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
圖1是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第一優(yōu)選實(shí)施例的外觀結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第一優(yōu)選實(shí)施例的局部剖視示意圖;
圖3是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第一優(yōu)選實(shí)施例局部剖視后的側(cè)視圖;
圖4是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第一優(yōu)選實(shí)施例與廚具之間配合煮食的一結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第二優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第三優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖7是本發(fā)明中電磁加熱裝置的第四優(yōu)選實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)D1至圖7,一種電磁加熱線盤,包括一由導(dǎo)線繞制而成的線盤主體10,在這里,上述的線盤主體10即為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的由導(dǎo)線繞制而成的線圈,在此不再重復(fù)贅述,在本發(fā)明中,所述線盤主體10的包括疏繞線圈和密疏線圈兩種,所述線盤主體10的上表面凹凸不平并使得該線盤主體10的上表面與待加熱的廚具30的外底壁之間的距離為非等距,即,當(dāng)用戶將待煮食的廚具放置于電磁加熱線盤上時(shí),所述線盤主體10的上表面各個(gè)位置與所述廚具30的外底壁之間的距離不會(huì)完全相同,其中一部分位置與所述廚具30的外底壁之間的距離近一些,另一部分位置與所述廚具30的外底壁之間的距離遠(yuǎn)一些。
由于本發(fā)明的電磁加熱線盤通過將所述線盤主體10的上表面設(shè)置成凹凸不平并使得該線盤主體10的上表面與待加熱的廚具30的外底壁之間的距離為非等距,即線盤主體10上表面各處與待煮食的廚具30的外底壁之間的距離不是完全相等的,進(jìn)而使得線盤主體10通電時(shí)作用于廚具30底部各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度不會(huì)完全相同,因此不需要額外配置磁條即可改變電磁加熱線盤作用于廚具30底部各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度,有助于降低生產(chǎn)成本,增強(qiáng)企業(yè)的社會(huì)競(jìng)爭(zhēng)力。
在這里,為了便于生產(chǎn),作為本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例,所述線盤主體10的外形呈圓形,且所述線盤主體10的上表面包含一個(gè)以上的凸起結(jié)構(gòu)11和/或一個(gè)以上的凹陷結(jié)構(gòu)12,即所述線盤主體10的上表面可以設(shè)置有一個(gè)以上的凸起結(jié)構(gòu)11或一個(gè)以上的凹陷結(jié)構(gòu)12,或所述線盤主體10的上表面同時(shí)設(shè)置有一個(gè)以上的凸起結(jié)構(gòu)11和一個(gè)以上的凹陷結(jié)構(gòu)12,具體可以根據(jù)實(shí)際需要而自由選擇。
參照?qǐng)D2和圖3,為了可以更好地調(diào)節(jié)所述線盤主體10的上表面各位置處與待煮食的廚具30的外底壁之間的距離,優(yōu)選地,所述凸起結(jié)構(gòu)11和/或凹陷結(jié)構(gòu)12呈長(zhǎng)條狀且沿著由所述線盤主體10的內(nèi)部指向線盤主體10外部的方向布置于所述線盤主體10的上。為了便于線盤主體10的生產(chǎn)和降低生產(chǎn)成本,在這里優(yōu)選地,上述的凸起結(jié)構(gòu)11和凹陷結(jié)構(gòu)12為導(dǎo)線在繞制所述線盤主體10的過程中,導(dǎo)線在某些位置向上拱起而形成所述凸起結(jié)構(gòu)11,導(dǎo)線在某些位置向下凹陷而形成所述的凹陷結(jié)構(gòu)12。
為了使得本發(fā)明的電磁加熱線盤在通電工作時(shí),可以使得待加熱煮食的廚具底部的不同位置處的磁場(chǎng)強(qiáng)度不相同,在這里,優(yōu)選地,所述線盤主體10的上表面上同時(shí)包含有多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)11和多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu)12,多個(gè)凸起結(jié)構(gòu)11和多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu)12沿著所述線盤主體10的周向依次交替分布,進(jìn)一步優(yōu)選,所述凸起結(jié)構(gòu)11和凹陷結(jié)構(gòu)12均指向所述線盤主體10的圓心。即所述凸起結(jié)構(gòu)11和凹陷結(jié)構(gòu)12沿著所述線盤主體10的徑向方向布置且穿過所述線盤主體10的圓心。
參照?qǐng)D1至圖4,本發(fā)明的一種電磁加熱裝置的第一優(yōu)選實(shí)施例,包括支架20和上述的電磁加熱線盤,所述電磁加熱線盤的線盤主體10緊貼于所述支架20的上表面上,在本實(shí)施例中,優(yōu)選地,所述線盤主體10為一疏繞線圈,所述支架20的表面上設(shè)置有能夠使得線盤主體10上相鄰的導(dǎo)線分隔開來的間隔筋22,同時(shí)所述支架20的上表面至少設(shè)置有一能夠使得所述線盤主體10的上表面向上拱起而形成凹凸不平結(jié)構(gòu)的凸起21,在本發(fā)明中,所述凸起21的上端面與所述線盤主體10的下表面抵接,進(jìn)而使得所述線盤主體10上與所述凸起21相抵接的位置向上拱起而形成所述的凸起結(jié)構(gòu)11,而線盤主體10其他位置則處于水平狀態(tài)或向下凹陷而形成所述的凹陷結(jié)構(gòu)12。
參照?qǐng)D1和圖2,為了便于生產(chǎn)制造,同時(shí)降低生產(chǎn)成本,優(yōu)選地,所述支架20的形狀呈圓形,所述凸起21為一沿著所述支架20的內(nèi)部指向其外部的凸條。進(jìn)一步優(yōu)選,所述支架20的上表面設(shè)置有多條凸起21,多條凸起21均指向所述支架20的圓心且沿著所述支架20的周向邊緣間隔均勻分布。
參照?qǐng)D4,本發(fā)明的電磁加熱裝置用于對(duì)廚具30進(jìn)行加熱煮食時(shí),所述廚具30位于所述電磁加熱裝置的上方或擱置于所述電磁加熱裝置的上表面上,在這里,所述廚具30位于所述電磁加熱裝置的上方,所述電磁加熱裝置上的線盤主體10上的凸起結(jié)構(gòu)11與所述廚具30的外底壁之間的距離為d1,而線盤主體10上的凹陷結(jié)構(gòu)12與與所述廚具30的外底壁之間的距離為d2,由于凸起結(jié)構(gòu)11向上拱起,因此,d1小于d2,進(jìn)而所述凸起結(jié)構(gòu)11比所述凹陷結(jié)構(gòu)12更加靠近所述廚具30的外底壁,因此,廚具30底部與所述凸起結(jié)構(gòu)11對(duì)應(yīng)的位置處的磁場(chǎng)強(qiáng)度大于所述廚具30底部與所述凹陷結(jié)構(gòu)12對(duì)應(yīng)的位置處的磁場(chǎng)強(qiáng)度,進(jìn)而企業(yè)不需要額外為電磁加熱裝置或電磁加熱線盤配置磁條,即可使得廚具30底部各處的磁場(chǎng)強(qiáng)度不一致,存在差值,因此在煮食過程中,可以使得食物更好地翻滾,便于煮食,同時(shí)節(jié)約了磁條,可以降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,增強(qiáng)企業(yè)的社會(huì)競(jìng)爭(zhēng)力。
參照?qǐng)D5,本發(fā)明的一種電磁加熱裝置的第二優(yōu)選實(shí)施例,其與第一優(yōu)選實(shí)施例的不同之處在于:所述線盤主體10為一密繞線圈,而且支架20上移除了使得線盤主體10上相鄰的導(dǎo)線分隔開來的間隔筋22。
參照?qǐng)D6,本發(fā)明中電磁加熱裝置的第三優(yōu)選實(shí)施例,其與第一優(yōu)選實(shí)施例的不同之處在于:所述支架20的外形呈上小下大的圓臺(tái)狀,所述支架20上設(shè)置有兩個(gè)線盤主體10,其中一個(gè)線盤主體10設(shè)置于所述支架20的頂部表面上,另一個(gè)線盤主體10則鋪設(shè)于所述支架20的外周側(cè)壁上,所述支架20的頂部表面及外周側(cè)壁上均設(shè)置有使得所述線盤主體10的上表面向上拱起而形成凹凸不平結(jié)構(gòu)的凸起21。在本實(shí)施例中,設(shè)置于支架20頂部表面上的線盤主體10處于水平放置狀態(tài)且該線盤主體10整體呈一平板狀,而鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10則緊貼所述支架20的外周側(cè)壁且處于傾斜向下的狀態(tài)。上述支架20的外周側(cè)壁可以是傾斜向下的斜面,也可以為一傾斜向下的圓弧面,具體可根據(jù)實(shí)際需要而自由設(shè)定。
在這里,為便于電磁加熱裝置的生產(chǎn)和組裝,優(yōu)選地,設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10為兩個(gè)相互獨(dú)立的線圈,其中設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10的形狀呈圓形,而鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10的形狀則呈圓環(huán)狀。
當(dāng)然,設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10也可以為一整體,即所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于其外周側(cè)壁上的線盤主體10為由一根導(dǎo)線繞制而成,因此兩個(gè)線盤主體10可以根據(jù)不同的需要而選擇不同的結(jié)構(gòu)。
參照?qǐng)D7,本發(fā)明中電磁加熱裝置的第四優(yōu)選實(shí)施例,其與第三優(yōu)選實(shí)施例的不同之處在于:所述第三優(yōu)選實(shí)施例中的線盤主體10為疏繞線圈,支架20上設(shè)置有分隔線盤主體10上相鄰導(dǎo)線的間隔筋22,而在本實(shí)施例中的線盤主體10則為密繞線圈,同時(shí)支架20上移除了間隔筋22。
在本實(shí)施例中,所述支架20的外形同樣呈上小下大的圓臺(tái)狀,所述支架20上設(shè)置有兩個(gè)線盤主體10,其中一個(gè)線盤主體10設(shè)置于所述支架20的頂部表面上,另一個(gè)線盤主體10則鋪設(shè)于所述支架20的外周側(cè)壁上,所述支架20的頂部表面及外周側(cè)壁上均設(shè)置有使得所述線盤主體10的上表面向上拱起而形成凹凸不平結(jié)構(gòu)的凸起21。在本實(shí)施例中,設(shè)置于支架20頂部表面上的線盤主體10處于水平放置狀態(tài)且該線盤主體10整體呈一平板狀,而鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10則緊貼所述支架20的外周側(cè)壁且處于傾斜向下的狀態(tài)。上述支架20的外周側(cè)壁可以是傾斜向下的斜面,也可以為一傾斜向下的圓弧面,具體可根據(jù)實(shí)際需要而自由設(shè)定。
在這里,為便于電磁加熱裝置的生產(chǎn)和組裝,優(yōu)選地,設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10為兩個(gè)相互獨(dú)立的線圈,其中設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10的形狀呈圓形,而鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10的形狀則呈圓環(huán)狀。
當(dāng)然,設(shè)置于所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于所述支架20外周側(cè)壁上的線盤主體10也可以為一整體,即所述支架20頂部表面上的線盤主體10與鋪設(shè)于其外周側(cè)壁上的線盤主體10為由一根導(dǎo)線繞制而成,因此兩個(gè)線盤主體10可以根據(jù)不同的需要而選擇不同的結(jié)構(gòu)。
以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)先實(shí)施方式,只要以基本相同手段實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。