本發(fā)明涉及通訊技術領域，特別是涉及一種終端外殼、包含該終端外殼的電子設備及終端外殼加工工藝。

背景技術：

對于手機和平板電腦等移動終端的外殼，大都在外殼的表面進行著色處理，但是，對于傳統(tǒng)的著色處理，只能形成某些特定的單一顏色，從而影響外殼的裝飾效果。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明解決的一個技術問題是如何提高終端外殼的裝飾效果。

一種終端外殼，包括：

殼本體，設置有第一表面及與所述第一表面相對的第二表面；

主光學鍍層，與所述第一表面連接并包括多個層疊的主光學膜；及

副光學鍍層，所述副光學鍍層與所述第二表面連接并用于抵消應力。

在其中一個實施例中，所述主光學鍍層包括交替層疊的第一主光學膜和第二主光學膜，所述第一主光學膜包括金屬膜或合金膜，所述第二主光學膜包括金屬氧化物膜或非金屬氧化物膜。

在其中一個實施例中，所述主光學鍍層上最外層的第一主光學膜與所述殼本體連接。

在其中一個實施例中，還包括設置在所述主光學鍍層遠離所述殼本體一面上的保護層。

在其中一個實施例中，所述保護層包括類金剛石鍍層。

在其中一個實施例中，所述第一主光學膜的折射率大于所述第二主光學膜的折射率。

在其中一個實施例中，所述主光學膜的數(shù)量為a，其中，4≤a≤2000。

在其中一個實施例中，所述第一主光學膜的厚度為b，其中，5nm≤b≤10nm；所述第二主光學膜的厚度為c，其中，15nm≤c≤35nm。

在其中一個實施例中，所述副光學鍍層包括多個層疊的副光學膜，所述副光學膜包括mgf2膜、si3n2膜或nicr膜。

在其中一個實施例中，所述殼本體采用鋁合金、不銹鋼或玻璃材料制成。

一種電子設備，包括上述任一的終端外殼。

一種終端外殼加工工藝，包括如下步驟：

獲得包括有第一表面和第二表面的殼本體，所述第一表面和所述第二表面相對設置；

清除所述第一表面和第二表面上的油污并形成設定的粗糙度；及

通過真空離子鍍膜工藝于所述第一表面生成主光學鍍層，所述主光學鍍層包括多個層疊的主光學膜，通過真空離子鍍膜工藝于所述第二表面生成副光學鍍層。

本發(fā)明的一個實施例的一個技術效果是豐富終端外殼所呈現(xiàn)的顏色而提高裝飾效果。

附圖說明

圖1為一實施例提供的電子設備的立體結構示意圖；

圖2為一實施例提供的終端外殼中殼本體的局部剖面結構示意圖；

圖3為一實施例提供的終端外殼的局部剖面結構示意圖；

圖4為一實施例提供的終端外殼加工工藝流程框圖。

具體實施方式

為了便于理解本發(fā)明，下面將參照相關附圖對本發(fā)明進行更全面的描述。附圖中給出了本發(fā)明的較佳實施方式。但是，本發(fā)明可以以許多不同的形式來實現(xiàn)，并不限于本文所描述的實施方式。相反地，提供這些實施方式的目的是使對本發(fā)明的公開內(nèi)容理解的更加透徹全面。

需要說明的是，當元件被稱為“固定于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者也可以存在居中的元件。當一個元件被認為是“連接”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。本文所使用的術語“內(nèi)”、“外”、“左”、“右”以及類似的表述只是為了說明的目的，并不表示是唯一的實施方式。

同時參閱圖1至圖4，一種終端外殼20，包括殼本體100，主光學鍍層200和副光學鍍層300。殼本體100上設置有第一表面110和第二表面120，第一表面110與第二表面120相對設置，例如，第一表面110為外表面，第二表面120為內(nèi)表面。主光學鍍層200與第一表面110連接，主光學鍍層200包括多個層疊連接的主光學膜210。副光學鍍層300與第二表面120連接，副光學鍍層300能夠抵消整個主光學鍍層200的內(nèi)應力(即各個主光學膜210之間的相互作用力)，確保主光學鍍層200的安裝精度和外形尺寸。

由于設置主光學鍍層200，通過各主光學膜210對光的反射和透射作用，能使終端外殼20呈現(xiàn)出可見光的全頻譜單一顏色以及彩色，例如藍色、橙色、綠色、紅色和紫色等等。提高了終端外殼20的裝飾效果。

參閱圖2，主光學鍍層200包括交替層疊設置的第一主光學膜211和第二主光學膜212，例如，首先，殼本體100的第一表面110與第一主光學膜211直接連接，即第一表面110上貼覆有第一主光學膜211，接著，第一主光學膜211上貼覆有第二主光學膜212，第二主光學膜212上貼覆有第一主光學膜211，第一主光學膜211和第二主光學膜212依此交替貼覆。

第一主光學膜211包括金屬膜或合金膜，例如，金屬可以為金、銀、鐵、鋁、銅和鉻等材料，合金可以鋁合金、鈦合金、鐵合金或鎳合金等。第二主光學膜212包括金屬氧化物膜或非金屬氧化物膜，金屬氧化物可以為氧化鈦、氧化鋅、氧化鋁或氧化鎂等。非金屬氧化物可以為氧化硅或氧化鈣等。

在一些實施例中，主光學膜210的數(shù)量為a，其中，4≤a≤2000，例如，主光學鍍層200包括4層主光學膜210、10層主光學膜210或2000層主光學膜210等，主光學鍍層200上最外層的第一主光學膜211與殼本體100連接，即殼本體100的第一表面110首先與第一主光學膜211連接。當然，殼本體100的第一表面110也可以首先與第二主光學膜212連接。

第一主光學膜211的數(shù)量與第二主光學膜212的數(shù)量相等，及每一個第一主光學膜211必須對應一個第二主光學膜212。當然，第一主光學膜211的數(shù)量與第二主光學膜212的數(shù)量可以不相等，例如，第一主光學膜211的數(shù)量比第二主光學膜212的數(shù)量多一個，或者，第二主光學膜212的數(shù)量比第一主光學膜211的數(shù)量多一個。

在一些實施例中，第一主光學膜211的折射率大于第二主光學膜212的折射率?？梢越惶娓淖児饩€通過第一主光學膜211和第二主光學膜212的折射度，從而改變光線在主光學鍍層200的入射路徑，最終實現(xiàn)終端外殼20顏色的變化。

第一主光學膜211的厚度為b，其中，5nm≤b≤10nm；例如：第一主光學膜211的厚度為5nm、7nm或10nm等。第二主光學膜212的厚度為c，其中，15nm≤c≤35nm。例如，第二主光學膜212的厚度為15nm、20nm或35nm等。通過改變各個第一主光學膜211和第二主光學膜212的厚度，可以調(diào)節(jié)整個主光學鍍層200對可見光的反射率、折射率和透視率等特性，從而達到改變終端外殼20外觀顏色的目的。

例如，第一主光學膜211和第二主光學膜212的數(shù)量相等，兩者的總數(shù)為四層(即主光學膜210的數(shù)量為四層)；第一主光學膜211為鋁膜，鋁膜的厚度為5nm；第二主光學膜212為氧化鈦膜，氧化鈦膜的厚度為20nm。此時，終端外殼20的顏色為紫色。

又如，第一主光學膜211大于第二主光學膜212的數(shù)量，兩者的總數(shù)為七層(即主光學膜210的數(shù)量為七層)；第一主光學膜211為銅膜，銅膜的厚度為10nm；第二主光學膜212為氧化硅膜，氧化硅膜的厚度為15nm。此時，終端外殼20的顏色為橙色。

終端外殼20還包括保護層，保護層設置在主光學鍍層200遠離殼本體100的一面上，即保護層貼覆在主光學鍍層200上最外層的第一主光學膜211或第二主光學膜212上。保護層的硬度較高，可以有效防止主光學鍍層200產(chǎn)生刮痕。在一些實施例中，保護層包括類金剛石鍍層，即保護層采用類金剛石材料制成。

在一些實施例中，殼本體100采用鋁合金材料制成，當然，殼本體100也可以采用不銹鋼或玻璃等材料制成。

在一些實施例中，副光學鍍層300包括多個層疊的副光學膜310，副光學膜310包括mgf2膜、si3n2膜或nicr膜等。由于副光學鍍層300設置在殼本體100的第二表面120上，可以有效抵消主光學鍍層200內(nèi)部之間的內(nèi)應力，防止殼本體100或主光學鍍層200產(chǎn)生變形。當然，副光學膜310的數(shù)量與主光學膜210的數(shù)量可以相等，即每一個副光學膜310剛好能平衡一個主光學膜210產(chǎn)生的內(nèi)應力。

參閱圖1，本發(fā)明還提供一種電子設備10，該電子設備10包括上述的終端外殼20，終端外殼20可以為智能手機或平板電腦等，由于該電子設備10采用上述終端外殼20，能呈現(xiàn)出各種不同的顏色，大幅增強了自身的裝飾效果。

參閱圖4，本發(fā)明還提供又一種終端外殼加工工藝，該加工工藝主要包括如下步驟：

s410，下料：獲得包括有第一表面110和第二表面120的殼本體100，第一表面110和第二表面120相對設置；

s420，前處理：清除第一表面110和第二表面120上的油污并形成設定的粗糙度；及

s430，鍍膜：通過真空離子鍍膜工藝于第一表面110生成主光學鍍層200，主光學鍍層200包括多個層疊的主光學膜210，通過真空離子鍍膜工藝于第二表面120生成副光學鍍層300。

在下料工藝過程中，可以采用注射成型的方式。在前處理工藝過程中，可以通過打磨方式去除殼本體100表面的粉塵和松散氧化層，然后，再進行噴砂處理，以在殼本體100上形成設定粗糙度的第一表面110和第二表面120。以壓力泵為動力，攜帶磨粒的高速流體從噴嘴噴射至殼本體100的第一表面110和第二表面120上，磨?？梢圆捎媒饎偵?、石英砂或銅礦砂等，在磨粒的沖擊和切削作用下，第一表面110和第二表面120上將形成細小的凹凸不平結構，以便增強主光學鍍層200和副光學鍍層300兩者與殼本體100之間的結合力。噴砂工藝包括初次噴砂處理和二次噴砂處理，二次噴砂處理的磨粒尺寸小于初次噴砂處理的磨粒尺寸，這樣可以確保第一表面110和第二表面120的各部分均具有相對均勻的粗糙度。最后，經(jīng)過酸洗和堿洗即可進行鍍膜處理。

在鍍膜工藝過程中，主光學鍍層200和副光學鍍層300均采用真空離子鍍膜工藝成型。例如，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為150—250sccm，工作電壓為150—200v，通過金屬靶材蒸發(fā)而形成第一主光學膜211，接著，在同樣的條件下，以金屬氧化物為靶材在第一主光學膜211上形成第二主光學膜212，再通過金屬靶材在第二主光學膜212形成第一主光學膜211，依次類推而形成主光學鍍層200。參照主光學鍍層200的成型工藝，同樣可以形成副光學鍍層300。

以上所述實施例的各技術特征可以進行任意的組合，為使描述簡潔，未對上述實施例中的各個技術特征所有可能的組合都進行描述，然而，只要這些技術特征的組合不存在矛盾，都應當認為是本說明書記載的范圍。

以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對發(fā)明專利范圍的限制。應當指出的是，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發(fā)明構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應以所附權利要求為準。