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存儲(chǔ)單元、存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制備方法與流程

文檔序號(hào):40633282發(fā)布日期:2025-01-10 18:39閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種存儲(chǔ)單元,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,所述寫(xiě)入字線包括字線部以及柵極部,所述字線部沿第一方向延伸,且同一所述字線部連接沿所述第一方向間隔排布的多個(gè)所述柵極部,所述寫(xiě)入柵介質(zhì)層位于所述柵極部的在所述第二方向上的側(cè)壁。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,所述讀取位線沿第一方向延伸,且與所述寫(xiě)入字線沿第二方向相對(duì)設(shè)置,所述共享導(dǎo)線位于所述讀取位線與所述寫(xiě)入字線之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,所述讀取溝道層還包括讀取導(dǎo)電部,所述讀取導(dǎo)電部沿所述第一方向延伸且位于所述讀取位線的在所述第三方向上的兩端,且所述讀取溝道部與所述讀取導(dǎo)電部連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,所述讀取位線與所述讀取溝道部間隔設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的存儲(chǔ)單元,其特征在于,所述共享導(dǎo)線連接所述讀取溝道部在所述第二方向上的側(cè)壁。

9.一種存儲(chǔ)結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:

10.一種存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,包括:

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述第二隔離結(jié)構(gòu)包括第一隔離部與第二隔離部,所述第二隔離部位于所述第一隔離部與所述第二區(qū)之間,且所述第二隔離部在所述第一方向上的尺寸大于所述第一隔離部在所述第一方向上的尺寸,

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,于所述第一子腔內(nèi)形成寫(xiě)入溝道層、寫(xiě)入柵介質(zhì)層以及寫(xiě)入字線,包括:

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述第一區(qū)包括第一子區(qū)與第二子區(qū),所述第二子區(qū)位于所述第一子區(qū)與所述共享區(qū)之間,

14.根據(jù)權(quán)利要求10所述存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,于所述第二隔離結(jié)構(gòu)的靠近所述第一隔離結(jié)構(gòu)的一側(cè)形成器件通孔時(shí),所述器件通孔與所述第一區(qū)間隔設(shè)置,

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于,所述于所述器件通孔以及所述第二鏤空腔內(nèi)形成讀取柵介質(zhì)層以及讀取溝道層,且形成讀取位線,包括:


技術(shù)總結(jié)
本公開(kāi)涉及一種存儲(chǔ)單元、存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制備方法。其中,存儲(chǔ)單元包括:寫(xiě)入晶體管,包括寫(xiě)入字線、寫(xiě)入柵介質(zhì)層以及寫(xiě)入溝道層,寫(xiě)入字線沿第一方向延伸,寫(xiě)入柵介質(zhì)層位于寫(xiě)入字線的側(cè)壁,寫(xiě)入溝道層位于寫(xiě)入柵介質(zhì)層側(cè)壁;共享導(dǎo)線,沿第三方向延伸;第一電極,與共享導(dǎo)線沿第一方向排列,第一電極與共享導(dǎo)線位于寫(xiě)入溝道層的同一側(cè);讀取晶體管,包括讀取柵介質(zhì)層、讀取溝道層以及讀取位線,讀取柵介質(zhì)層位于共享導(dǎo)線與第一電極之間,且延伸至第一電極的側(cè)壁,讀取溝道層包括讀取溝道部,讀取溝道部位于讀取柵介質(zhì)層的側(cè)壁,且讀取溝道部一端連接共享導(dǎo)線,另一端連接讀取位線。本公開(kāi)實(shí)施例中可以有效提高存儲(chǔ)密度。

技術(shù)研發(fā)人員:唐怡
受保護(hù)的技術(shù)使用者:長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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