1.一種介質(zhì)板，其特征在于，包括在第一方向上層疊設(shè)置的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層包括間隔設(shè)置的多個介質(zhì)單元。
2.如權(quán)利要求1所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述多個介質(zhì)單元中各介質(zhì)單元的至少部分外周面被配置為第一透射面；
3.如權(quán)利要求2所述的介質(zhì)板，其特征在于，從所述第一端到所述第二端，所述第一透射面整體沿傾斜于所述第一方向的方向逐漸朝向相鄰的所述介質(zhì)單元延伸，以形成外擴面。
4.如權(quán)利要求2或3所述的介質(zhì)板，其特征在于，各所述介質(zhì)單元設(shè)置成棱臺形結(jié)構(gòu)或棱錐形結(jié)構(gòu)，所述棱臺形結(jié)構(gòu)或棱錐形結(jié)構(gòu)的整個外周面被配置為所述第一透射面，且所述第一透射面的所述第二端位于所述第一介質(zhì)層的第一表面，其中，所述第一介質(zhì)層的所述第一表面朝向所述第二介質(zhì)層。
5.如權(quán)利要求4所述的介質(zhì)板，其特征在于：
6.如權(quán)利要求5所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述第一底面和所述第二底面均為正方形，所述第一底面的邊長為p1，所述第二底面的邊長為p2，0<p1/p2≤1/2。
7.如權(quán)利要求2或3所述的介質(zhì)板，其特征在于，各所述介質(zhì)單元設(shè)置成圓錐形結(jié)構(gòu)或圓臺形結(jié)構(gòu)，各所述圓錐形結(jié)構(gòu)或所述圓臺形結(jié)構(gòu)的整個外周面被配置為所述第一透射面，且所述第一透射面的所述第二端位于所述第一介質(zhì)層的第一表面，其中，所述第一介質(zhì)層的所述第一表面朝向所述第二介質(zhì)層。
8.如權(quán)利要求7所述的介質(zhì)板，其特征在于：
9.如權(quán)利要求2或3所述的介質(zhì)板，其特征在于，各所述介質(zhì)單元設(shè)置成球面形結(jié)構(gòu)，各所述球面形結(jié)構(gòu)的球面整體構(gòu)成所述介質(zhì)單元的外周面，并被配置為所述第一透射面。
10.如權(quán)利要求9所述的介質(zhì)板，其特征在于，各所述球面形結(jié)構(gòu)的球徑為d，所述第二介質(zhì)層的厚度為h2，1/2≤h2/d≤2/3。
11.如權(quán)利要求1～10任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述第一介質(zhì)層的厚度為h1，所述第二介質(zhì)層的厚度為h2，0<h1/h2≤1/3。
12.如權(quán)利要求1～11任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述第一介質(zhì)層與所述第二介質(zhì)層的厚度之和為0.6mm～1mm。
13.如權(quán)利要求1～12任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述第一介質(zhì)層和所述第二介質(zhì)層為一體式結(jié)構(gòu)。
14.如權(quán)利要求1～13任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述介質(zhì)板的介電常數(shù)為3～10。
15.如權(quán)利要求1～14任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述介質(zhì)板的材質(zhì)為玻璃。
16.如權(quán)利要求1～15任一項所述的介質(zhì)板，其特征在于，所述多個介質(zhì)單元在第二方向和第三方向上呈陣列分布于所述第一介質(zhì)層的朝向所述第二介質(zhì)層的表面，其中，所述第一方向、所述第二方向、以及所述第三方向兩兩相互垂直。
17.一種頻率選擇表面，其特征在于，包括金屬層和如權(quán)利要求1～15任一項所述的介質(zhì)板。
18.如權(quán)利要求17所述的頻率選擇表面，其特征在于，所述金屬層貼合于所述第一介質(zhì)層的朝向所述第二介質(zhì)層的表面，并嵌設(shè)于所述第二介質(zhì)層的所述多個介質(zhì)單元之間，且所述金屬層包圍每個所述介質(zhì)單元的外周側(cè)。
19.如權(quán)利要求17或18所述的頻率選擇表面，其特征在于，所述金屬層設(shè)置成網(wǎng)格狀結(jié)構(gòu)，并包括在所述第一介質(zhì)層的朝向所述第二介質(zhì)層的表面上呈陣列排列的多個金屬單元，所述多個金屬單元與所述多個介質(zhì)單元一一對應(yīng)，所述多個金屬單元中各金屬單元包圍對應(yīng)的介質(zhì)單元的外周側(cè)。
20.如權(quán)利要求19所述的頻率選擇表面，其特征在于，所述多個介質(zhì)單元和所述多個金屬單元沿所述第一方向在所述第一介質(zhì)層上的正投影覆蓋整個所述第一介質(zhì)層。
21.一種用于電子設(shè)備的后蓋，其特征在于，包括如權(quán)利要求1～16任一項所述的介質(zhì)板或者如權(quán)利要求17～20任一項所述的頻率選擇表面。
22.一種電子設(shè)備，包括殼體，其特征在于，所述殼體包括如權(quán)利要求21所述的后蓋。
23.如權(quán)利要求22所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備還包括天線，所述天線容納于所述殼體內(nèi)，并且，在與所述第一方向垂直的平面，所述天線對應(yīng)設(shè)置于所述介質(zhì)板的中心區(qū)域。