本發(fā)明涉及例如在制造顯示裝置所使用的基板時使用的干燥裝置、對基板實施液體的涂敷處理和干燥處理的制造裝置、和物品的制造方法等。

背景技術(shù)：

1、已知有一種這樣的物品的制造方法：通過噴墨方式在基板上涂敷材料，從而制造例如有機el顯示裝置。作為為此的制造系統(tǒng)，已知有一種制造系統(tǒng)，其具有在基板上涂敷墨的涂敷裝置、使涂敷有墨的基板干燥的干燥裝置、以及輸送基板的輸送裝置。

2、在日本特開2003－142260號公報中記載了一種制造系統(tǒng)，其以包圍具備機械手的輸送裝置的周圍的方式配置有噴墨裝置、干燥爐。

3、現(xiàn)有技術(shù)文獻

4、專利文獻

5、專利文獻1：日本特開2003－142260號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的問題

2、在日本特開2003－142260號公報所記載的制造系統(tǒng)中，由于未對干燥裝置進行具體的研究，因此不能高效地進行基板向干燥裝置的送入和基板從干燥裝置的送出，存在干燥處理的效率下降的問題。

3、此外，在日本特開2003－142260號公報所記載的制造系統(tǒng)中，通過在輸送裝置的周圍配置多個涂敷裝置和干燥裝置來嘗試提高生產(chǎn)率。但是，由于利用單一的輸送裝置進行使基板在涂敷裝置、干燥裝置之間移動的作業(yè)，因此在輸送裝置使某個基板移動的期間存在需要使其他的基板待機的情況，產(chǎn)生浪費的待機時間。此外，若產(chǎn)生待機時間，則存在如下情況：例如將基板從涂敷裝置送入到干燥裝置所需要的時間對于每個基板而言都不同。于是，送入到干燥裝置的時刻的基板的狀態(tài)有偏差，因此難以控制由干燥裝置進行的干燥處理的條件。

4、因此，期待在對由涂敷裝置涂敷了墨的基板進行干燥處理時不降低干燥處理的效率的干燥裝置、制造裝置。或者，期待一種能夠縮短從涂敷裝置到干燥裝置的輸送時間且減少輸送時間的偏差的制造裝置。

5、用于解決問題的方案

6、本發(fā)明的1個技術(shù)方案是一種干燥裝置，其特征在于，該干燥裝置具備：送入口，從該送入口送入基板；保持機構(gòu)，其能夠保持所送入的基板并變更高度；干燥機構(gòu)，其對所送入的基板進行干燥處理；以及送出口，從該送出口送出進行了干燥處理的基板，所述送入口和所述送出口設(shè)在高度不同的位置。

7、發(fā)明的效果

8、根據(jù)本發(fā)明的1個技術(shù)方案，能夠提供一種在對由涂敷裝置涂敷了墨的基板進行干燥處理時不降低干燥處理的效率的干燥裝置或制造裝置。或者，根據(jù)本發(fā)明的1個技術(shù)方案，能夠提供一種能夠縮短從涂敷裝置向干燥裝置的輸送時間且減少輸送時間的偏差的制造裝置。

技術(shù)特征：

1.一種干燥裝置，其特征在于，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干燥裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的干燥裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干燥裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的干燥裝置，其特征在于，

7.一種制造裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造裝置，其特征在于，

11.一種物品的制造方法，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的物品的制造方法，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的物品的制造方法，其特征在于，

14.一種制造裝置，其特征在于，

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造裝置，其特征在于，

16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造裝置，其特征在于，

17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造裝置，其特征在于，

18.一種物品的制造方法，其特征在于，

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的物品的制造方法，其特征在于，

20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的物品的制造方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供干燥裝置、制造裝置、物品的制造方法。期待在對由涂敷裝置涂敷了墨的基板進行干燥處理時不降低干燥處理的效率的干燥裝置、制造裝置。干燥裝置的特征在于，具備：送入口，從該送入口送入基板；保持機構(gòu)，其能夠保持所送入的基板并變更高度；干燥機構(gòu)，其對所送入的基板進行干燥處理；以及送出口，從該送出口送出進行了干燥處理的基板，所述送入口和所述送出口設(shè)在高度不同的位置。

技術(shù)研發(fā)人員：秋田和夫,岸本克史
受保護的技術(shù)使用者：佳能株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9