本發(fā)明的實(shí)施方式涉及顯示裝置及其制造方法。

背景技術(shù)：

1、近年來(lái)，應(yīng)用有機(jī)發(fā)光二極管(oled)作為顯示元件的顯示裝置得以實(shí)用化。該顯示元件具備：下電極；與下電極對(duì)置的上電極；和位于下電極與上電極之間的包含發(fā)光層的有機(jī)層。

2、在上述這樣的顯示元件中，需要將由發(fā)光層產(chǎn)生的光高效地取出至外部的技術(shù)。在一例中，已知有應(yīng)用形成于與顯示元件對(duì)置的基板的內(nèi)表面的內(nèi)側(cè)取出層和形成于基板的外表面的外側(cè)取出層的技術(shù)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、實(shí)施方式的目的在于提供能夠改善光取出效率、抑制外部光的反射的顯示裝置及其制造方法。

2、一個(gè)實(shí)施方式涉及的顯示裝置具備：

3、基板；下電極，其配置于前述基板的上方；肋部，其覆蓋前述下電極的周緣部；有機(jī)層，其配置于前述下電極之上，并且包含發(fā)光層；上電極，其配置于前述有機(jī)層之上；支承體，其具有配置于前述上電極的上方且與前述下電極對(duì)置的第1面和前述第1面的相反側(cè)的第2面；第1透鏡(lens)，其在前述下電極的正上方配置于前述第1面，并且形成為凸?fàn)?；外覆?overcoat?layer)，其覆蓋前述第1透鏡；第2透鏡，其在前述肋部的正上方配置于前述第2面，并且形成為凸?fàn)?；和遮光層，其覆蓋前述第2透鏡，其中，前述第1透鏡至少具備與前述第1面相接且具有第1折射率的第1層、和具有比前述第1折射率高的第2折射率且與前述第1層重疊的第2層。

4、一個(gè)實(shí)施方式涉及的顯示裝置的制造方法中，

5、在支承體的第1面形成第1透鏡，由外覆層覆蓋前述第1透鏡，在前述支承體的第2面形成第2透鏡，形成覆蓋前述第2透鏡的遮光層，將前述外覆層粘接于配置于顯示元件的上方的絕緣層，其中，形成前述第1透鏡的工序至少包括：在前述第1面由具有第1折射率的材料形成第1層，在前述第1層之上由具有比前述第1折射率高的第2折射率的材料形成第2層的工序。

6、根據(jù)實(shí)施方式，能夠提供能夠改善光取出效率、抑制外部光的反射的顯示裝置及其制造方法。

技術(shù)特征：

1.顯示裝置，其具備：

2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，

3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中，

4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中，

5.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，

6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其還具備：

7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，

8.顯示裝置的制造方法，其中，

9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，

10.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，

11.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，

12.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，

13.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，形成所述第1透鏡的工序還包括：

14.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，形成所述第1透鏡的工序還包括：

15.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置的制造方法，其中，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及顯示裝置及其制造方法。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，顯示裝置具備：基板；下電極，其配置于基板的上方；肋部，其覆蓋下電極的周緣部；有機(jī)層，其配置于下電極之上，并且包含發(fā)光層；上電極，其配置于有機(jī)層之上；支承體，其具有配置于上電極的上方且與下電極對(duì)置的第1面和第1面的相反側(cè)的第2面；第1透鏡，其在下電極的正上方配置于第1面，并且形成為凸?fàn)?；外覆層，其覆蓋第1透鏡；第2透鏡，其在肋部的正上方配置于第2面，并且形成為凸?fàn)?；和遮光層，其覆蓋第2透鏡，其中，第1透鏡至少具備與第1面相接且具有第1折射率的第1層、和具有比第1折射率高的第2折射率且與第1層重疊的第2層。

技術(shù)研發(fā)人員：袁澤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社日本顯示器
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9