本發(fā)明涉及封裝,尤其是涉及一種小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板、其制備方法及封裝方法。
背景技術(shù):
1、目前,市場(chǎng)對(duì)于sic芯片的功率模塊的需求增強(qiáng)迅速。在傳統(tǒng)的封裝過(guò)程中,錫合金焊接工藝已經(jīng)不能滿足sic芯片的優(yōu)勢(shì),為充分發(fā)揮sic芯片的優(yōu)勢(shì),銀燒結(jié)工藝的使用有效緩解了該項(xiàng)短板。
2、在sic芯片燒結(jié)過(guò)程中,由于amb陶瓷覆銅板的銅層、陶瓷層、芯片、燒結(jié)材料等的熱膨脹系數(shù)不同產(chǎn)生熱應(yīng)力,使得amb陶瓷覆銅板彎曲,不平整,對(duì)后續(xù)的封裝帶來(lái)較大的影響,因此需要使用尺寸較大的amb陶瓷覆銅板作為基板,以保證的強(qiáng)度同時(shí)滿足配合多電子絕緣和鍵合引線的布局。越大的陶瓷基板尺寸,在燒結(jié)封裝后會(huì)帶來(lái)越大的基板彎曲度,若單純的縮小amb陶瓷覆銅板,無(wú)法滿足配合多電子元件的絕緣與鍵合引線的布局。
3、因此,針對(duì)上述問(wèn)題本發(fā)明急需提供一種小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法及封裝方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供一種小尺寸增強(qiáng)抗翹曲的amb陶瓷覆銅板結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方法及封裝方法,通過(guò)增小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法的提出以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的大尺寸的amb陶瓷覆銅板作為基板,限制了在小器件中的使用的技術(shù)問(wèn)題。
2、本發(fā)明提供的一種小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,包括如下步驟:
3、根據(jù)現(xiàn)有的amb陶瓷覆銅板尺寸和設(shè)計(jì)長(zhǎng)度要求,設(shè)定amb陶瓷覆銅板長(zhǎng)度的縮小尺寸,依據(jù)縮小尺寸,制備小尺寸的amb陶瓷覆銅板;
4、按照dbc陶瓷覆銅板寬度=1/2amb陶瓷覆銅板縮小尺寸+dbc陶瓷覆銅板上銅層隔絕電路槽總寬度,dbc陶瓷覆銅板的長(zhǎng)度≤amb陶瓷覆銅板的寬度的設(shè)計(jì),制備dbc陶瓷覆銅板;
5、將獲得的dbc陶瓷覆銅板貼裝到小尺寸的amb陶瓷覆銅板左、右兩側(cè),獲得小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板。
6、優(yōu)選地,小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板上,各dbc陶瓷覆銅板外側(cè)邊緣距相鄰的小尺寸的amb陶瓷覆銅板外側(cè)邊緣的間距為0.2mm-1.0mm。
7、優(yōu)選地,采用粘結(jié)劑將dbc陶瓷覆銅板粘接于小尺寸的amb陶瓷覆銅板上。
8、優(yōu)選地,粘結(jié)劑層厚度為0.5±0.2mm;粘結(jié)劑涂覆面積≥dbc陶瓷覆銅板表面積。
9、優(yōu)選地,粘結(jié)劑為uv膠;
10、使用365nm的紫外光均勻的照射在粘結(jié)劑表面,光線強(qiáng)度為400mw/cm2,室溫下照射不小于3s后移除近紫外光,激活粘結(jié)劑。
11、優(yōu)選地,小尺寸的amb陶瓷覆銅板分為上、中、下三層,分別為amb上銅層、sin陶瓷層和amb下銅層組成,在amb上銅層上刻蝕有電路隔絕槽;dbc陶瓷覆銅板粘接于小尺寸的amb陶瓷覆銅板上銅層上。
12、優(yōu)選地,dbc陶瓷覆銅板分為上、中、下三層,分別為dbc上銅層、al2o3陶瓷層和dbc1下銅層組成,在dbc上銅層上刻蝕有隔絕電路槽。
13、優(yōu)選地,采用吸嘴下壓貼裝dbc陶瓷覆銅板,吸嘴施加壓力為20±5n,吸嘴停留1-10s。
14、本發(fā)明還提供了一種基于如上述中任一項(xiàng)所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法獲得的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板。
15、本發(fā)明還提供了一種封裝方法,包括如下步驟:
16、將芯片貼裝到如上述所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板上;通過(guò)導(dǎo)線將各芯片與對(duì)應(yīng)的dbc陶瓷覆銅板的銅層或小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板上銅層連接。
17、本發(fā)明提供的一種小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板、其制備方法及封裝方法與現(xiàn)有技術(shù)相比具有以下進(jìn)步:
18、本發(fā)明通過(guò)小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法的提出,通過(guò)dbc陶瓷覆銅板輔助,可以避免amb陶瓷覆銅板受熱及受力下發(fā)生形變的問(wèn)題,起到加固amb陶瓷覆銅板短側(cè)邊的作用,防止amb陶瓷覆銅板發(fā)生彎曲現(xiàn)象的發(fā)生。同時(shí),dbc陶瓷覆銅板可以提供鍵合點(diǎn)位,滿足配合多電子絕緣和鍵合引線的布局,無(wú)需對(duì)amb側(cè)短邊進(jìn)行刻蝕,在同等面積下增加了amb的銅層面積,提高了通流能力。
1.一種小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板上,各dbc陶瓷覆銅板(2)外側(cè)邊緣距相鄰的小尺寸的amb陶瓷覆銅板(1)外側(cè)邊緣的間距為0.2mm-1.0mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:粘結(jié)劑為uv膠;
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法,其特征在于:采用吸嘴下壓貼裝dbc陶瓷覆銅板(2),吸嘴施加壓力為20±5n,吸嘴停留1-10s。
9.一種基于如權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板的制備方法獲得的小尺寸抗翹曲的amb陶瓷覆銅板。
10.一種封裝方法,其特征在于:包括如下步驟: