本發(fā)明涉及電磁屏蔽材料，尤其涉及一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜及其制備方法。

背景技術(shù)：

1、隨著電子科技的高速發(fā)展，電子設(shè)備越來越精密，應(yīng)用也越來越廣泛，電磁波輻射污染變得無處不在，電磁波輻射會導致電子設(shè)備之間、設(shè)備內(nèi)部元器件之間的互相干擾，影響設(shè)備的正常工作，還對人體有著潛在的危害，因此如何更好地做好電磁波干擾的防護是非常具有研究價值的問題。

2、電磁屏蔽薄膜是一種重要的功能性材料，當電磁波輻射到屏蔽薄膜表面時，它會改變電磁波的傳輸方向，有效阻斷無線電波、紅外、紫外等各種電磁波的傳播，它廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代電子設(shè)備的防護中，用以抵御電磁干擾和電磁輻射，隨著電子信息技術(shù)的發(fā)展，電磁屏蔽材料的研究和應(yīng)用顯得尤為重要，電磁屏蔽薄膜可以通過不同的機理來衰減電磁波，主要包括反射損耗、吸收損耗和多次反射衰減。

3、現(xiàn)有的電磁屏蔽薄膜大都制備工藝復雜，成本較高，且柔韌性和耐腐蝕性較差，導致耐久度不夠，使用壽命不高，另外現(xiàn)有的電磁屏蔽薄膜不具備優(yōu)良的機械性能和電磁屏蔽性能，機械穩(wěn)定性和屏蔽效能有待提升，同時還不能兼顧光學透過率和電磁屏蔽性能，很難滿足現(xiàn)代電子設(shè)備對電磁屏蔽材料的高要求，因此，本發(fā)明提出一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜及其制備方法以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、針對上述問題，本發(fā)明的目的在于提出一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜及其制備方法，解決現(xiàn)有的電磁屏蔽薄膜的制備工藝復雜，成本較高，且柔韌性和耐腐蝕性較差，導致耐久度不夠，使用壽命不高，以及不具備優(yōu)良的機械性能和電磁屏蔽性能的問題。

2、為了實現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)：一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，包括復合材料基底層、金屬氧化層、金屬種子層、金屬導電層、導電粘接層和離型膜，所述復合材料基底層、金屬氧化層、金屬種子層、金屬導電層、導電粘接層和離型膜從下至上依次分布。

3、進一步改進在于：所述復合材料基底層由陶瓷材料摻雜金屬材料制成，所述陶瓷材料選自碳化硅、氮化硼或氧化鋅中的一種，所述金屬材料選自金屬銅、金屬鋁或金屬鐵中的一種。

4、進一步改進在于：所述金屬氧化層的構(gòu)成材料選自氧化鐵、氧化銅或氧化鋁中的一種。

5、進一步改進在于：所述金屬種子層的構(gòu)成材料選自金屬鎳或金屬銀中的一種。

6、進一步改進在于：所述金屬導電層的構(gòu)成材料選自鋁鐵合金、銅鋁合金或銅鐵合金中的一種。

7、進一步改進在于：所述導電粘接層的構(gòu)成材料為導電膠，所述導電膠由導電粒子分散在有機膠粘劑中制成，所述導電粒子選自銀金屬粒子、銅金屬粒子或鎳金屬粒子中的一種，所述有機膠粘劑選自環(huán)氧樹脂膠粘劑或聚氨酯膠粘劑中的一種。

8、進一步改進在于：所述離型膜的構(gòu)成材料選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯或聚氯乙烯中的一種。

9、一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜的制備方法，包括以下步驟：

10、步驟一：先采用物理氣相沉積技術(shù)在復合材料基底層表面鍍附金屬氧化層，再在金屬氧化層表面磁控濺射出金屬種子層，接著采用電鍍法在金屬種子層表面電鍍金屬導電層；

11、步驟二：然后在金屬導電層表面涂覆導電粘接層，并通過導電粘接層將離型膜粘接在導電粘接層表面，固化后制得電磁屏蔽薄膜。

12、進一步改進在于：所述步驟一中，所述復合材料基底層在使用前進行清洗預(yù)處理，具體步驟為：先采用超聲波清洗技術(shù)將復合材料基底層置于去離子水中進行超聲清洗，超聲清洗后再置于干燥箱中烘干，然后通過高能量的激光束照射到復合材料基底層表面，以利用光熱效應(yīng)取出污染物，完成清洗預(yù)處理。

13、本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明通過陶瓷材料摻雜金屬材料制成復合材料基底層，電磁屏蔽薄膜具備良好的機械性能和電磁屏蔽性能，且通過在金屬氧化層上鍍附金屬種子層，不僅能改善電磁屏蔽薄膜的導電性，還能對復合材料基底層起到有效保護作用，另外采用金屬合金作為導電層，能進一步提高電磁屏蔽薄膜的電磁屏蔽性能，通過導電粘接層將離型膜粘接在金屬導電層上，提高結(jié)構(gòu)強度，從而使該電磁屏蔽薄膜能同時兼顧光學透過率和電磁屏蔽性能，耐久度也得到提升，一定程度上提高了使用壽命，能滿足現(xiàn)代電子設(shè)備對電磁屏蔽材料的高要求。

技術(shù)特征：

1.一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：包括復合材料基底層（1）、金屬氧化層（2）、金屬種子層（3）、金屬導電層（4）、導電粘接層（5）和離型膜（6），所述復合材料基底層（1）、金屬氧化層（2）、金屬種子層（3）、金屬導電層（4）、導電粘接層（5）和離型膜（6）從下至上依次分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述復合材料基底層（1）由陶瓷材料摻雜金屬材料制成，所述陶瓷材料選自碳化硅、氮化硼或氧化鋅中的一種，所述金屬材料選自金屬銅、金屬鋁或金屬鐵中的一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述金屬氧化層（2）的構(gòu)成材料選自氧化鐵、氧化銅或氧化鋁中的一種。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述金屬種子層（3）的構(gòu)成材料選自金屬鎳或金屬銀中的一種。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述金屬導電層（4）的構(gòu)成材料選自鋁鐵合金、銅鋁合金或銅鐵合金中的一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述導電粘接層（5）的構(gòu)成材料為導電膠，所述導電膠由導電粒子分散在有機膠粘劑中制成，所述導電粒子選自銀金屬粒子、銅金屬粒子或鎳金屬粒子中的一種，所述有機膠粘劑選自環(huán)氧樹脂膠粘劑或聚氨酯膠粘劑中的一種。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜，其特征在于：所述離型膜（6）的構(gòu)成材料選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯或聚氯乙烯中的一種。

8.應(yīng)用于權(quán)利要求1所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜的制備方法，其特征在于：所述步驟一中，所述復合材料基底層（1）在使用前進行清洗預(yù)處理，具體步驟為：先采用超聲波清洗技術(shù)將復合材料基底層（1）置于去離子水中進行超聲清洗，超聲清洗后再置于干燥箱中烘干，然后通過高能量的激光束照射到復合材料基底層（1）表面，以利用光熱效應(yīng)取出污染物，完成清洗預(yù)處理。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種耐久度高的電磁屏蔽薄膜及其制備方法，涉及電磁屏蔽材料技術(shù)領(lǐng)域，包括復合材料基底層、金屬氧化層、金屬種子層、金屬導電層、導電粘接層和離型膜；本發(fā)明通過陶瓷材料摻雜金屬材料制成復合材料基底層，電磁屏蔽薄膜具備良好的機械性能和電磁屏蔽性能，且通過在金屬氧化層上鍍附金屬種子層，不僅能改善電磁屏蔽薄膜的導電性，還能對復合材料基底層起到有效保護作用，另外采用金屬合金作為導電層，能進一步提高電磁屏蔽薄膜的電磁屏蔽性能，通過導電粘接層將離型膜粘接在金屬導電層上，提高結(jié)構(gòu)強度，從而使該電磁屏蔽薄膜能同時兼顧光學透過率和電磁屏蔽性能，耐久度也得到提升，能滿足現(xiàn)代電子設(shè)備對電磁屏蔽材料的高要求。

技術(shù)研發(fā)人員：袁忠才,鄧學松,李冠昌,孫迎松
受保護的技術(shù)使用者：合肥中隱新材料有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6