本技術(shù)屬于線路板，具體涉及一種刻蝕設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、pcb的蝕刻工藝是影響pcb質(zhì)量的重要一環(huán)，隨著pcb的質(zhì)量要求不斷提高，對pcb蝕刻時的精度要求也越來越高。目前的部分pcb蝕刻為采用噴淋處理設(shè)備加工，傳統(tǒng)噴淋處理設(shè)備通常通過朝下噴淋處理液對水平移動的材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)或清洗。然而，處理液因重力作用在水平移動的基材上面易形成一層水膜，阻礙新的處理液與材料接觸而造成上表面存在“水池效應(yīng)”，從而使得噴淋的液體不能直接噴灑到水平移動基材上，造成蝕刻的不均勻。

2、例如在公告號為cn205406497u，名稱為一種刻蝕設(shè)備的中國實用新型中，通過在工作臺上設(shè)置振動機(jī)構(gòu)，使得工作臺上的刻蝕基板進(jìn)行振動，使得刻蝕液可以均勻噴到刻蝕基板上，但是通過振動機(jī)構(gòu)容易使得刻蝕基板在夾持部位損傷，所以為了更加安全、均勻的刻蝕，所以現(xiàn)在需要一種刻蝕設(shè)備。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種結(jié)構(gòu)簡單，設(shè)計合理的一種刻蝕設(shè)備。

2、本實用新型通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的：

3、一種刻蝕設(shè)備，包括刻蝕箱，所述刻蝕箱的內(nèi)部轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動平臺，所述刻蝕箱的底部設(shè)置有驅(qū)動轉(zhuǎn)動平臺轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，所述轉(zhuǎn)動平臺的上側(cè)偏心位置設(shè)置偏心轉(zhuǎn)軸，所述偏心轉(zhuǎn)軸的上側(cè)連接有傾斜設(shè)置的刻蝕平臺，所述轉(zhuǎn)動平臺的上側(cè)設(shè)置有調(diào)節(jié)刻蝕平臺傾斜角度的角度調(diào)節(jié)組件，所述刻蝕平臺的邊緣設(shè)置有若干將待刻蝕基板固定在刻蝕平臺上的定位組件。

4、作為本實用新型的進(jìn)一步優(yōu)化方案，所述角度調(diào)節(jié)組件包括設(shè)置在轉(zhuǎn)動平臺上側(cè)的轉(zhuǎn)軸以及設(shè)置在轉(zhuǎn)軸上的滑筒，所述滑筒的上端滑動套設(shè)有與刻蝕平臺下側(cè)轉(zhuǎn)動連接的滑桿，所述滑筒的一側(cè)開設(shè)有定位槽所述滑桿的一側(cè)螺紋連接有穿過定位槽的定位螺絲。

5、作為本實用新型的進(jìn)一步優(yōu)化方案，所述定位組件包括滑動貫穿刻蝕平臺邊緣的壓桿以及固定設(shè)置在壓桿一端且位于刻蝕平臺上側(cè)的凸輪壓板，所述壓桿的一端固定設(shè)置有位于刻蝕平臺下側(cè)的推板，所述壓桿的一端套設(shè)有位于刻蝕平臺下側(cè)與推板之間的彈簧。

6、作為本實用新型的進(jìn)一步優(yōu)化方案，所述驅(qū)動組件包括固定設(shè)置在刻蝕箱底部的伺服電機(jī)以及套設(shè)在伺服電機(jī)外側(cè)的防護(hù)筒，所述伺服電機(jī)的輸出端通過平鍵與轉(zhuǎn)動平臺的中心連接。

7、作為本實用新型的進(jìn)一步優(yōu)化方案，所述刻蝕箱的頂部設(shè)置有刻蝕噴頭以及與刻蝕噴頭連通的刻蝕液進(jìn)料管。

8、作為本實用新型的進(jìn)一步優(yōu)化方案，所述轉(zhuǎn)動平臺的下表面開設(shè)有導(dǎo)向槽，所述刻蝕箱的底部固定設(shè)置有若干個與導(dǎo)向槽內(nèi)側(cè)活動連接的支撐桿。

9、本實用新型的有益效果在于：

10、1、本實用新型中通過偏心傾斜設(shè)置在轉(zhuǎn)動平臺上側(cè)的刻蝕平臺，可以使得刻蝕平臺在轉(zhuǎn)動的時候，使得刻蝕平臺上側(cè)的刻蝕基板在轉(zhuǎn)動平臺的上方偏心轉(zhuǎn)動，通過刻蝕噴頭噴出的刻蝕液可以從刻蝕基板的頂部偏心流動到底部，使得刻蝕液均勻的對刻蝕基板進(jìn)行刻蝕，并且刻蝕基板不發(fā)生振動，所以刻蝕基板更加安全的進(jìn)行刻蝕。

11、2、本實用新型中通過滑動滑桿，使得滑桿的一端滑出滑筒，然后通過定位螺絲進(jìn)行固定，就可以使得刻蝕平臺在一定的角度進(jìn)行傾斜固定，使得刻蝕設(shè)備可以根據(jù)不同厚度的線路板進(jìn)行刻蝕，提高刻蝕設(shè)備的適應(yīng)范圍。

技術(shù)特征：

1.一種刻蝕設(shè)備，包括刻蝕箱(1)，其特征在于，所述刻蝕箱(1)的內(nèi)部轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動平臺(2)，所述刻蝕箱(1)的底部設(shè)置有驅(qū)動轉(zhuǎn)動平臺(2)轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，所述轉(zhuǎn)動平臺(2)的上側(cè)偏心位置設(shè)置偏心轉(zhuǎn)軸(11)，所述偏心轉(zhuǎn)軸(11)的上側(cè)連接有傾斜設(shè)置的刻蝕平臺(7)，所述轉(zhuǎn)動平臺(2)的上側(cè)設(shè)置有調(diào)節(jié)刻蝕平臺(7)傾斜角度的角度調(diào)節(jié)組件(9)，所述刻蝕平臺(7)的邊緣設(shè)置有若干將待刻蝕基板固定在刻蝕平臺(7)上的定位組件(10)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述角度調(diào)節(jié)組件(9)包括設(shè)置在轉(zhuǎn)動平臺(2)上側(cè)的轉(zhuǎn)軸(905)以及設(shè)置在轉(zhuǎn)軸(905)上的滑筒(901)，所述滑筒(901)的上端滑動套設(shè)有與刻蝕平臺(7)下側(cè)轉(zhuǎn)動連接的滑桿(902)，所述滑筒(901)的一側(cè)開設(shè)有定位槽(903)所述滑桿(902)的一側(cè)螺紋連接有穿過定位槽(903)的定位螺絲(904)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述定位組件(10)包括滑動貫穿刻蝕平臺(7)邊緣的壓桿(1003)以及固定設(shè)置在壓桿(1003)一端且位于刻蝕平臺(7)上側(cè)的凸輪壓板(1001)，所述壓桿(1003)的一端固定設(shè)置有位于刻蝕平臺(7)下側(cè)的推板(1004)，所述壓桿(1003)的一端套設(shè)有位于刻蝕平臺(7)下側(cè)與推板(1004)之間的彈簧(1002)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述驅(qū)動組件包括固定設(shè)置在刻蝕箱(1)底部的伺服電機(jī)(3)以及套設(shè)在伺服電機(jī)(3)外側(cè)的防護(hù)筒(4)，所述伺服電機(jī)(3)的輸出端通過平鍵與轉(zhuǎn)動平臺(2)的中心連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述刻蝕箱(1)的頂部設(shè)置有刻蝕噴頭(8)以及與刻蝕噴頭(8)連通的刻蝕液進(jìn)料管(6)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕設(shè)備，其特征在于：所述轉(zhuǎn)動平臺(2)的下表面開設(shè)有導(dǎo)向槽(12)，所述刻蝕箱(1)的底部固定設(shè)置有若干個與導(dǎo)向槽(12)內(nèi)側(cè)活動連接的支撐桿(5)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及一種刻蝕設(shè)備，屬于線路板技術(shù)領(lǐng)域，該一種刻蝕設(shè)備，包括刻蝕箱，刻蝕箱的內(nèi)部轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動平臺，刻蝕箱的底部設(shè)置有驅(qū)動轉(zhuǎn)動平臺轉(zhuǎn)動的驅(qū)動組件，轉(zhuǎn)動平臺的上側(cè)偏心位置設(shè)置偏心轉(zhuǎn)軸，偏心轉(zhuǎn)軸的上側(cè)連接有傾斜設(shè)置的刻蝕平臺，轉(zhuǎn)動平臺的上側(cè)設(shè)置有調(diào)節(jié)刻蝕平臺傾斜角度的角度調(diào)節(jié)組件，本技術(shù)通過偏心傾斜設(shè)置在轉(zhuǎn)動平臺上側(cè)的刻蝕平臺，可以使得刻蝕平臺在轉(zhuǎn)動的時候，使得刻蝕平臺上側(cè)的刻蝕基板在轉(zhuǎn)動平臺的上方偏心轉(zhuǎn)動，通過刻蝕噴頭噴出的刻蝕液可以從刻蝕基板的頂部偏心流動到底部，使得刻蝕液均勻的對刻蝕基板進(jìn)行刻蝕，并且刻蝕基板不發(fā)生振動，所以刻蝕基板更加安全的進(jìn)行刻蝕。

技術(shù)研發(fā)人員：楊芳,井紅星,單桂紅
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州樂盟鑫美新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240507
技術(shù)公布日：2025/1/2