專(zhuān)利名稱(chēng):用于等離子體槍的氣體分配環(huán)的制作方法
本發(fā)明關(guān)系到等離子體槍?zhuān)鼮榫唧w地涉及一種氣體分配環(huán)，它用于在等離子體槍的電弧區(qū)內(nèi)選擇徑向的或旋渦的氣流。
等離子體槍用于熱流的噴射，它包括對(duì)易熔材料象金屬或陶瓷的熱軟化和將這種軟化的材料以粒子的形式向著被涂復(fù)的表面推進(jìn)。該熱的粒子撞擊該表面同時(shí)粘結(jié)在它上面。典型的供給等離子噴射槍的熱易熔材料是粉未狀態(tài)的，這種粉末一般細(xì)于美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)篩100目大約5微米。
在典型的等離子體系統(tǒng)中，電弧建立在水冷噴咀(陽(yáng)極)和位于中間的陰極之間，這種隋性氣體通過(guò)該電弧，從那里出來(lái)溫度高達(dá)攝氏15，000度。從噴咀噴出的至少部份被電離的氣體的等離子體類(lèi)似氧炔焰。美國(guó)專(zhuān)利3，145，287敘述了一種典型的等離子焰噴射槍。
等離子體槍一般能以氬或氮作為初級(jí)的等離子氣來(lái)工作的。對(duì)氬來(lái)說(shuō)，該氣體通過(guò)一個(gè)或幾個(gè)帶有切向分量的孔引入靠近陰極的室里，從而對(duì)等離子體形成旋渦氣流，如象美國(guó)專(zhuān)利3，823，302號(hào)所公開(kāi)和敘述的那樣。因?yàn)闆](méi)有旋氣流，所以電弧不可能被攜帶得離開(kāi)噴咀下面足夠遠(yuǎn)，而導(dǎo)致低的電壓和低的效率。另一方面，如上述的美國(guó)專(zhuān)利3，245，287號(hào)所公開(kāi)的那樣可將氣體徑向?qū)搿较虻乃瓦M(jìn)一般來(lái)說(shuō)用于氮，因?yàn)樾郎u氣流會(huì)使氮弧向噴咀口下伸展一段很長(zhǎng)的距離而造成引弧的困難。
無(wú)論如何，對(duì)氮來(lái)說(shuō)沒(méi)有旋渦氣流，電壓和效率將是低的。因此，第二種氣體例如氫就被加入，使之具有改進(jìn)這些因素的效能。當(dāng)用氬時(shí)，即使有旋渦氣流，效率也是很低的。若可能再加入氫，但是考慮到氫會(huì)引起噴射涂覆層的脆性，所以也不能使用。氦是該第二氣體的替代物，但是價(jià)格很昂貴，效率也很低。
總的來(lái)說(shuō)，每一種用于各別類(lèi)型的等離子體組成氣體的等離子噴射槍不是帶有徑向的進(jìn)入口就是帶有切向的進(jìn)入口。典型地能用于兩種初級(jí)氣體的槍?zhuān)哂胁煌谋徊迦脒M(jìn)陰極附近的氣體分配環(huán)，在改變氣體時(shí)需要拆卸。已作了一些努力以簡(jiǎn)化這種改動(dòng)，美國(guó)專(zhuān)利3，313，908號(hào)公開(kāi)了一種等離子體噴槍?zhuān)哂杏糜诒贿x擇的不同氣體的兩種類(lèi)型的氣體進(jìn)入部份，該氣體替換的選擇是借助于二個(gè)外部氣體管道裝配部件中的任一個(gè)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。這種方法仍然需要更換槍上的裝配部件。
美國(guó)專(zhuān)利3，851，140號(hào)顯示虧一種等離子體噴射槍?zhuān)哂幸环N向前傾斜的第一開(kāi)口和切線方向的第二開(kāi)口，這兩組進(jìn)入開(kāi)口在限定了縱向的分量的情況下，能伴隨產(chǎn)生一種旋渦流分量，這種環(huán)據(jù)說(shuō)能有控制地變更氣流，但是這不意味著不需要更換環(huán)就能變換不同氣體的氣流，也不意味著能在運(yùn)行過(guò)程中改變氣流的類(lèi)型。
在美國(guó)專(zhuān)利2，941，063號(hào)中描述了一種等離子體槍?zhuān)瑲怏w是從分開(kāi)的地方引入槍內(nèi)的。氣體從陰極附近的徑向氣源進(jìn)口引入，并通過(guò)一個(gè)孔進(jìn)入貼近陰極的腔內(nèi)而為電弧的初始部份和伴陪著的等離子體提供氣流，一個(gè)切向氣源被導(dǎo)入大直徑的第二環(huán)形腔，該環(huán)形腔位于徑向進(jìn)入腔的源下游。這些分離得很寬的氣體進(jìn)入源被導(dǎo)入進(jìn)電弧的不同部份，但在貼近陰極處未能提供對(duì)氣體進(jìn)入的選擇或控制。
對(duì)比以上所述，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種新型的用于等離子體槍的氣體分配環(huán)，它能夠簡(jiǎn)單地選擇在槍的電弧區(qū)里或是徑向或是旋渦氣流。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種新型的用于等離子體槍的氣體分配環(huán)，它能分開(kāi)徑向和切向的氣體進(jìn)入同時(shí)能調(diào)節(jié)它們。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種新型的氣體分配環(huán)，它帶有隔離具有不同進(jìn)入口氣流特點(diǎn)的氣體進(jìn)入管道的裝置。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種改進(jìn)的裝有一種氣體分配環(huán)的等離子槍?zhuān)@種槍無(wú)需變換槍而能選擇徑向或切向的氣體進(jìn)入。
通過(guò)對(duì)下面的說(shuō)明書(shū)敘述和附圖的閱讀，將使本發(fā)明的上述目的和更進(jìn)一步的目的有更明顯地體現(xiàn)。
上述的目的是通過(guò)用于等離子體槍的氣體分配環(huán)來(lái)實(shí)現(xiàn)的。它包括具有圓柱形外表面的和在那里的具有一個(gè)或幾個(gè)第一氣體進(jìn)入孔和一個(gè)或幾個(gè)第二氣體進(jìn)入孔的環(huán)形構(gòu)件。該第一和第二孔通過(guò)環(huán)形構(gòu)件從外表面向里伸展并接近一個(gè)垂直于環(huán)形構(gòu)件軸線方向的平面。其外表面具有一條波浪形的O形環(huán)槽。該第一和第二孔相對(duì)于波浪形的O形槽被協(xié)調(diào)地配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在波浪形O形環(huán)槽的一邊，該第二孔被隔離在波浪形O形環(huán)槽的另一邊。
圖1是本發(fā)明的等離子體槍的部份軸向截面圖。
圖2是圖1所示的本發(fā)明的氣體分配環(huán)的軸向視圖。
圖3是圖2所示氣體分配環(huán)的軸向截面圖。
圖4是圖3所示沿4-4線作剖切的剖面圖。
圖5是圖2所示的氣體分配環(huán)的外圓周面的展開(kāi)圖。
如圖1描述了帶有本發(fā)明的氣體分配環(huán)12的一個(gè)典型的等離子體槍(例如Perkin-Elmer公司Metco部出售的9MB槍)的前端10。槍體14一般夾持著空心的銅圓柱形的陽(yáng)極噴咀構(gòu)件16，一個(gè)圓柱形的鎢陰極構(gòu)件18與之互相同軸，該噴咀和陰極成一定的空間關(guān)系以能在它們之間維持等離子體發(fā)生的電弧。該槍體包圍陰極18和陰極噴咀16，提供用于流體的通道和電氣接觸。噴咀16被夾持環(huán)20夾持在槍體14上。通過(guò)噴咀冷卻通道24冷卻介質(zhì)被輸入環(huán)形冷卻區(qū)22以冷卻噴咀，典型的冷卻介質(zhì)是水。一個(gè)相似的通道(未顯示)將冷卻液介質(zhì)導(dǎo)出。O形密封圈26和26′置于噴咀16和槍體14之間以防止冷卻介質(zhì)的泄漏。在操作時(shí)在陰極構(gòu)件18和噴咀構(gòu)件16間施加電壓以維持一個(gè)氣體流所引起的電弧，并使它沿噴咀孔道27向下延伸同時(shí)從該孔道里噴發(fā)出高溫和高速的等離子體焰。
在圖1所示的實(shí)施例中，陰極18被夾持螺母30夾持在陰極保持體29上，該陰極保持體同軸地安裝在陰極絕緣管28上，該絕緣管又同軸地安裝在槍體14上。本實(shí)施例的陰極絕緣管由剛性的塑料制成以保證陰極18和陽(yáng)極噴咀16之間的電氣絕緣。冷卻介質(zhì)通過(guò)管34的內(nèi)部通道32供應(yīng)給陰極而后又通過(guò)環(huán)形通道和通孔36回流出管外。內(nèi)部的O形密封圈38為陰極保持冷卻介質(zhì)。
氣體分配環(huán)12同軸地安裝在槍體14內(nèi)，它里面帶有一個(gè)環(huán)形的氣體進(jìn)入腔42，該腔貼近陰極，一般作為充氣用。氣體分配環(huán)12具有合適的長(zhǎng)度和結(jié)構(gòu)形狀以適于裝在槍體內(nèi)進(jìn)入腔42的外圓周上。在圖1所示的實(shí)施例中，該氣體分配環(huán)的后部具有肩62，該肩帶有小的凸緣64，其形狀正好嵌入進(jìn)陰極絕緣管28上的形狀相同的凹緣內(nèi)，這樣就如圖所示那樣將環(huán)保持在陰極保持件上。但是很明顯這種保持并非唯一的，其它已知的或需要的保持裝置也可以使用在不同類(lèi)型的槍上去。
圖2顯示了本發(fā)明的一種氣體分配環(huán)的具體形式。圖3顯示了該氣體分配環(huán)的軸向截面圖。圖4顯示了橫向剖面圖。圖3所示的環(huán)的軸向截面是和圖1所示的相同的但更為具體。圖4是在垂直于環(huán)軸線平面上所作的橫截面，顯示了本發(fā)明的環(huán)的具體形式，其中有二個(gè)氣體進(jìn)入孔44，44′徑向朝里通入環(huán)內(nèi)，以及另外二個(gè)氣體進(jìn)入孔46、46′帶有切向分量地朝里進(jìn)入環(huán)內(nèi)。以下更具體地?cái)⑹?，每一?4、44′、46、46′都貼近一假想的平面，該平面垂直于該環(huán)的軸線。
當(dāng)槍在工作時(shí)，當(dāng)該徑向氣流緊沿陰極構(gòu)件18流過(guò)和通過(guò)噴咀孔27時(shí)成為直線型的。同樣該切向進(jìn)入口提供一旋渦氣流當(dāng)它通過(guò)和流出槍時(shí)發(fā)展了一直線型的分量。假如同時(shí)使用徑向的和切向的進(jìn)入口，該氣流一般在充氣區(qū)域42內(nèi)混合和合成。
O形環(huán)槽48位于氣體分配環(huán)12的外表面并圍繞環(huán)的圓周。圖5是其外表面的展開(kāi)圖如圖5所示，該槽48在表面上大體上成波浪形的正弦曲線，O形環(huán)52嵌入此槽內(nèi)(圖1)隔離徑向孔44、44′在O形環(huán)的一邊，隔離切向孔46、46′在O形的另一邊。為以一種簡(jiǎn)單的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)此目的，即將兩個(gè)徑向孔44、44′和二個(gè)切向孔46、46′相等地弓形地隔開(kāi)在外表面50的各自的交替位置上(圖4)。
除了每一類(lèi)型二個(gè)孔外，任意合理數(shù)量的孔44、44′，46、46′能被結(jié)合起來(lái)。在某些情況下可能需要不等數(shù)量的徑向孔和切向孔，在這種情況下波浪形中的一個(gè)或幾個(gè)部位可不設(shè)孔。當(dāng)用波浪形O形環(huán)隔離每類(lèi)二孔是較為實(shí)用的，能提供一種分配很佳的氣流。
在一更為可取的具體形式中，結(jié)合圖2～5，一對(duì)波浪形的凸緣53、55被形成在外表面50上。這些凸緣是并列的，在它們之間共同組成了O形環(huán)槽48。該凸緣也提供了前部的氣體環(huán)槽54和后部的氣體環(huán)槽56(圖1)。這些環(huán)槽各自與在分配環(huán)12上的在O形環(huán)52兩邊的孔44、44′、46、46′相通而成為的所述孔的氣體導(dǎo)管。(在這里使用詞“向前”和詞自從那里導(dǎo)出或與之同義的或類(lèi)似的，是參照向等離子體焰從槍中發(fā)出來(lái)的末端而言的，同樣“向后”等指相反的位置)。這樣第一凸緣53為前面的氣體環(huán)槽54提供了后面的界限，同時(shí)第二凸緣55為后部的氣體環(huán)槽提供了前面的界限。
第一可調(diào)節(jié)氣源(圖1編號(hào)74所示示意方框)提供等離子體組成氣體例如氮?dú)怏w通過(guò)第一氣體管道76和第一氣閥78進(jìn)入槍體14內(nèi)的前氣環(huán)槽58，再由它導(dǎo)入前氣環(huán)槽54。
同樣第二可調(diào)節(jié)等離子體組成氣80，可以是第一種類(lèi)型的也可以是另一類(lèi)型象氬，通過(guò)第二氣體管道82和第二氣閥84和通過(guò)后氣體環(huán)槽60被導(dǎo)入后氣環(huán)槽56。
如前所述，在本實(shí)施例中分配環(huán)12被肩62和凸緣64保持在槍體14內(nèi)。氣體分配環(huán)的前向表面68緊貼槍體14的相應(yīng)表面，以及分配環(huán)的肩62壓住陰極保持體28。前向表面68和肩62的后部表面提供了安全的氣體密封，但作為一種變換形式，也可以用O形密封環(huán)(未顯示)。如圖3和圖5所示，在凸緣53上的扁平部份有助于使氣環(huán)槽54具有足夠的大小，以及防止氣體通道58的阻塞。該分配環(huán)可用耐高溫的塑料制造，例如Delrin，或是陶瓷，象可切削的氧化鋁。
在商業(yè)上實(shí)用的等離子體噴射槍的進(jìn)展中，陰極附近的氣體進(jìn)入腔42已變得相當(dāng)小。在小的區(qū)域里導(dǎo)通氣體，本發(fā)明的環(huán)12尤其有用，因?yàn)榭?4、44′、46、46′必須分布在一個(gè)垂直于該環(huán)和槍的軸線的平面上或接近該平面。換句話說(shuō)，這些孔的配置應(yīng)該是這樣，在外表面上的徑向孔44、44′的軸線基本上在一個(gè)和環(huán)的軸線垂直的平面上或與之相交，以及切向孔46、46′的軸線基本上在另一平面上或與之相交，該平面是平行于和鄰近于第一平面的。作為一條準(zhǔn)則，該二平面應(yīng)被分隔開(kāi)一段距離S(圖3)，該距離S應(yīng)小于徑向孔的平均直徑R和切向孔的平均直徑T之和(R+T)。但是如圖3所示對(duì)本發(fā)明的波浪形的O形環(huán)來(lái)說(shuō)平面間具有很小的間隔是很實(shí)用用。如下所述對(duì)同類(lèi)型的氣流而言，在兩組進(jìn)口同時(shí)使用時(shí)這種小的間隔尤為需要。
因?yàn)榭?4、44′、46、46′都接近于同一平面，總的來(lái)說(shuō)徑向孔44、44′位于波浪形O形環(huán)前面或后面是非本質(zhì)的。但是在平面有大間隔的地方，該技術(shù)領(lǐng)域：
的熟練人員能迅速地對(duì)兩種方法進(jìn)行試驗(yàn)，若需要的話，為電弧的穩(wěn)定、電壓或其它因素，建立較佳的位置，對(duì)實(shí)施例來(lái)說(shuō)，圖中顯示的徑向孔44、44′是在前部而切向孔46、46′是在后部的。
該O形槽48的波浪必須足夠大以適應(yīng)如圖5所示的非常接近于同一平面的孔44、44′、46、46′。槽中心線的相鄰峰頂和峰谷之間距離D大于槽的寬度W，最好大于波浪形的凸緣53、55對(duì)邊的跨越寬度W′。
這種被分別控制的氣源被引進(jìn)到分開(kāi)的孔組就能允許選擇徑向進(jìn)入以得到在槍內(nèi)的直線氣流或者選擇切向氣體進(jìn)入到陰極附近的環(huán)形氣進(jìn)入腔以得到旋渦流，而無(wú)需要換槍的零件或附件。這樣只要把氣閥78、84中之一接通而把另一只關(guān)閉來(lái)選擇相應(yīng)的氣源74和80，槍就能用氬等離子體氣(切向進(jìn)入)或氮?dú)?徑向進(jìn)入)來(lái)工作。
在本發(fā)明的氣體分配環(huán)的另一申請(qǐng)中同一類(lèi)型的氣體分別被調(diào)節(jié)進(jìn)入到兩組孔中的每一組，可以對(duì)槍內(nèi)的旋渦流作精細(xì)的調(diào)節(jié)，這種調(diào)節(jié)方式在同一申請(qǐng)日的另一專(zhuān)利申請(qǐng)中已經(jīng)敘述。特別是氮?dú)饪梢栽谶@種旋渦方式中使用。利用小心地選擇切向氣流對(duì)徑向氣流的比例能調(diào)整渦流以獲得最佳的電弧長(zhǎng)度和電壓，不用該渦流將電弧帶出噴咀就足以得到好的效率。當(dāng)?shù)獨(dú)庠诜峙洵h(huán)內(nèi)的徑向孔通過(guò)時(shí)該等離子體電弧能被引燃，然后切向氣流進(jìn)入以增加電壓。
在本發(fā)明的范圍內(nèi)的孔44、44′、46、46′還可選擇另一種結(jié)構(gòu)形狀。例如上述的徑向孔還可以有一個(gè)軸向引導(dǎo)氣體的，例如向前方向的分量。作為一種變換，該徑向孔也可有一些小于第二組孔的切向分量;或者一組孔可兼有向前和切向分量。也可能有這樣的需要，即在同一組里提供一個(gè)或幾個(gè)各別的孔對(duì)在一個(gè)組里的一個(gè)或幾個(gè)其它的孔具有不同的方向性。例如一個(gè)在波浪形O形圈前向的孔可以是純粹徑向的，而另一個(gè)可以有軸向的或切向的分量。更進(jìn)一步地說(shuō)在本發(fā)明的精神本質(zhì)內(nèi)，一組孔實(shí)質(zhì)上可以是徑向，而另一組向前傾斜而不帶切向分量。這樣，概括地講，一帶有波浪形O形環(huán)的氣體分配環(huán)對(duì)二個(gè)分隔開(kāi)的被控制的氣體進(jìn)入口提供了分開(kāi)的二組氣體孔。
孔數(shù)量的最大值僅被在O形環(huán)槽內(nèi)組成波浪形O形環(huán)的實(shí)際情況所決定。雖然O形環(huán)一詞通常是指具有圓形橫截面的正規(guī)的橡膠類(lèi)密封構(gòu)件，但這里使用這一詞應(yīng)理解為擴(kuò)大到包括具有任何其它的橫截面的密封圈，其截面還可以是橢圓、長(zhǎng)方形或L形。根據(jù)象操作溫度這樣的因素任意已知的或需要的O形環(huán)材料例如橡膠、硅樹(shù)脂、軟塑料或類(lèi)似物能被選擇使用。
以上，已根據(jù)具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了具體詳細(xì)的敘述，落入本發(fā)明的精神范圍內(nèi)和所附的權(quán)利要求
的范圍內(nèi)的各種變換和修正對(duì)該技術(shù)領(lǐng)域：
的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是明顯的。因此本發(fā)明僅被所附的權(quán)利要求
或它的等同物所限制。
權(quán)利要求
1.一個(gè)用于等離子體體槍的氣體分配環(huán)，包括一個(gè)具有圓柱形外表面和在那里有一個(gè)或幾個(gè)第一氣體進(jìn)入孔和一個(gè)或幾個(gè)第二氣體進(jìn)入孔的環(huán)形構(gòu)件，該第一和第二孔從外表面向里通過(guò)該環(huán)形構(gòu)件接近一個(gè)垂直地取向于環(huán)形構(gòu)件軸的平面，在該外表面有一波浪形的O形環(huán)槽，該第一和第二孔相對(duì)于波浪形的O形環(huán)被協(xié)調(diào)地配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在波浪形的O形環(huán)槽的一邊，而該第二孔被隔離波浪形O形密封環(huán)的另一邊。
2.如權(quán)利要求
1所述的氣體分配環(huán)，其特征在于在環(huán)形構(gòu)件的外表面該第一孔的軸線與垂直取向于環(huán)形構(gòu)件軸線的第一平面接觸，以及該第二孔的軸線和與該第一平面平行和接近的第二平面接觸。
3.如權(quán)利要求
1所述的氣體分配環(huán)，其特征在于至少一個(gè)第二孔具有切向分量以在等離子體噴射槍內(nèi)提供旋渦氣流。
4.如權(quán)利要求
3所述的氣體分配環(huán)，其特征在于每一個(gè)第一孔相對(duì)于環(huán)形構(gòu)件的軸實(shí)際上是徑向的。
5.如權(quán)利要求
1所述的氣體分配環(huán)，其特征在于環(huán)形構(gòu)件有二個(gè)第一孔和二個(gè)第二孔在環(huán)形制構(gòu)件的外表面上被弓形地相等地隔開(kāi)，該第一和第二孔是處在可替換在各自的位置上。
6.如權(quán)利要求
2所述的氣體分配環(huán)，其特征在于該O形環(huán)槽的波浪形是這樣的，O形環(huán)槽中心線的相鄰峰頂和峰谷之間的距離D大于O形環(huán)槽的寬度W。
7.如權(quán)利要求
1所述的氣體分配環(huán)，其特征在于該環(huán)形構(gòu)件的外表面包括一個(gè)第一波浪形凸緣和一第二波浪形凸緣與第一波浪形凸緣成并列以在它們之間組成該波浪形O形環(huán)槽，該第一和第二孔相對(duì)于第一和第二波浪形凸緣被配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的一邊而該第二孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的另一邊。
8.一用于等離子體槍的氣體分配環(huán)，包括一個(gè)具有圓周的外表面的環(huán)形構(gòu)件，該環(huán)形放件具有二個(gè)從外表面通過(guò)環(huán)形構(gòu)件徑向地向里延伸的第一進(jìn)入孔，該第一孔在外表面處接觸垂直取向于環(huán)形構(gòu)件軸線的第一平面，以及具有二個(gè)從外表面通過(guò)環(huán)形構(gòu)件帶有切向分量地向里延伸的第二進(jìn)入孔，以及在外表面處與平行并接近于第一平面的第二平面相接觸，該二個(gè)第一孔和二個(gè)第二孔在外表面上被相等地弓形地分隔開(kāi)在替換的各自位置上，該外表面包括一個(gè)第一波浪形凸緣和一個(gè)與該第一波浪形凸緣成并列的第二波浪凸緣，以及在它們之間組成O形環(huán)槽，該第一和第二孔相對(duì)于該第一和第二波浪形凸緣被協(xié)調(diào)地配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的一邊而第二孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的另一邊。
9.一個(gè)等離子體槍包括一個(gè)圓柱形的陰極構(gòu)件，一與空心的圓柱形陽(yáng)極噴咀構(gòu)件，一個(gè)同軸地保持該陰極構(gòu)件和噴咀構(gòu)件在運(yùn)行時(shí)成分隔開(kāi)的關(guān)系以便在它們之間維持等離子體引燃電弧的槍體，一個(gè)氣體分配環(huán)和一波浪形的O形環(huán)，該槍體具有一個(gè)環(huán)繞陰極構(gòu)件的環(huán)形的氣體進(jìn)入腔，該氣體分配環(huán)位于進(jìn)入腔內(nèi)，并包括一個(gè)具有圓柱形外表面的環(huán)形構(gòu)件以及在那里有一個(gè)或數(shù)個(gè)第一氣體進(jìn)入孔和一個(gè)或數(shù)個(gè)第二氣體進(jìn)入孔，該第一孔和第二孔通過(guò)環(huán)形構(gòu)件從外表面向里伸展接近一個(gè)垂直取向于環(huán)形構(gòu)件軸線的平面，該外表面具有一波浪形的O形環(huán)槽，在此槽里具有與槍體密封接觸的波浪形環(huán)，該第一和第二孔共同地相對(duì)于該波浪形O形環(huán)被協(xié)調(diào)地配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在波浪形O形環(huán)的一邊而該第二孔被隔離在波浪形O形環(huán)的另一邊。
10.如權(quán)利要求
9所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谠谠摥h(huán)形構(gòu)件的外表面上，該第一孔的軸線與垂直取向于環(huán)形構(gòu)件軸線的第一平面相接觸，以及該第二孔的軸線與同第一平面平行并接近的第二平面相接觸。
11.如權(quán)利要求
9所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谥辽僖粋€(gè)第二孔帶有切向分量以在等離子體噴射槍內(nèi)提供旋蝸氣流。
12.如權(quán)利要求
9所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谥辽僖粋€(gè)第一孔帶有平行于環(huán)形構(gòu)件軸線的定向分量。
13.如權(quán)利要求
11所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟诿恳粋€(gè)第一孔相對(duì)于環(huán)形構(gòu)件的軸線實(shí)際上是徑向的。
14.如權(quán)利要求
9所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谠摥h(huán)形構(gòu)件具有二個(gè)第一孔和二個(gè)第二孔在環(huán)形構(gòu)件的外表面上圓周相等地分隔開(kāi)，該第一和第二孔處在可替換的各自位置上。
15.如權(quán)利要求
10所述的氣體分配環(huán)，其特征在于該O形環(huán)槽的波浪形是這樣的，使得在O形環(huán)槽中心線的相鄰峰頂?shù)椒骞戎g的距離D大于O形環(huán)槽的寬度W。
16.如權(quán)利要求
9所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谠摌岓w與環(huán)形構(gòu)件的外表面共同組成一個(gè)和第一孔相連通的前向氣體環(huán)狀空間和與第二孔相連通的后部氣體環(huán)狀空間，該波浪形的O形環(huán)在前向氣體環(huán)狀空間和后部氣體環(huán)狀空間之間提供密封。
17.如權(quán)利要求
16所述的等離子體槍?zhuān)涮卣髟谟谠摥h(huán)件的外表面包括一個(gè)第一波浪形凸緣和一第二波浪形凸緣與第一波浪形凸緣共同并列以在它們之間形成波浪形環(huán)槽，該第一孔和第二孔相對(duì)于第一和第二波浪形凸緣被配置在外表面上，這樣該第一孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的一邊而該第二孔被隔離在第一和第二波浪形凸緣的另一邊。
專(zhuān)利摘要
一個(gè)等離子槍所用的氣體分配環(huán)包括一個(gè)具有通過(guò)環(huán)形構(gòu)件從外表面向里伸展的二組氣體進(jìn)入孔的環(huán)形構(gòu)件。該外表面有一條置放O形環(huán)的波浪形槽，這樣一組孔被隔離在O形環(huán)的一邊而另一組孔被隔離在O形環(huán)的另一邊。在最佳實(shí)施例中一組孔相對(duì)于環(huán)的軸線是徑向的，而在波浪形O形環(huán)的另一方面的孔具有切向分量，以在槍的電弧區(qū)內(nèi)提供旋渦氣流。配置在等離子體噴槍內(nèi)的氣體分配環(huán)對(duì)在槍的電弧區(qū)內(nèi)的徑向和旋渦氣流之間提供了一種簡(jiǎn)單的選擇，而不需要更換槍。
文檔編號(hào)H05H1/26GK87103361SQ87103361
公開(kāi)日1988年6月29日 申請(qǐng)日期1987年5月5日
發(fā)明者土尼爾·亞可夫維秋, 安東尼J·羅托利可 申請(qǐng)人:珀金-埃爾默公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan