構(gòu)件1300上。彈簧圍繞桿部地被裝填在氣缸部和基底構(gòu)件1300之間?；讟?gòu)件1300在相對(duì)于基底構(gòu)件1320接近或離開的方向(Y方向)僅可位移桿部的相對(duì)于氣缸部的進(jìn)退量。此結(jié)果，在保持罩51時(shí)，罩保持單元130，在相對(duì)于載體5接近或離開的方向能相對(duì)于支承單元132位移。彈簧在基底構(gòu)件1300和基底構(gòu)件1320離開的方向?qū)λ鼈冞M(jìn)行加載。
[0068]支承部1323，一端側(cè)與基底構(gòu)件1320連接，另一端側(cè)通過在基底構(gòu)件1300上形成的開口部1300a，與基底構(gòu)件1310連接，支承(吊設(shè))基板保持單元131。在本實(shí)施方式的情況下，支承部1323在X方向分離地設(shè)置了 2個(gè)。支承部1323是支柱狀的構(gòu)件，在其前端部固定基底構(gòu)件1310。與罩保持單元130不同，基板保持單元131相對(duì)于支承單元132不能位移地被支承?；讟?gòu)件1310及1320都被維持成水平姿勢(shì)，基底構(gòu)件1300雖然因支承部1322的伸縮而有一些傾斜，但是基本上被維持成水平姿勢(shì)。
[0069]<控制單元>
[0070]圖7是移載系統(tǒng)I的控制單元6的框圖?？刂茊卧?進(jìn)行移載系統(tǒng)I整體的控制。
[0071]控制單元6，包含CPU等的處理部61、RAM和ROM等存儲(chǔ)部62、連接外部裝置和處理部61的接口部63。在接口部63，除了 I/O接口之外也包含進(jìn)行與主計(jì)算機(jī)的通信的通信接口。主計(jì)算機(jī)，例如，是控制基板處理設(shè)備A整體的計(jì)算機(jī)。
[0072]處理部61執(zhí)行被存儲(chǔ)在存儲(chǔ)部62中的程序，控制各種傳感器65的檢測(cè)結(jié)果、各種動(dòng)作執(zhí)行器64。在各種傳感器65中，例如，包含檢測(cè)升降體144的位置的傳感器等。在各種動(dòng)作執(zhí)行器64中，例如，包含輸送裝置10、載體處理裝置11、輸送裝置12及移動(dòng)裝置14的各驅(qū)動(dòng)源、進(jìn)行保持裝置13中的負(fù)壓吸引的泵、控制閥等。
[0073]〈控制例〉
[0074]參照?qǐng)D8A?圖13B對(duì)移載系統(tǒng)I的控制例進(jìn)行說明。在此，對(duì)基板W的移載動(dòng)作進(jìn)行說明。具體地講，對(duì)從保持向輸送裝置10上輸入了的基板W的載體5取出基板W，將該基板W向移載目的地移載的例子進(jìn)行說明。在此例子中，基板W的移載目的地是輸送裝置
12ο
[0075]圖8Α表示從處理裝置3供給的保持基板W的載體5向輸送裝置10上的規(guī)定位置輸入的狀態(tài)。首先，如該圖所示，由移動(dòng)裝置14將保持裝置13向載體5的上方移動(dòng)，并且由轉(zhuǎn)動(dòng)單元143調(diào)節(jié)保持裝置13的在水平面中的旋轉(zhuǎn)角度。接著，如圖SB所示，由移動(dòng)裝置14使保持裝置13降下，由保持裝置13保持載體5。這時(shí)，首先，在保持裝置13的降下的過程中罩保持單元130的定位構(gòu)件1303被插入載置部50的孔50a及罩51的孔51c內(nèi)進(jìn)行卡合。由此，進(jìn)行保持裝置13和載體5的水平方向的定位。接著，開始罩保持單元130的吸附部1301的吸引，吸附保持罩51。這時(shí)，由罩規(guī)定構(gòu)件1302規(guī)定保持位置。由于罩51和載置部50由磁力連結(jié)，所以通過吸附保持罩51，包含基板W在內(nèi)的載體5整體被保持在保持裝置13上。
[0076]接著，如圖9A所示，將保持了載體5的保持裝置13由移動(dòng)裝置14向載體處理裝置11上移動(dòng)，并且由轉(zhuǎn)動(dòng)單元143調(diào)節(jié)保持裝置13的在水平面中的旋轉(zhuǎn)角度。接著，如圖9B所示，由移動(dòng)裝置14使保持裝置13降下，將載體5載置在定位單元110的載置銷1101上。進(jìn)而，對(duì)動(dòng)作執(zhí)行器1102進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，使定位構(gòu)件1103與載置部50抵接，定位地保持載置部50。因?yàn)樵谡?1上形成了切口 51a，所以在定位構(gòu)件1103與載置部50抵接時(shí)，罩51和定位構(gòu)件1103不會(huì)干涉。
[0077]接著，如圖1OA所示，對(duì)分離單元111的驅(qū)動(dòng)單元1110進(jìn)行驅(qū)動(dòng)，使銷支承工作臺(tái)1113上升。由此，如圖1OB所示，銷1114從載置部50突出地頂起罩51，使罩51從載置部50向上方分尚。S卩，載置部50和罩51的連結(jié)被解除，罩51被擺正在僅尚開載置部50規(guī)定的距離的位置。因?yàn)檎直３謫卧?30由支承部1322相對(duì)于支承單元132可位移地支承，所以在罩51被頂起時(shí)，罩保持單元130也與罩51 —起上升。
[0078]接著，開始基板保持單元131的吸附部1311的吸引。因?yàn)樵谡?1上形成了開口部51b，所以經(jīng)開口部51b，基板W之中沒有與罩51重疊的部分被吸附保持在吸附部1311。這時(shí)，基板W的位置由基板規(guī)定構(gòu)件1312規(guī)定。而且，成為罩51被吸附保持在罩保持單元130上，基板W被吸附保持在基板保持單元131上的狀態(tài)。另外，在本實(shí)施方式中，在解除了罩51和載置部50的連結(jié)之后開始了基板W的吸附，但也可以在罩51和載置部50的連結(jié)解除前開始基板W的吸附。
[0079]接著，如圖1lA所示，使保持裝置13由移動(dòng)裝置14上升。此時(shí)，載置部50殘留在載體處理裝置11上，罩51和基板W與保持裝置13 —起上升。罩51和基板W都以水平姿勢(shì)被保持成相互平行。
[0080]通過銷1114的相對(duì)于罩51的頂起，相對(duì)于支承單元132向上方位移了的罩保持單元130，僅按照其位移量返回(降下)起始地的位置。
[0081]接著，如圖1lB所示，將保持了罩51和基板W的保持裝置13由移動(dòng)裝置14向輸送裝置12上移動(dòng)，并且由轉(zhuǎn)動(dòng)單元143調(diào)節(jié)保持裝置13的在水平面中的旋轉(zhuǎn)角度。接著，如圖12所示，將保持裝置13降下到輸送裝置12上。
[0082]在輸送裝置12的上部，如圖13A所示，在與基板W不干涉的位置形成了突起部120。當(dāng)將保持裝置13降下到輸送裝置12上時(shí)，此突起部120與罩51抵接，使罩51的降下與基板W相比先停止。即，如果突起部120與罩51的下面抵接，則罩保持單元130變得不能進(jìn)一步降下。因?yàn)檎直３謫卧?30由支承部1322相對(duì)于支承單元132可位移地支承，所以如果繼續(xù)保持裝置13的降下，則基板保持單元131與罩保持單元130相比降下，成為基板W從罩51離開的狀態(tài)。
[0083]通過使保持裝置13的降下在規(guī)定位置停止，并停止吸附部1311的吸引而進(jìn)行大氣開放，基板W的吸附被解除，被載置在輸送裝置12上。通過以上的動(dòng)作，基板W的向輸送裝置12的移載結(jié)束。
[0084]然后，將罩51重疊在移載起始地的定位單元110上的載置部50上而做成空的載體5，進(jìn)行將此空的載體5向輸送裝置10移載的動(dòng)作。首先，使僅保持了罩51的保持裝置13如圖13B所示，向載體處理裝置11上移動(dòng)，并且由轉(zhuǎn)動(dòng)單元143調(diào)節(jié)保持裝置13的在水平面中的旋轉(zhuǎn)角度，向移載起始地的載置部50移動(dòng)，使罩51和載置部50連結(jié)。另外，銷支承工作臺(tái)1113，以與分離動(dòng)作相反的動(dòng)作進(jìn)行動(dòng)作，使銷1114向退避位置移動(dòng)。
[0085]通過將罩51與載置部50重疊，兩者由磁力連結(jié)。由此，成為沒有保持基板W的空的載體5。對(duì)動(dòng)作執(zhí)行器1102進(jìn)行驅(qū)動(dòng)而使定位構(gòu)件1103離開載置部50，解除載置部50的保持。
[0086]將保持了空的載體5的保持裝置13由移動(dòng)裝置14向輸送裝置10上移動(dòng)，并且由轉(zhuǎn)動(dòng)單元143調(diào)節(jié)保持裝置13的在水平面中的旋轉(zhuǎn)角度。接著，停止罩保持單元130的吸附部1301的吸引而進(jìn)行大氣開放。由此，空的載體5的保持被解除，空的載體5被向輸送裝置10移載?？盏妮d體5由輸送裝置10向容納裝置2輸出，保持了基板W的新的載體5被從處理裝置3向輸送裝置10輸入。
[0087]另外，被載置在了輸送裝置12上的基板W，由輸送裝置12向處理裝置4移送，由處理裝置4進(jìn)行處理。
[0088]如上述的那樣，在本實(shí)施方式中，在從載體處理單元11向輸送裝置12移載基板W時(shí)，由于由保持裝置13保持罩51和基板W的雙方地輸送，所以與分別移動(dòng)罩51和基板W的方式相比，能減少移載的工序數(shù)量，提高基板W的移載效率。罩51和基板W，以各自的面彼此相互平行的姿勢(shì)相鄰地被保持，保持載體5中的這些位置關(guān)系不變地被移動(dòng)。因此，不需要罩51的倒手等，除了基板W的移載效率提高以外，也能提高將罩51返回到載置部50上時(shí)的效率。
[0089]<第二實(shí)施方式>
[0090]在第一實(shí)施方式中，通過由基板保持單元131的吸附部1311進(jìn)行的負(fù)壓吸引，與基板W接觸吸附地保持了基板W，但也可以做成由伯努利吸盤方式進(jìn)行的非接觸吸附。
[0091]圖14是本實(shí)施方式的保持裝置13的局部分解圖，圖15A及圖15B是基板保持單元133的概要圖。保持裝置13，具備罩保持單元130、基板保持單元133和對(duì)它們進(jìn)行支承的支承單元132。罩保持單元130和支承單元132的結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式相同。
[0092]基板保持單元133是解除自由地保持基板W的單元?；灞３謫卧?33，具備基底構(gòu)件1330、吸附部1331和限制單元1332。在基底構(gòu)件1330上，形成了固定支承單元132的支承部1323的安裝孔1330a (在本實(shí)施方式中圖示2個(gè))。另外，基底構(gòu)件1330，被形成為避免與定位單元I1的定位構(gòu)件1103的干涉。
[0093]吸附部1331，設(shè)置在基底構(gòu)件1330的下面的凹部。在本實(shí)施方式中，在基板的長度方向空開間隔地設(shè)置了 3個(gè)吸附部。吸附部1331被構(gòu)成為經(jīng)設(shè)置在基底構(gòu)件1330的內(nèi)部的通路與未圖示的流體發(fā)生源連接，噴出空氣。從吸附部1331噴出的空氣從基底構(gòu)件1330的下面和基板W的間隙向外部周圍流動(dòng)，因?yàn)槲讲?331和基板W的間隙的氣壓變得比大氣壓低，所以以非接觸方式吸附基板W