聚合物和導(dǎo)電光透射材料（例如，碳納米管）。在運一點上， 陽極可W是通過瓣鍛、真空沉積或涂層形成在基底1上提供的光擴散層2的表面上的薄膜。 注意，陽極的片電阻優(yōu)選等于或小于幾百Q(mào)/□，并且更優(yōu)選地等于或小于IOOQ/□。另 夕F，陽極的厚度可W等于或小于500nm，并且可W優(yōu)選在IOnm至200nm的范圍內(nèi)。透光率趨 向于隨著陽極的厚度的減小而增大，但是片電阻趨向于隨著厚度的減小而增大。當增大有 機化元件的尺寸時，可能要求高電壓，并且亮度均勻性可能變差（由電壓下降造成的電流 密度分布的不均勻性引起）。為了避免該權(quán)衡，一般地在光透射陽極上形成由金屬制成的 輔助電極（網(wǎng)格）是有效的。優(yōu)選地，材料的導(dǎo)電率是極好的，并且可W從諸如Ag、Cu、Au、 A1、化、Ru、Ni、Mo、Cr和Pd的金屬和諸如MoAlMo、AlMo和A評dCu的運些金屬的合金中選 擇。在運種情況下，為了防止運樣的金屬網(wǎng)格用作遮光構(gòu)件，網(wǎng)格部分的表面可W更優(yōu)選地 經(jīng)受絕緣處置，W便阻擋電流從網(wǎng)格部分流到陰極。另外，為了使由網(wǎng)格吸收擴散光的影響 最小化，優(yōu)選用于網(wǎng)格的金屬盡可能具有高反射率。 陽221] 當通過使用ITO形成陽極時，可W優(yōu)選在等于或大于150°C的溫度形成口 0的薄 膜，運引起口 0的晶化。備選地，ITO的薄膜可W優(yōu)選在低溫度形成，并且然后經(jīng)受退火（等 于或大于150°C)。晶化引起導(dǎo)電率的增大，并且因此可W緩解前述權(quán)衡狀況。結(jié)構(gòu)變得密 集，并且因此能夠期望抑制除氣（例如，水蒸氣）到達有機化層的影響，運在光擴散層2由 樹脂制成時發(fā)生。 陽222] 用于制造空穴注入層的材料的范例包括：空穴注入有機材料和金屬氧化物；W及 用作受體材料的有機材料和無機材料；W及P滲雜層?？昭ㄗ⑷胗袡C材料是具有空穴傳輸 特性、5.OeV至6.OeV的功作用和強烈遵守陽極的材料，并且例如是化化、亮光胺等。例如， 空穴注入金屬氧化物是包括鋼、鍊、鶴、饑、鋒、銅、錫、嫁、鐵和侶中的任意的金屬氧化物。不 僅僅單一金屬的氧化物，其可W是包括W下集合中的任意的復(fù)合金屬氧化物，所述集合包 括銅和錫的集合、銅和鋒的集合、侶和嫁的集合、嫁和鋒的集合W及鐵和妮的集合。由運些 材料制成的空穴注入層可W通過諸如汽相沉積、轉(zhuǎn)移方法的干燥處理形成，或可W通過諸 如旋轉(zhuǎn)涂層、噴霧涂層、染料涂層或凹版印刷的濕處理形成。 陽223]用于制造空穴傳輸層的材料能夠從具有空穴傳輸能力的化合物的組中選擇。具有 空穴傳輸能力的化合物的范例包括芳基胺化合物（例如，4,4'-二[N-(糞基）-N-苯基-氨 基]聯(lián)苯（a-NPD)、N，N'-二（3-甲苯基）-(1，1'-聯(lián)苯）-4,4'-二胺燈口0)、2-1臟1八、4， 4'，4"-S徑甲基氨基甲燒（N-(3-甲苯基）N-苯胺基）S苯胺（MTDATA)、4,4' -N，N' -二巧 挫聯(lián)苯（CB巧、螺型-NPD、螺型-TPD、螺型-TAD和TNB)、包含巧挫組的胺類化合物和包含巧 類衍生物的胺類化合物。然而，一般已知的任意空穴傳輸材料是可用的。 陽224]發(fā)光層E可W由被稱為用于有機化元件的材料的合適的材料制成。發(fā)光層E的 材料的范例包括蔥、糞、巧、下省、暈苯、巧、獻巧、糞巧、二苯基下二締、四苯基下二締、香豆 靈、惡二挫、二苯基惡挫嘟、苯乙締、環(huán)戊二締、哇嘟-金屬復(fù)合物、S(8-徑基哇嘟）侶復(fù)合 物、S(4-甲基-8-哇嘟）侶復(fù)合物、S(5-苯基-8-哇嘟）侶復(fù)合物、氨基哇嘟-金屬復(fù) 合物、苯并哇嘟-金屬復(fù)合物、S-(P-S聯(lián)苯-4-yl)胺、1-芳基-2, 5-二（2-嚷吩基）化 咯衍生物、化喃、哇日丫晚酬、紅巧締、均二苯乙締衍生物、聯(lián)苯乙締衍生物、聯(lián)苯胺衍生物、各 種巧光顏料、包含W上材料中的一個或多個的其他材料W及其衍生物，但不限于前述范例。 另外，也優(yōu)選混合從W上化合物中選擇的發(fā)光材料。除了通過前述化合物表示的引起巧光 的化合物之外，可W使用歸因于旋轉(zhuǎn)多重態(tài)提供發(fā)光材料，例如引起憐光的憐光材料和在 分子中包含其部分的化合物。注意，W上材料的發(fā)光層E可W通過諸如汽相沉積方法和轉(zhuǎn) 移方法的干燥處理，或通過諸如旋轉(zhuǎn)凸起方法、噴霧涂層方法、染料涂層方法和凹版印刷方 法的濕處理形成。
[0225]夾層6可W由能夠?qū)㈦姾商峁┑綄?yīng)發(fā)光單元的材料制成。為了允許光露出，夾 層6優(yōu)選是透光的。例如，夾層6可W是金屬薄膜。夾層6的材料可W由銀和侶例示。備 選地，夾層6可W由有機材料制成。 陽226]用于電子傳輸層的材料能夠從具有電子傳輸能力的化合物的組中選擇。具有電子 傳輸能力的化合物的范例包括被稱為可傳輸電子的材料的金屬復(fù)合物（例如，Alqs)和雜環(huán) 化合物（例如，菲咯嘟衍生物、化晚衍生物、四嗦衍生物和惡二挫衍生物）。然而，能夠使用 一般已知的任意電子傳輸材料。 陽227]用于電子注入層的材料從W下范例中任意地選擇。用于電子注入層的材料的范 例包括：諸如金屬氣化物的金屬面化物（例如，氣化裡和氣化儀）和金屬氯化物（例如，氯 化鋼和氯化儀）；W及金屬氧化物；W及金屬氮化物；W及金屬碳化物；W及金屬氮氧化物； W及碳化合物；W及娃化合物（例如，Si化和SiO)。金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物和 金屬氮氧化物的金屬的范例包括侶、鉆、錯、鐵、饑、妮、銘、粗、鶴、儘、鋼、釘、鐵、儀、銅、嫁、 鋒和娃。金屬氧化物、金屬氮化物、金屬碳化物和金屬氮氧化物的更具體的范例包括用作絕 緣體的化合物，諸如氧化侶、氧化儀、氧化鐵、氮化侶、氮化娃、碳化娃、氧氮化娃和氮化棚。 運些材料能夠通過真空汽相沉積、瓣鍛等被形成為薄膜。
[022引陰極是用于將電子注入發(fā)光層的電極。陰極可W優(yōu)選地由具有小功作用的諸如金 屬、合金、導(dǎo)電化合物和其混合的電極材料制成。另外，為了避免在陰極的材料的功作用和 LUMO(最低未占有分子軌道）水平之間的差變得過大的情形，陰極的材料的功作用優(yōu)選地 等于或大于1. 9eV并且等于或小于5eV。陰極的電極材料可W從侶、銀、儀和運些金屬中的 一個或多個的合金W及其他金屬（例如，儀和銀的隸齊、儀和銅的隸齊和侶和裡的合金）中 選擇。備選地，陰極的電極材料可W從金屬、金屬氧化物和運些中的一個或多個的混合物W 及其他金屬的導(dǎo)電材料中選擇。例如，陰極可W是氧化侶的超薄膜（厚度等于或小于1皿 的薄膜，其允許歸因于隧道注入的電子流）和侶的薄膜的堆疊薄膜。
[0229]在有機化元件中，發(fā)光堆疊優(yōu)選被封閉材料密封地封閉。有機化層是弱水的。因 此，為了避免有機化層和空氣相接觸，通過在露點控制的手套箱（例如，露點被保持等于或 小于-70°C)內(nèi)部使用玻璃瓶蓋來封閉基底1的有機化層側(cè)。在運一點上，當在外殼內(nèi)部 包括干燥劑等時，能夠更多地延長保存壽命。 陽230] 光外禪合層7可W被提供到基底1的與光擴散層2相反的側(cè)面。通過運樣做，能 夠抑制在基底和大氣之間的交界面處的全反射損失。光外禪合層7可W是要用粘合劑粘上 的擴散膜、棱鏡片、微透鏡片等。備選地，光外禪合層7可W是通過諸如在基底1上爆破和 蝕刻的直接處理獲得的光學(xué)擴散結(jié)構(gòu)（例如，細凹和凸起）。 陽231][光擴散層] 陽232]在有機化元件中，光擴散層2被提供W抑制在有機層和基底之間的交界面處的全 反射，并且因此能夠增加露出到外部的光的量。因此，通過優(yōu)化光擴散層2,能夠更多地改進 光外禪合效率。光擴散層2由透明材料制成。 陽233] 在下文中，描述光擴散層2的優(yōu)選范例。 陽234] 光擴散層2優(yōu)選包括第一透明材料層21和第二透明材料層22,第一透明材料層21和第二透明材料層22W從基底1的順序被布置。在運種情況下，能夠容易地在運兩個層 之間的交界面處形成不平坦結(jié)構(gòu)20。優(yōu)選地，第二透明材料層22的折射率比基底1的折射 率高。在運種情況下，減小了折射率的差，并且因此能夠更多地改進光外禪合效率。優(yōu)選在 第一透明材料層21和第二透明材料層22之間的交界面處形成不平坦結(jié)構(gòu)20。當使用具有 在其交界面處具有不平坦結(jié)構(gòu)20多個層的光擴散層2時，通過不平坦結(jié)構(gòu)20使光擴散，并 且因此能夠更多地改進光外禪合效率。 陽235]另外，當光擴散層2由兩個透明材料層21和22構(gòu)成時，第二透明材料層22用作 覆蓋層，并且因此提供在不平坦結(jié)構(gòu)20W上的扁平表面。因此，能夠穩(wěn)定地形成發(fā)光堆疊。 因此，能夠抑制由凹下和凸起引起的斷開和短路。另外，在提供了覆蓋層的情況下，甚至當 提供了相對較高（深）的不平坦結(jié)構(gòu)時，能夠精細地形成發(fā)光堆疊。如上所述，第二透明材 料層22能夠用作扁平化層，并且因此優(yōu)選提供第二透明材料層22。另外，透明材料層21和 22是透明的并且因此是透光的，并且因此光能夠有效地露出。 陽236]關(guān)于第二透明材料層22,可見波長范圍的折射率叫優(yōu)選等于或大于1. 75。在運 種情況下，更多地減小了折射率的差，并且因此在角度的寬范圍內(nèi)能夠抑制全反射損失。因 此，能夠增加露出光的量。例如，基底1的折射率rib在1. 3至1. 55的范圍內(nèi)。也優(yōu)選第二 透明材料層22的折射率riH等于或大于有機化層的折射率（平均折射率）。例如，有機化 層的平均折射率在1.6至1.9的范圍內(nèi)。該平均折射率可W在可見波長范圍內(nèi)。對于折射 率叫沒有上限，但是例如上限可W是2. 2,并且尤其是2. 0。另外，優(yōu)選減小在第二透明材 料層22和光透射電極3之間的折射率的差，光透射電極3是鄰近第二透明材料層22的層。 例如，運樣的折射率的差可W等于或小于1. 0。 陽237] 關(guān)于第一透明材料層21，可見波長范圍的折射率化優(yōu)選在1. 3至1. 5的范圍。在 運種情況下，能夠增加露出光的量。在第一透明材料層21和基底1的折射率之間的差優(yōu)選 更小。例如，折射率之間的該差可W等于或小于1. 0。另外，也優(yōu)選第一透明材料層21的折 射率nj氏于基底1的折射率。在運種情況下，能夠抑制在第一透明材料層21和基底1之間 的交界面處的全反射。注意，當提供了光擴散層2時，歸因于光的擴散，允許光露出。因此， 第一透明材料層21的折射率可W高于基底1的折射率。
[0238] 基底1和第一透明材料層21優(yōu)選具有更低的折射率（其下線是1，等于大氣）。當 折射率變得接近1時，在基底1和大氣之間的交界面處的全反射更不可能發(fā)生。因此，甚至 當不提供光外禪合層7時，允許光露出。因此，能夠更加簡化所述結(jié)構(gòu)。第一透明材料層21 優(yōu)選具有更高的透光率。例如，第一透明材料層21的透光率可W允許80%的可見光透射， 并且優(yōu)選地可W允許90%的可見光透射。
[0239] 在光擴散層2中，例如，第一透明材料層21可W用作具有相對較低折射率的層，并 且第二透明材料層22可W用作具有相對較高折射率的層。更優(yōu)選地，第一透明材料層21 的可見波長范圍的折射率化在1. 3至1. 5的范圍內(nèi)，并且第二透明材料層22的可見波長 范圍的折射率叫優(yōu)選等于或大于1. 75。
[0240] 光擴散層2 (第一透明材料層21和第二透明材料層22)優(yōu)選由樹脂制成。在運種 情況下，能夠容易地調(diào)節(jié)折射率，并且能夠促進凸起和凹下的形成W及凸起和凹下的扁平 化。當層由樹脂材料制成時，所述層能夠具有相對較高的折射率。另外，運樣的層能夠通過 應(yīng)用樹脂形成，并且樹脂的部分被允許伸入到凹下中，W及由此能夠容易地形成具有扁平 表面的層。 陽241] 第一透明材料層21可W由諸如丙締酸樹脂和環(huán)氧樹脂的有機樹脂制成。額外地， 可W將用于固化樹脂的添加劑（例如，固化劑、固化促進劑和固化引發(fā)劑）添加到樹脂。另 夕F，第一透明材料層21的材料的消光系數(shù)k優(yōu)選盡可能小，并且理想地更優(yōu)選地等于零 (或太小W至于不能測量的值）。因此，優(yōu)選地，第一透明材料層21的消光系數(shù)k關(guān)于整個 可見波長范圍等于零。然而，根據(jù)由該材料制成的層的厚度，可W設(shè)置消光系數(shù)的可允許范 圍。注意，除了樹脂之外的材料可W包括無機材料。例如，第一透明材料層21可W由旋涂 式玻璃制成。 陽242]第二透明材料層22可W由諸如Ti〇2的高折射納米粒子被分散到其中的樹脂制 成。樹脂可W是諸如丙締酸樹脂和環(huán)氧樹脂的有機樹脂。額外地，可W將用于固化樹脂的添 加劑（例如，固化劑、固化促進劑和固化引發(fā)劑）添加到樹脂。另外，第二透明材料層22的 材料的消光系數(shù)k優(yōu)選盡可能小，并且理想地更優(yōu)選地等于零（或太小W至于不能測量的 值）。注意，除了樹脂之外的材料可W包括由SiN制成的無機膜和無機氧化物（例如，Si〇2) 膜。
[0243] 由第二透明材料層22提供的表面（第二透明材料層22的面向光透射電極3的表 面）優(yōu)選是扁平的。在運種情況下，能夠抑制由凹下和凸起引起的短路和堆疊失敗，并且能 夠成功地提供發(fā)光堆疊。
[0244] 注意，如果甚至當不提供第二透明材料層22時，發(fā)光特性等是足夠的，可W省略 第二透明材料層22。當不提供第二透明材料層22時，能夠減少層的數(shù)量，并且因此能夠更 容易地生產(chǎn)所述元件。例如，如果第一透明材料層21具有在其凸起和凹下之間的水平差到 水平差不影響膜在第一透明材料層21W上形成的程度，可W省略第二透明材料層22。甚至 當不提供第二透明材料層22時，通過由不平坦結(jié)構(gòu)20構(gòu)成的光擴散層2能夠改進光外禪 合效率。然而，為了抑制短路和斷開，如上所述優(yōu)選形成第二透明材料層22。
[0245] 第一透明材料層21和第二透明材料層22能夠通過應(yīng)用其材料被提供到基底1的 表面上。該材料的應(yīng)用方法可W是諸如旋轉(zhuǎn)涂層、狹縫涂層、涂布涂層、噴霧涂層和噴繪的 合適的涂層，其可W根據(jù)使用或基底尺寸來選擇。
[0246] 能夠W合適的方式形成在第一透明材料層21和第二透明材料層22之間的不平坦 結(jié)構(gòu)20。例如，在透明材料中混合諸如珠子的粒子，并且因此凸起和凹下通過粒子的形狀 能夠給出。另外，優(yōu)選通過壓印光刻來形成不平坦結(jié)構(gòu)20的凸起和凹下。通過使用壓印光 亥IJ，能夠有效地且精確地形成精細的凸起和凹下。另外，如稍后描述的在通過將凸起部分或 凹下部分分配到每個不平坦區(qū)段形成凸起和凹下的情況下，通過使用壓印光刻能夠高度精 確地形成精細的凸起和凹下。在通過壓印光刻形成凸起和凹下的情況下，可W通過印刷的 一個點來形成一個不平坦區(qū)段。優(yōu)選使用允許精細結(jié)構(gòu)的形成的壓印光刻，并且例如所謂 的納米壓印光刻是優(yōu)選的。 陽247] 壓印光刻被劃分成幾大類，其是UV壓印光刻和熱壓印光刻，并且UV壓印光刻或熱 壓印光刻中的任意一個是可用的。在實施的實施例中，例如，使用UV壓印光刻。通過UV壓 印光刻，能夠容易地印刷（轉(zhuǎn)移）凹下和凸起W形成不平坦結(jié)構(gòu)。在UV壓印光刻中，例如， 使用通過壓印含有具有2ym的間隔和Iym的高度的矩形（柱形）結(jié)構(gòu)的樣式的Ni主模 具形成的膜模具。UV可矯正壓印透明樹脂被應(yīng)用到基底上，并且對在該基底上的樹脂層的 表面按壓所述模具。在下文中，為了矯正樹脂，利用UV光（例如，具有波長A= 365nm的i 線）福照樹脂，所述UV光通過基底或膜模具。在樹脂被校正之后，移除模具。在該過程中， 優(yōu)選模具初步地經(jīng)受用于促進移除的處置（例如，氣涂層處置）。因此，能夠容易地從基底 移除模具。因此，在模具上的凹下結(jié)構(gòu)和凸起結(jié)構(gòu)能夠被轉(zhuǎn)移到基底。注意，該模具包括對 應(yīng)于不平坦結(jié)構(gòu)20的形狀的凹下和凸起。當模具的凹下結(jié)構(gòu)和凸起結(jié)構(gòu)被轉(zhuǎn)移時，期望的 凹下結(jié)構(gòu)和凸起結(jié)構(gòu)被提供到透明材料層的表面。例如，當使用其中凹下部分被隨機分配 到期望區(qū)段的模具時，能夠獲得其中凸起部分被隨機分配的不平坦結(jié)構(gòu)20。 陽248] 圖IlA和圖IlB示出了光擴散層2的不平坦結(jié)構(gòu)20的范例。優(yōu)選地，在光擴散層 2中的不平坦結(jié)構(gòu)20由布置在平面中的凸起部分11和凹下部分12的聚合體定義。在運種 情況下，能夠改進光擴散影響，而不引起角度依賴，并且因此能夠增加露出光的量。凸起部 分11或凹下部分12被布置在其中的平面可W與基底1的表面平行。圖IlA和圖IlB示出 了凸起部分11被布置在平面中。在不同視角中，圖IlA和圖IlB示出了凹下部分12被布 置在平面中。不平坦結(jié)構(gòu)20可W由布置在平面中的