涂敷膜除去裝置的制造方法
【專利摘要】提供一種能夠?qū)⑼糠笤诨迳系耐糠竽さ囊徊糠秩菀浊铱煽康爻サ耐糠竽こパb置。本發(fā)明的涂敷膜除去裝置具備：涂敷膜除去裝置主體(31)具有朝向基板(1)上的涂敷膜(2)中的處于預(yù)先設(shè)定的位置的涂敷膜除去部從除去液供給口(5a)吐出除去液(8)的除去液供給機(jī)構(gòu)(5)、和將吐出的除去液(8)從除去液回收口(6a)回收的除去液回收機(jī)構(gòu)(6)；高度調(diào)整裝置，調(diào)整基板(1)的表面與位于涂敷膜除去裝置主體(31)的除去液供給口(5a)和除去液回收口(6a)之間的平坦的底面之間的距離。
【專利說(shuō)明】
涂敷膜除去裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及在高分子有機(jī)EL顯示面板等的制造工序中將基板上的涂敷膜有選擇 地除去的涂敷膜除去裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 在高分子有機(jī)EL顯示面板等的制造工序中，有時(shí)需要使用涂敷法來(lái)形成高分子有 機(jī)EL顯示面板等的結(jié)構(gòu)所需要的覆膜(層）。此時(shí)，有時(shí)需要將不需要成膜的區(qū)域即不需成 膜區(qū)域上所成膜的覆膜除去。并且，作為將該覆膜除去的方法，例如公開(kāi)了專利文獻(xiàn)1、2所 記載的方法。
[0003] 專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平08-102434號(hào)公報(bào) [0004] 專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)平11-143088號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 但是，例如在使涂敷了覆膜的部分浸漬到溶劑的儲(chǔ)存部中的以往技術(shù)的覆膜的除 去方法中，有基板的端部等可應(yīng)用的部位受限的情況。因此，希望有通用性高、例如能夠?qū)?任意的部分將覆膜除去的方法。
[0006] 在此，本發(fā)明的目的在于，提供一種在有機(jī)EL面板等的制造工序中能夠?qū)⒉恍璩?膜區(qū)域所成膜的涂敷膜容易且可靠地除去的涂敷膜除去裝置。
[0007] 作為本發(fā)明的一個(gè)技術(shù)方案的涂敷膜除去裝置的特征在于，具備：涂敷膜除去裝 置主體，具有朝向基板上的涂敷膜中的處于預(yù)先設(shè)定的位置的涂敷膜除去部從吐出口吐出 除去液的除去液供給機(jī)構(gòu)、和將吐出的上述除去液從回收口回收的除去液回收機(jī)構(gòu);處理 間隙調(diào)整裝置，調(diào)整上述基板表面與處于上述涂敷膜除去裝置主體的上述吐出口和上述回 收口之間的平坦的底面之間的距離。
[0008] 根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)技術(shù)方案，則能夠?qū)⒒迳系耐糠竽さ囊徊糠钟羞x擇地、容易 且更可靠地除去。因此，能夠提供一種例如能夠?qū)⒂袡C(jī)發(fā)光像素外周部等的涂敷膜可靠地 除去的涂敷膜除去裝置。結(jié)果，使封固性能提高，能夠容易地得到?jīng)]有發(fā)光像素缺陷的高分 子有機(jī)EL面板。
【附圖說(shuō)明】
[0009] 圖1是說(shuō)明第1至第4的各實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖1(a)表 示由處理間隙計(jì)測(cè)裝置計(jì)測(cè)形成在基板表面上的涂敷膜中的涂敷膜除去部與涂敷膜除去 裝置主體(縱）的吐出口及回收口的距離的狀態(tài)。圖1(b)表示由涂敷膜除去裝置主體(縱)進(jìn) 行對(duì)于縱向的不需成膜區(qū)域的處理中的狀態(tài)。圖1(c)表示由涂敷膜除去裝置主體(橫)進(jìn)行 對(duì)于橫向的不需成膜區(qū)域的處理中的狀態(tài)。圖1(d)表示對(duì)于全部的不需成膜區(qū)域的涂敷膜 除去的處理完成的狀態(tài)。
[0010] 圖2是用來(lái)說(shuō)明第1至第4的各實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體 圖。
[0011]圖3是圖1(d)中的除去處理部31的A-A截面圖的一例。
[0012]圖4是表示具有超聲波振動(dòng)施加裝置的第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體的一 例的截面圖。
[0013]圖5是表示第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的第1變形例的俯視圖。
[0014]圖6是表示第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的第2變形例的俯視圖。
[0015] 圖7是用來(lái)說(shuō)明第1實(shí)施方式的第2變形例的動(dòng)作的一例的立體圖。
[0016] 圖8是圖1(d)中的除去處理部32的Ba-Bb截面圖的一例。
[0017]圖9是圖1(d)中的除去處理部33的Ba-Bb截面圖的一例。
[0018]圖10是用來(lái)說(shuō)明第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體圖。
[0019]圖11是圖1⑷中的除去處理部34的Ba-Bb截面圖的一例，表示除去液的液滴向間 隙較小的方向移動(dòng)的狀況。
[0020]圖12是說(shuō)明第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖12(a)表示涂敷膜 除去裝置的涂敷膜除去處理中的狀態(tài)。圖12(b)表示圖12(a)之后的涂敷膜除去處理中的狀 態(tài)。圖12(c)表示圖12(b)之后的涂敷膜除去處理中的狀態(tài)。圖12(d)表示圖12(c)的后的涂 敷膜除去處理中的狀態(tài)。
[0021 ]圖13是表示第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體的正視圖、俯視圖及側(cè)視圖。
[0022]圖14是用來(lái)說(shuō)明第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體圖。
[0023]圖15是說(shuō)明第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖，圖15(a)表示圖12 (a)的I-Ι截面。圖15(b)表示圖12(a)的II-II截面。
[0024] 圖16是表示第5實(shí)施方式的基板上的不需成膜區(qū)域的俯視圖，圖16(a)表示基板上 的Y軸方向的不需成膜區(qū)域。圖16(b)表示基板上的X軸方向的不需成膜區(qū)域。
[0025] 圖17是表示第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的涂敷膜除去處理中的狀態(tài)的俯視 圖，圖17(a)表示實(shí)施例的涂敷膜除去裝置的涂敷膜除去處理中的狀態(tài)。圖17(b)表示圖17 (a)之后的涂敷膜除去處理中的狀態(tài)。圖17(c)表示圖17(b)之后的涂敷膜除去處理中的狀 態(tài)。圖17(d)表示圖17(c)之后的涂敷膜除去處理后的狀態(tài)。
[0026]圖18是圖17(a)中的除去處理部35的III-III截面圖的一例。
[0027]圖19是用來(lái)說(shuō)明第5實(shí)施方式的實(shí)施例的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體 圖。
[0028]圖20是表示第5實(shí)施方式的實(shí)施例的基板上的不需成膜區(qū)域的俯視圖，圖20(a)表 示Y軸方向的不需成膜區(qū)域。圖20(b)表示X軸方向的不需成膜區(qū)域。
【具體實(shí)施方式】
[0029] 以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第1實(shí)施方式至第5實(shí)施方式的各涂敷膜除去裝置。 另外，在以下的詳細(xì)的說(shuō)明中，記載了許多的特定的細(xì)節(jié)部，以便于完全理解本發(fā)明的實(shí)施 方式。但是，即使沒(méi)有這樣的特定的細(xì)節(jié)部，當(dāng)然也能夠?qū)嵤?個(gè)以上的實(shí)施方式。除此以 外，為了使附圖更加簡(jiǎn)潔，將周知的構(gòu)造及裝置用略圖表示。此外，在各圖中，對(duì)于發(fā)揮同樣 或類似的功能的構(gòu)成要素賦予相同的標(biāo)號(hào)，省略重復(fù)的說(shuō)明。
[0030] 〈第1實(shí)施方式〉
[0031]以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101。
[0032](涂敷膜除去裝置101的整體結(jié)構(gòu)）
[0033]圖1是表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101的概略結(jié)構(gòu)圖。此外，圖2 是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體圖。另外，在圖1 中，將后述的第1至第4的各實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101~104表示為"涂敷膜除去裝置 100"。此外，將后述的第1至第4的各實(shí)施方式的移動(dòng)部31a~34a表示為"移動(dòng)部3a"，將后述 的第1至第4的各實(shí)施方式的移動(dòng)部31b~34b表示為"移動(dòng)部3b"。
[0034]涂敷膜除去裝置101是將作為基板上的涂敷膜中的一部分的涂敷膜除去部除去的 裝置。即，是將涂敷在基板上的不需要涂敷膜的涂敷的不需成膜區(qū)域上的涂敷膜除去部的 涂敷膜除去的裝置。
[0035]在圖1中，標(biāo)號(hào)1表示涂敷膜除去對(duì)象的基板，標(biāo)號(hào)2表示形成在基板1上的涂敷膜， 標(biāo)號(hào)11表示涂敷在基板1上的涂敷膜中的、基板1上的需要成膜區(qū)域。需要成膜區(qū)域11以外 的涂敷膜部分是不需成膜區(qū)域el~e7,該不需成膜區(qū)域el~e7是形成有涂敷膜除去部的區(qū) 域、即應(yīng)當(dāng)將涂敷膜有選擇地除去的區(qū)域。
[0036] 涂敷膜除去裝置101具備涂敷膜除去裝置主體3、將涂敷膜除去對(duì)象的基板1吸附 保持的臺(tái)座10和處理間隙調(diào)整裝置13(參照?qǐng)D2)。此外，涂敷膜除去裝置主體3具備在圖1中 沿著臺(tái)座10的左右方向移動(dòng)而對(duì)基板1進(jìn)行縱向（在圖1中是Y軸方向）的涂敷膜除去的涂敷 膜除去裝置主體(縱）（以下也單稱作"移動(dòng)部"）31a、以及在圖1中沿著臺(tái)座10的前后方向移 動(dòng)而對(duì)基板1進(jìn)行橫向（在圖1中是X軸方向）的涂敷膜除去的涂敷膜除去裝置主體(橫）（以 下也單稱作"移動(dòng)部"）31b。
[0037] 移動(dòng)部31 a以跨過(guò)吸附保持在臺(tái)座10上的基板1的方式，沿著臺(tái)座10的Y軸方向配 置，在該移動(dòng)部31a上支承著處理間隙計(jì)測(cè)裝置（以下也單稱作"高度計(jì)測(cè)裝置"）4。高度計(jì) 測(cè)裝置4測(cè)量基板1的表面與移動(dòng)部31a的底面之間的距離（即間隙）hi。處理間隙調(diào)整裝置 (以下也單稱作"高度調(diào)整裝置"）13使移動(dòng)部31a升降，以使高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離hi 成為預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值。該移動(dòng)部31a例如通過(guò)在臺(tái)座10的Y軸方向的兩側(cè)沿著X軸方向配 置的導(dǎo)引部及升降機(jī)構(gòu)(都未圖示)在X軸方向及高度方向（即Z軸方向）上移動(dòng)。由此，例如 如圖2及圖3所示，在將基板1的表面和移動(dòng)部31a保持為規(guī)定的距離hi的狀態(tài)下，移動(dòng)部31a 在基板1的X軸方向上移動(dòng)。
[0038] 如圖1所示，在第1實(shí)施方式中，需要成膜區(qū)域11被配置為格狀。與其匹配，移動(dòng)部 31b以俯視時(shí)與移動(dòng)部31a錯(cuò)開(kāi)90度的角度配置。即，移動(dòng)部31b以跨過(guò)被吸附保持在臺(tái)座10 上的基板1的方式，沿著臺(tái)座10的X軸方向配置。并且，在使用時(shí)，使移動(dòng)部31b的處理高度位 置與移動(dòng)部31a的處理高度位置對(duì)齊。即，基于由固定在移動(dòng)部31a上的高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量 出的距離hl，高度調(diào)整裝置13使移動(dòng)部31b升降，以使基板1的表面與移動(dòng)部31b的距離hi成 為設(shè)定值。該移動(dòng)部31b例如通過(guò)在臺(tái)座10的X軸方向的兩側(cè)沿著Y軸方向配置的導(dǎo)引部及 升降機(jī)構(gòu)(都未圖示)而在Y軸方向及Z軸方向上移動(dòng)。由此，移動(dòng)部31b在基板1的Y軸方向上 移動(dòng)。即，移動(dòng)部31a、31b只要在需要成膜區(qū)域11的排列方向上設(shè)定例如正交坐標(biāo)而能夠在 兩方向上移動(dòng)就可以。
[0039] 這里，在第1實(shí)施方式中，升降機(jī)構(gòu)由高度調(diào)整裝置13構(gòu)成。更詳細(xì)地講，升降機(jī)構(gòu) 可以由配置在移動(dòng)部31a、31b的各兩端部的高度調(diào)整裝置13構(gòu)成。
[0040] 另外，高度計(jì)測(cè)裝置4也可以不固定在移動(dòng)部31a上，而固定在移動(dòng)部31b上。進(jìn)而， 例如也可以按照將在臺(tái)座10的Y軸方向的兩側(cè)沿著X軸方向配置的導(dǎo)引部(未圖示)作為導(dǎo) 弓丨、在X軸方向上移動(dòng)的方式，獨(dú)立地進(jìn)行掃描。此外，例如也可以按照將在臺(tái)座10的X軸方 向的兩側(cè)沿著Y軸方向配置的導(dǎo)引部（未圖示）作為導(dǎo)引、在Y軸方向上移動(dòng)的方式進(jìn)行掃 描。總之，高度計(jì)測(cè)裝置4只要能夠測(cè)量移動(dòng)部31a、31b與基板1的表面(涂敷膜表面)的距離 hi，由高度調(diào)整裝置13基于該測(cè)量值進(jìn)行高度調(diào)整，以使與基板1的表面的距離hi成為設(shè)定 值就可以。
[0041] 移動(dòng)部31a、31b分別能夠通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置(未圖示)沿著基板1移動(dòng)。此外，在移動(dòng)部 31a、31b中，分別在基板1上的除了需要成膜區(qū)域11以外的區(qū)域、即不需成膜區(qū)域中設(shè)有除 去處理部31。即，如圖1(d)所示，將基板1的在Y軸方向上延伸的不需成膜區(qū)域從左方起依次 設(shè)為61、62、 63、64，將基板1的在乂軸方向上延伸的不需成膜區(qū)域從上方起依次設(shè)為65、 66、 e7,移動(dòng)部31a通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置使除去處理部31移動(dòng)到與不需成膜區(qū)域el對(duì)應(yīng)的位置，實(shí)施涂 敷膜除去。并且，反復(fù)進(jìn)行位置移動(dòng)和涂敷膜除去，直到不需成膜區(qū)域el的涂敷膜被去除。 另外，關(guān)于不需成膜區(qū)域e2~e4也同樣依次進(jìn)行涂敷膜除去。
[0042]另一方面，移動(dòng)部31b通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置例如使除去處理部31移動(dòng)到與不需成膜區(qū)域 e5對(duì)應(yīng)的位置，實(shí)施涂敷膜除去。進(jìn)而，反復(fù)進(jìn)行位置移動(dòng)和涂敷膜除去，直到不需成膜區(qū) 域e5的涂敷膜被去除。此外，關(guān)于不需成膜區(qū)域e6及不需成膜區(qū)域e7也同樣依次進(jìn)行涂敷 膜除去。另外，移動(dòng)部31a、31b各自的除去處理部31具有相同結(jié)構(gòu)，但并不限定于該結(jié)構(gòu)。 [0043](除去處理部31的結(jié)構(gòu)）
[0044]圖3是圖1(d)所示的除去處理部31的A-A截面圖的一例。如圖3所示，除去處理部31 具備除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去液回收機(jī)構(gòu)6和氣體供給裝置7。
[0045]除去液供給機(jī)構(gòu)5具備除去液供給口 5a和向除去液供給口 5a供給除去液8的除去 液供給部5b。除去液供給口 5a以與基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置的方式配置在除 去處理部31。通過(guò)使除去液供給部5b工作，由除去液供給部5b向除去液供給口 5a供給涂敷 膜2除去用的除去液8，從除去液供給口 5a的基板1側(cè)的開(kāi)口端將除去液8向基板1上吐出。除 去液供給部5b由能夠進(jìn)行定量吐出的注射栗等構(gòu)成，將一定量的除去液8經(jīng)由除去液供給 口 5a向基板1上吐出。
[0046]除去液回收機(jī)構(gòu)6具備以與基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置的方式配置的 除去液回收口 6a和除去液回收部6b。并且，例如以?shī)A著除去液供給口 5a的方式配置多個(gè)除 去液回收口 6a。此外，除去液回收口 6a如圖3所示，與基板1對(duì)置側(cè)的開(kāi)口端向除去液供給口 5a側(cè)彎曲。另外，關(guān)于除去處理部31的截面形狀、特別是除去液供給口5a和除去液回收口6a 的形狀及位置關(guān)系，并不限定于此。
[0047]除去液回收部6b例如具備噴射器罐等的吸引設(shè)備，通過(guò)使除去液回收部6b工作， 將基板1上的除去液8經(jīng)由除去液回收口 6a向除去液回收部6b回收。
[0048]此外，疏水外廓部12夾著除去液回收口 6a而形成。由此，抑制從位于疏水外廓部12 的內(nèi)側(cè)的除去液供給口 5a吐出的除去液8向外側(cè)浸潤(rùn)擴(kuò)散。
[0049]氣體供給裝置7如圖3所示，具備以與基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置的方 式配置的氣體供給口 7a和氣體供給部7b。氣體供給口 7a例如夾著除去液回收口 6a形成。并 且，通過(guò)使氣體供給部7b工作，向基板1噴吹氣體(例如空氣）。
[0050]如圖3所示，沿著移動(dòng)部31a的長(zhǎng)邊方向的氣體供給口 7a的寬度wl設(shè)定為比沿著移 動(dòng)部31a的長(zhǎng)邊方向的不需成膜區(qū)域el的寬度稍短。
[0051 ]通過(guò)使氣體供給部7b工作，從氣體供給口 7a吹出的空氣起到空氣簾的作用，防止 從配置在氣體供給口 7a的內(nèi)側(cè)的除去液供給口 5a吐出的除去液8向不需成膜區(qū)域e 1的外側(cè) 飛散或流出。
[0052]在具有這樣的結(jié)構(gòu)的除去處理部31，在將移動(dòng)部31a移動(dòng)配置為與不需成膜區(qū)域 el~e4對(duì)置的狀態(tài)下，通過(guò)使除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去液回收機(jī)構(gòu)6、氣體供給裝置7工作，能 夠防止除去液8流出到不需成膜區(qū)域el~e4的外側(cè)，并且向不需成膜區(qū)域el~e4吐出除去 液8并將除去液8回收。
[0053]在移動(dòng)部31b的情況下，例如如圖1(d)所示，只要在將移動(dòng)部31b移動(dòng)配置為使得 不需成膜區(qū)域e5~e7與除去處理部31對(duì)置的狀態(tài)下，使除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去液回收機(jī)構(gòu) 6、氣體供給裝置7工作就可以。
[0054]另外，除去液供給部5b、除去液回收部6b、氣體供給部7b也可以與移動(dòng)部31a分體 地設(shè)置，經(jīng)由可變形的除去液供給用管將除去液供給部5b與除去液供給口 5a連接。同樣，也 可以經(jīng)由可變形的除去液回收用管將除去液回收部6b與除去液回收口 6a連接。此外，也可 以經(jīng)由可變形的空氣供給用管將氣體供給部7b與氣體供給口 7a連接。此外，不需要將除去 液供給部5b、除去液回收部6b、氣體供給部7b全部設(shè)在移動(dòng)部3 la、3 lb，也可以將除去液供 給部5b、除去液回收部6b、氣體供給部7b中的至少1個(gè)設(shè)在移動(dòng)部3 la、3 lb。
[0055]此外，設(shè)在移動(dòng)部31a、31b上的除去處理部31只要與除了需要成膜區(qū)域11以外的 區(qū)域、即不需成膜區(qū)域el~e7對(duì)置而實(shí)施涂敷膜除去就可以，所以在移動(dòng)部31a中，如圖5所 示，也可以在與不需成膜區(qū)域e5~e7各自分別對(duì)應(yīng)的位置處配置多個(gè)除去處理部31。同樣， 在移動(dòng)部31b中，也可以在與不需成膜區(qū)域el~e4各自分別對(duì)應(yīng)的位置處配置多個(gè)除去處 理部31。另外，各除去處理部31具有相同的結(jié)構(gòu)。
[0056]此外，除去處理部31中的除去液供給口 5a、除去液回收口 6a、疏水外廓部12的配置 并不限于上述形態(tài)。例如，除去液供給口5a也可以設(shè)置多個(gè)。此外，除去液回收口6a以?shī)A著 除去液供給口 5a的方式配置，但也可以配置為將除去液供給口 5a以四方或圓形包圍。此外， 除去液回收口6a也可以隨機(jī)地配置在除去液供給口 5a的外周側(cè)。此外，疏水外廓部12以?shī)A 著除去液供給口 5a、除去液回收口 6a的方式形成，但也可以配置為，將除去液回收口 6a以四 方或圓形狀包圍。此外，疏水外廓部12也可以在與不需成膜區(qū)域內(nèi)的邊界附近對(duì)置的位置 隨機(jī)地配置?？傊?，只要除去液供給口 5a及除去液回收口 6a處于由疏水外廓部12包圍的范 圍內(nèi)、能夠利用疏水外廓部12的疏水性抑制由除去液供給口 5a吐出的除去液8向不需成膜 區(qū)域外移動(dòng)就可以。
[0057]此外，除去處理部31中的除去液供給口 5a、除去液回收口 6a、疏水外廓部12、氣體 供給口 7a的配置并不限于上述形態(tài)。例如，氣體供給口 7a以?shī)A著除去液供給口 5a、除去液回 收口 6a、疏水外廓部12的方式配置，但也可以配置為，將除去液供給口 5a、除去液回收口 6a、 疏水外廓部12以四方或圓形狀包圍。此外，氣體供給口7a也可以設(shè)置多個(gè)。此外，氣體供給 口 7a也可以在與不需成膜區(qū)域內(nèi)的邊界附近對(duì)置的位置隨機(jī)地配置?？傊?，只要除去液供 給口 5a、除去液回收口 6a及疏水外廓部12處于被由氣體供給裝置7形成的空氣簾包圍的范 圍內(nèi)，能夠避免由除去液供給口5a吐出的除去液8向不需成膜區(qū)域外的飛散或移動(dòng)就可以。
[0058] (動(dòng)作及其他）
[0059] 接著，說(shuō)明上述實(shí)施方式的動(dòng)作。
[0060] 首先，如圖1所示，由高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量基板1的表面與移動(dòng)部31a的距離hi。然 后，通過(guò)高度調(diào)整裝置13配置，使得與基板1的表面的距離hi成為設(shè)定值。然后，例如使移動(dòng) 部31a對(duì)置配置，以接近于成膜在基板1上的涂敷膜2。接著，從除去液供給部5b經(jīng)由除去液 供給口 5a將除去液8向基板1吐出并將該狀態(tài)保持規(guī)定時(shí)間，以在移動(dòng)部31a與成膜了涂敷 膜2的基板1的間隙中保持一定量的除去液8。
[0061] 被設(shè)定為上述設(shè)定值的距離hi優(yōu)選為，移動(dòng)部31a與成膜有涂敷膜2的基板1之間 的除去液8根據(jù)除去液8的吐出量及粘度等的特性而以一定的寬度保持的距離。
[0062] 此外，上述規(guī)定時(shí)間是足夠涂敷膜2被除去液8溶解或剝離的時(shí)間。
[0063] 通過(guò)在不需成膜區(qū)域上將除去液8保持規(guī)定時(shí)間，涂敷膜2溶解或剝離。并且，如果 經(jīng)過(guò)了推測(cè)涂敷膜2溶解或剝離的時(shí)間，則將在移動(dòng)部31a與基板1之間與涂敷膜2混在一起 的除去液8通過(guò)除去液回收機(jī)構(gòu)6回收并排出。即，使除去液回收部6b工作，經(jīng)由除去液回收 口 6a將基板1上的除去液8回收。
[0064] 通過(guò)反復(fù)進(jìn)行該除去液8的供給和回收，將存在于基板1上的不需成膜區(qū)域中的涂 敷膜2除去，能夠得到更潔凈的基板表面。
[0065] 此外，此時(shí)，在從除去液供給機(jī)構(gòu)5開(kāi)始吐出除去液8到基板1上的除去液8的回收 結(jié)束的期間中，使氣體供給裝置7工作，經(jīng)由氣體供給口7a向基板1噴出。該氣體供給口7a如 圖3所示，配置在除去液供給口5a及除去液回收口6a的周圍，所以通過(guò)從氣體供給口7a噴出 的空氣，能夠避免吐出到基板1上的除去液8向不需成膜區(qū)域的外側(cè)飛散或流出。
[0066] 并且，如圖1(a)所示那樣一邊使移動(dòng)部31a在X軸方向上移動(dòng)一邊在各地點(diǎn)進(jìn)行該 操作。
[0067] 在由移動(dòng)部31a進(jìn)行的、在基板1的Y軸方向上延伸的不需成膜區(qū)域的涂敷膜的除 去結(jié)束后，如圖1 (b)所示，一邊使移動(dòng)部31b在Y軸方向上移動(dòng)，一邊在各地點(diǎn)對(duì)在基板1的X 軸方向上延伸的不需成膜區(qū)域的涂敷膜以同樣的次序進(jìn)行涂敷膜的除去。
[0068] 通過(guò)像這樣使移動(dòng)部31a及31b工作，如圖1(d)所示，僅將基板1的不需成膜區(qū)域的 涂敷膜除去。
[0069] 另外，由氣體供給裝置7供給的氣體，考慮到對(duì)涂敷膜2所使用的有機(jī)材料的特性 的影響，也可以采用氮?dú)獾炔换顫娦詺怏w作為供給的氣體。
[0070] 此外，如圖3所示，由于實(shí)施了疏水處理的疏水外廓部12配置在除去液供給口 5a及 除去液回收口6a的周圍，所以利用疏水外廓部12的疏水性，能夠防止被吐出到基板1上的除 去液8向不需成膜區(qū)域的外側(cè)浸潤(rùn)擴(kuò)散。即，除了由從氣體供給口 7a吐出的氣體帶來(lái)的除去 液8的浸潤(rùn)擴(kuò)散抑制效果之外，還能夠防止需要成膜區(qū)域11的涂敷膜2被意外地除去。因而， 能夠更可靠地僅將不需成膜區(qū)域內(nèi)的涂敷膜2除去。
[0071] 此外，為了提高涂敷膜2的除去性能，也可以對(duì)吐出的除去液8施加超聲波振動(dòng)。 即，如圖4所示，例如也可以在除去液供給口 5a的開(kāi)口部端部設(shè)置超聲波振動(dòng)施加裝置9，通 過(guò)使該超聲波振動(dòng)施加裝置9工作而使除去液8振動(dòng)。
[0072] 此外，吐出的除去液8的溫度也可以是常溫，但考慮到揮發(fā)的危害，通過(guò)將其溫度 設(shè)為30°C以上40°C以下，能夠使涂敷膜2效率良好地溶解，能夠縮短處理時(shí)間，并且更可靠 地除去涂敷膜2。
[0073] 此外，在第1實(shí)施方式中，如圖1所示，說(shuō)明了通過(guò)使以90度的角度配置的移動(dòng)部 31a、31b分別在一個(gè)方向掃描，而對(duì)基板1整面進(jìn)行涂敷膜除去的情況，但并不限于此。例 如，如圖5所示，也可以在具備高度計(jì)測(cè)裝置4的移動(dòng)部31a、31b配置多個(gè)除去處理部31。例 如，也可以在移動(dòng)部31a中在與不需成膜區(qū)域e5~e7各自分別對(duì)應(yīng)的位置配置多個(gè)除去處 理部31、在移動(dòng)部31b中在與不需成膜區(qū)域el~e4各自分別對(duì)應(yīng)的位置配置多個(gè)除去處理 部31。另外，在此情況下，也可以將除去處理部31可移動(dòng)地配置在移動(dòng)部31a、31b。由此，即 使在對(duì)于不需成膜區(qū)域的寬度或間隔不同的多個(gè)基板進(jìn)行除去處理的情況下，通過(guò)錯(cuò)開(kāi)除 去處理部31的位置而進(jìn)行除去處理、或?qū)⒊ヌ幚聿?1的配置位置與不需成膜區(qū)域的間隔 相應(yīng)地調(diào)整之后開(kāi)始除去處理，從而能夠適當(dāng)?shù)貞?yīng)對(duì)。
[0074] 此外，例如如圖6及圖7所示，也可以將具備高度計(jì)測(cè)裝置4的涂敷膜除去裝置主體 3構(gòu)成為可在Y軸方向及X軸方向上移動(dòng)。如圖6所示，以跨過(guò)基板1的方式沿著基板1的Y軸方 向配置導(dǎo)軌21，在該導(dǎo)軌21上可移動(dòng)地配置涂敷膜除去裝置主體3。進(jìn)而，在基板1的Y軸方 向的兩側(cè)，設(shè)置在X軸方向上延伸的導(dǎo)引部(未圖示），將該導(dǎo)引部作為導(dǎo)引將導(dǎo)軌21在X軸 方向上可移動(dòng)地配置。
[0075]并且，通過(guò)使導(dǎo)軌21在X軸方向上移動(dòng)并在導(dǎo)軌21上使涂敷膜除去裝置主體3在Y 軸方向上移動(dòng)，使涂敷膜除去裝置主體3相對(duì)于基板1在其Y軸方向及X軸方向上移動(dòng)，即遍 及基板1的整面由涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行涂敷液的供給及回收。
[0076] 可以根據(jù)涂敷膜除去所需要的所需時(shí)間和限制節(jié)拍等的兼顧，來(lái)選擇圖1所示的 結(jié)構(gòu)還是圖6所示的結(jié)構(gòu)。
[0077] 另外，如圖6所示，采用在導(dǎo)軌21上設(shè)置涂敷膜除去裝置主體3的結(jié)構(gòu)的情況下，只 要在涂敷膜除去裝置主體3上設(shè)置1個(gè)除去處理部31就可以。此外，在由1個(gè)除去處理部31對(duì) 多個(gè)不需成膜區(qū)域進(jìn)行涂敷膜2的除去處理的情況下，有可能出現(xiàn)除去處理部31的寬度wl 遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于不需成膜區(qū)域的寬度等、除去處理部31的寬度wl相對(duì)于不需成膜區(qū)域不是相當(dāng)?shù)?寬度。在此情況下，例如在圖6中，只要使涂敷膜除去裝置主體3在Y軸方向和X軸方向上均移 動(dòng)，一邊進(jìn)行X軸方向的微調(diào)、一邊在Y軸方向上移動(dòng)而進(jìn)行涂敷膜除去就可以。
[0078] 另外，在上述實(shí)施方式中，除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去液回收機(jī)構(gòu)6、氣體供給裝置7的 除去液8的供給定時(shí)、除去液8的回收定時(shí)、氣體的供給定時(shí)的控制由未圖示的上位裝置進(jìn) 行即可。由該上位裝置也進(jìn)行驅(qū)動(dòng)移動(dòng)部31a、31b及涂敷膜除去裝置主體3的驅(qū)動(dòng)裝置的控 制，通過(guò)根據(jù)移動(dòng)部31a、31b及涂敷膜除去裝置主體3的位置來(lái)控制除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去 液回收機(jī)構(gòu)6、氣體供給裝置7的動(dòng)作定時(shí)，能夠?qū)⒉恍璩赡^(qū)域的涂敷膜2可靠地除去。
[0079] 如以上說(shuō)明，本實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101是將基板1上的作為涂敷膜2中的 一部分的涂敷膜除去部除去的裝置。即，第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101是將基板1上的 涂敷在不需要涂敷膜2的涂敷的不需成膜區(qū)域el~e7上的涂敷膜除去部的涂敷膜2除去的 裝置。
[0080] 此外，如上述那樣，涂敷在基板1上的涂敷膜2中的、基板1上的需要成膜區(qū)域11以 外的涂敷膜2的部分是不需成膜區(qū)域el~e7,該不需成膜區(qū)域el~e7是形成有涂敷膜除去 部的區(qū)域，即應(yīng)當(dāng)將涂敷膜2有選擇地除去的區(qū)域。
[0081 ] 實(shí)施例1
[0082] 以下，通過(guò)各實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0083] (實(shí)施例1-1)
[0084]作為第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101的一個(gè)實(shí)施例，說(shuō)明有機(jī)EL顯示器的空穴 輸送層的成膜工序中、在基板1上用狹縫模涂敷形成空穴輸送層的有機(jī)材料并將作為需成 膜范圍的發(fā)光區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況。
[0085]作為涂敷的空穴輸送層材料而使用聚（3，4)亞乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸 (PED0T/PSS)，作為除去液8而使用純水。
[0086] 基板1使用無(wú)堿玻璃0A-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0.7mm，嘗試了將需 成膜范圍為50mm X 50mm時(shí)的外周4邊外側(cè)的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0087]首先，在已洗凈的基板1上將上述空穴輸送層材料以lOOmmX 100mm的范圍通過(guò)狹 縫模涂敷后，通過(guò)在減壓干燥下以180°C干燥1小時(shí)，得到了 lOOnm的涂敷膜2。
[0088]將該空穴輸送層材料的涂敷范圍的中心附近50mmX50mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11 的范圍，將其外周4邊的外側(cè)使用圖3所示那樣的具有除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6 的涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行涂敷膜2的有選擇除去。另外，從安裝在涂敷膜除去裝置主體3 上的度盤式指示表的計(jì)測(cè)值調(diào)整涂敷膜除去裝置主體3的高度，使基板1與涂敷膜除去裝置 主體3的下端的距離hi為1mm。此外，作為除去液供給機(jī)構(gòu)5的除去液供給部5b使用注射栗而 能夠進(jìn)行定量吐出，從而規(guī)定了保持在基板1與涂敷膜除去裝置主體3的距離hi中的除去液 8的量。
[0089]在實(shí)施例1-1中，使基板1與涂敷膜除去裝置主體3的吐出口的距離hi為1mm，但當(dāng) 設(shè)定距離hi時(shí)，需要根據(jù)希望的處理幅度從與除去液8的吐出量的組合中選擇。在將基板1 與涂敷膜除去裝置主體3的吐出口的距離hi設(shè)定得較寬的情況下，為了在基板1與涂敷膜除 去裝置主體3的距離hi中保持除去液8而需要較多吐出量，與此對(duì)應(yīng)，被保持在基板1與涂敷 膜除去裝置主體3的距離hi中的除去液8的寬度變寬。另一方面，在將基板1與涂敷膜除去裝 置主體3的下端的距離hi設(shè)定得較窄的情況下能夠使吐出量變少，能夠使被保持在基板1與 涂敷膜除去裝置主體3的距離hi中的除去液8的寬度變窄。即，通過(guò)調(diào)整基板1與涂敷膜除去 裝置主體3的距離hi，能夠?qū)⒊ヒ?的寬度即涂敷膜2的除去寬度調(diào)整為希望的范圍。
[0090] 此外，在實(shí)施例1-1中，作為高度計(jì)測(cè)裝置4而使用度盤式指示表，但并不限定于 此，使用激光變位計(jì)等的非接觸方式的計(jì)測(cè)器在傷痕及異物抑制的方面更為優(yōu)選。
[0091] 此外，除去液回收機(jī)構(gòu)6取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間被以期望 的時(shí)間保持、溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，確認(rèn)了保持時(shí)間只要是30秒以 上就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收完而殘 留的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0092]通過(guò)反復(fù)進(jìn)行由涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行的掃描，再將掃描方向切換90度，將需 成膜范圍的外周4邊的外側(cè)的不需成膜區(qū)域的不需要涂敷膜依次處理，得到了在50mmX 50mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)。此外，在涂敷膜除去裝置主體3中，確認(rèn) 到 了通過(guò)配置在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的外側(cè)的疏水外廓部12的疏水性抑制 了除去液8向需成膜范圍的浸潤(rùn)擴(kuò)散。另外，疏水外廓部12通過(guò)將與涂敷膜2對(duì)置的一側(cè)的 表面實(shí)施特氟龍(注冊(cè)商標(biāo))鎳鍍金處理，得到了水接觸角90度的疏水性。
[0093]進(jìn)而，在涂敷膜除去裝置主體3中，通過(guò)由配置在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的外側(cè)的氣體供給口 7a進(jìn)行的氣體供給，確認(rèn)到了除去液8沒(méi)有向需成膜范圍飛散而得 到了期望的狀態(tài)。
[0094](實(shí)施例1-2)
[0095]在實(shí)施例1-1中的各條件下，除去液8的溫度條件是24°C，相對(duì)于此，在實(shí)施例1-2 中，將該除去液8的溫度條件從24°C變更為30°C，同樣地進(jìn)行涂敷膜2的除去。另外，除了除 去液8的溫度條件以外的其他條件與實(shí)施例1-1中的各條件相同。
[0096] 結(jié)果，當(dāng)除去液8的溫度為24 °C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?在大約30秒內(nèi)除去，相對(duì)于此， 當(dāng)除去液8的溫度為30°C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需要的所需時(shí)間縮短到大約20秒，確 認(rèn)了除去性能的提高。此外，在進(jìn)一步提高了除去液8的溫度的情況下，確認(rèn)到除去性能的 進(jìn)一步提高。但是，如果使溫度比40°C高，則除去性能提高的差異不大而效果變小，另一方 面，由于可能會(huì)出現(xiàn)蒸氣的影響，在采用溫度條件時(shí)還需要考慮裝置、材料。
[0097] (實(shí)施例卜3)
[0098]在實(shí)施例1-3中，在實(shí)施例1-2中的各條件、即除去液8的溫度條件為30°C的條件 下，一邊通過(guò)作為超聲波振動(dòng)施加裝置9的超聲波振子向除去液8施加超聲波振動(dòng)，一邊由 涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行涂敷膜2的除去。另外，超聲波振動(dòng)的輸出為50~300W左右，振動(dòng) 頻率為30~100kHz左右。
[0099] 結(jié)果，當(dāng)不施加超聲波振動(dòng)時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?以大約20秒除去，但是通過(guò)施加超 聲波振動(dòng)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需的所需時(shí)間縮短到15秒，確認(rèn)了除去性能的提高。
[0100] 因而，像這樣能夠可靠地將有機(jī)發(fā)光像素外周部的涂敷膜2除去，所以能夠在不需 要按照空穴輸送層及空穴注入層等的像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜中采用成膜簡(jiǎn)單且均 勻的涂敷法來(lái)生產(chǎn)高分子有機(jī)EL面板。
[0101] (實(shí)施例1-4)
[0102] 作為第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101的另一實(shí)施例，對(duì)在液晶顯示器用濾色片 的感光性樹(shù)脂層的成膜工序中在基板1上用狹縫模涂敷形成感光性樹(shù)脂層的有機(jī)材料、將 作為需成膜范圍的像素區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0103] 作為涂敷的感光性樹(shù)脂材料而使用東京應(yīng)化工業(yè)(株）制0FPR-800,作為除去液8 而使用30 °C的1.0重量％碳酸鈉水溶液。
[0104] 基板1使用無(wú)堿玻璃0A-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0.7mm，嘗試了將需 成膜范圍為50mm X 50mm時(shí)的外周4邊外側(cè)的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0105] 首先，在已洗凈的基板1上將上述感光性樹(shù)脂材料以100mm X 100mm的范圍用狹縫 模涂敷后，通過(guò)在ITorr的減壓干燥下干燥，得到了 1.5μπι的涂敷膜2。
[0106]將該感光性樹(shù)脂材料的涂敷范圍的中心附近50mmX50mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11 的范圍，將其外周4邊的外側(cè)使用圖3所示那樣的具有除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6 的涂敷膜除去裝置主體3將涂敷膜2有選擇地除去。另外，根據(jù)安裝在涂敷膜除去裝置主體3 上的度盤式指示表的計(jì)測(cè)值調(diào)整涂敷膜除去裝置主體3的高度，使基板1與涂敷膜除去裝置 主體3的下端的距離hi成為1mm。此外，作為除去液供給機(jī)構(gòu)5的除去液供給部5b使用注射 栗，通過(guò)能夠定量吐出，規(guī)定了保持在基板1與涂敷膜除去裝置主體3的距離hi中的除去液8 的量。
[0107]此外，除去液回收機(jī)構(gòu)6取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間保持了期 望的時(shí)間、并且溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，確認(rèn)到了保持時(shí)間只要是30 秒以上就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收完 而殘留的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0108] 通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3的掃描，再將掃描方向切換90度，將需成 膜范圍的外周4邊的外側(cè)的不需成膜區(qū)域的不需要涂敷膜依次處理，得到了在50mmX50mm 的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)。此外，在涂敷膜除去裝置主體3中，確認(rèn)到了 通過(guò)配置在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的外側(cè)的疏水外廓部12的疏水性抑制了除 去液8向需成膜范圍的浸潤(rùn)擴(kuò)散。另外，疏水外廓部12通過(guò)將與涂敷膜2對(duì)置的一側(cè)的表面 實(shí)施特氟龍(注冊(cè)商標(biāo))鎳鍍金處理，得到了水接觸角90度的疏水性。
[0109] 進(jìn)而，在涂敷膜除去裝置主體3中，通過(guò)由配置在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的外側(cè)的氣體供給口 7a進(jìn)行的氣體供給，沒(méi)有除去液8向需成膜范圍的飛散而確認(rèn)到了 期望的狀態(tài)。
[0110] 以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例1-1~1-4進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施例限制。 在上述中對(duì)有機(jī)EL顯示器和液晶顯示器用濾色片進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限定于此，也可以應(yīng) 用到其他用途的成膜基板中。此外，涂敷膜2并不限定于以空穴輸送層為代表的有機(jī)EL用途 的材料、以及在液晶用顯示器用濾色片中使用的感光性樹(shù)脂材料等，也可以應(yīng)用到其他用 途的材料。此外，除去液8也可以適當(dāng)選擇與該涂敷膜2的材料對(duì)應(yīng)的除去液，例如有機(jī)溶劑 及蝕刻液等也是對(duì)象。
[0111] 〈第2實(shí)施方式〉
[0112] 以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置102。
[0113](涂敷膜除去裝置102的整體結(jié)構(gòu)）
[0114] 圖1是表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置102的概略結(jié)構(gòu)圖。此外，圖2 是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置102的動(dòng)作的一例的立體圖。另外，在 圖1(d)中，省略了第2實(shí)施方式的除去液供給口5a及除去液回收口6a的記載。
[0115] 如圖1所示，涂敷膜除去裝置102的結(jié)構(gòu)與第1實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置101的結(jié) 構(gòu)大致相同。即，涂敷膜除去裝置102具備涂敷膜除去裝置主體3、吸附保持將涂敷膜2除去 的對(duì)象的基板1的臺(tái)座10、和高度調(diào)整裝置13。此外，第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體3 與第1實(shí)施方式的情況同樣，具備移動(dòng)部32a和移動(dòng)部32b。
[0116] 此外，在第2實(shí)施方式的移動(dòng)部32a、32b中，與第1實(shí)施方式的情況同樣，分別設(shè)有 除去處理部32。但是，第2實(shí)施方式的除去處理部32和第1實(shí)施方式的除去處理部31相比，圖 1(d)的Ba-Bb截面中的構(gòu)造不同（參照?qǐng)D8)。
[0117]所以，在第2實(shí)施方式中，主要對(duì)除去處理部32的構(gòu)造進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于與在第1實(shí)施 方式中說(shuō)明的部分實(shí)質(zhì)上相同的部分省略其說(shuō)明。此外，關(guān)于與在第1實(shí)施方式中說(shuō)明的動(dòng) 作及工序?qū)嵸|(zhì)上相同的動(dòng)作及工序也省略其說(shuō)明。
[0118](涂敷膜除去裝置主體3的結(jié)構(gòu)）
[0119] 第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體3具備:移動(dòng)部32a，在圖1中沿著臺(tái)座10的X軸 方向移動(dòng)，對(duì)基板1進(jìn)行Y軸方向的涂敷膜除去;移動(dòng)部32b，在圖1中在臺(tái)座10的Y軸方向上 移動(dòng)，對(duì)基板1進(jìn)行X軸方向的涂敷膜除去。
[0120] 移動(dòng)部32a、32b分別通過(guò)驅(qū)動(dòng)裝置(未圖示)而能夠沿著基板1移動(dòng)。此外，在移動(dòng) 部32a、32b中，分別在基板1上的除了需要成膜區(qū)域11以外的區(qū)域、即不需成膜區(qū)域設(shè)有除 去處理部32。
[0121 ]移動(dòng)部32a與上述移動(dòng)部31a同樣，例如通過(guò)在臺(tái)座10的Y軸方向的兩側(cè)沿著X軸方 向配置的導(dǎo)引部及升降機(jī)構(gòu)(都未圖示)而在X軸方向及Z軸方向上移動(dòng)。由此，例如如圖8所 示，在將基板1的表面和移動(dòng)部32a傾斜保持成為規(guī)定的距離hi、h2的狀態(tài)下，移動(dòng)部32a在 基板1的X軸方向上移動(dòng)。換言之，在基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的除去液供給口 5a側(cè)的底面的距離（第1距離)hi及與除去液回收口 6a側(cè)的底面的距離(第2距離)h2不同的 狀態(tài)下，移動(dòng)部32a在基板1的X軸方向上移動(dòng)。
[0122] 在第2實(shí)施方式中，只要如以下這樣構(gòu)成就可以：高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量移動(dòng)部32a、 32b與基板1的表面(涂敷膜表面)的距離h，基于該測(cè)量值，能夠由高度調(diào)整裝置13將高度調(diào) 整為：與基板1的表面的距離hl、h2成為設(shè)定值。高度調(diào)整裝置13設(shè)置在移動(dòng)部32a的兩端 部，根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，使移動(dòng)部32a升降/傾斜，以使移動(dòng)部32a的兩端部 的與基板1的表面的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。
[0123] 此外，高度調(diào)整裝置13支承移動(dòng)部32b，當(dāng)進(jìn)行將涂敷在基板1上的不需要涂敷膜2 的涂敷的不需成膜區(qū)域el~e7上的涂敷膜除去部的涂敷膜2除去的處理時(shí)，基于由固定在 移動(dòng)部32a上的高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，使移動(dòng)部32b升降/傾斜，以使基板1的表面 與移動(dòng)部32b的距離hi、h2成為預(yù)先設(shè)定的設(shè)定值。
[0124] 這里，在第2實(shí)施方式中，作為一例，對(duì)上述升降機(jī)構(gòu)構(gòu)成高度調(diào)整裝置13的情況 進(jìn)行說(shuō)明。另外，升降機(jī)構(gòu)也可以由配置在移動(dòng)部32a、32b的各兩端部的高度調(diào)整裝置13構(gòu) 成。
[0125] (除去處理部32的結(jié)構(gòu)）
[0126] 圖8是圖1(d)所示的除去處理部32的Ba-Bb截面圖的一例。如圖8所示，除去處理部 32具備除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6。
[0127] 除去液供給機(jī)構(gòu)5具備除去液供給口 5a和向除去液供給口 5a供給除去液的除去液 供給部5b。除去液供給口 5a以與除去處理部32中的基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置 的方式配置。通過(guò)使除去液供給部5b動(dòng)作，將涂敷膜2除去用的除去液8由除去液供給部5b 向除去液供給口 5a供給，從除去液供給口 5a的基板1側(cè)的開(kāi)口端將除去液8向基板1上吐出。 除去液供給部5b由能夠定量吐出的注射栗等構(gòu)成，將一定量的除去液8經(jīng)由除去液供給口 5a向基板1上吐出。
[0128] 除去液回收機(jī)構(gòu)6具備以與基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置的方式配置的 除去液回收口 6a和除去液回收部6b。
[0129] 除去液回收口 6a例如配置在除去處理部32的長(zhǎng)邊方向側(cè)端部附近。
[0130]除去液回收部6b例如具備噴射器罐等的吸引設(shè)備，通過(guò)使除去液回收部6b動(dòng)作， 將基板1上的除去液8經(jīng)由除去液回收口 6a向除去液回收部6b回收。
[0131] 此外，除去處理部32的底面中的至少位于除去液供給口 5a與除去液回收口 6a之間 的底面部分為平坦。
[0132] 此外，如圖8所示，涂敷膜除去裝置102在基板1的厚度方向（在圖8中是上下方向） 上帶有傾斜地設(shè)置，以使形成有涂敷膜2的基板1的表面與除去液回收口 6a的距離h2相對(duì)于 形成有涂敷膜2的基板1的表面與除去液供給口 5a的距離hi較小。
[0133] 此外，如圖8所示，涂敷膜除去裝置102在基板1的厚度方向上帶有傾斜地設(shè)置，以 使形成有涂敷膜2的基板1的表面與除去液供給口 5a的距離hi比形成有涂敷膜2的基板1的 表面與除去液回收口 6a的距離h2長(zhǎng)0.1mm以上。
[0134] 另外，在圖8中，除去液供給口 5a在除去處理部32的長(zhǎng)邊方向側(cè)端部附近僅配置一 處，但除去液供給口 5a的配置并不限定于此。例如，關(guān)于除去液供給口 5a與除去液回收口 6a 的位置關(guān)系，只要滿足上述的涂敷膜除去裝置102與基板1的表面的距離的條件就可以。此 外，除去液供給口 5a及除去液回收口 6a也可以分別在多個(gè)部位具備。
[0135] 通過(guò)在具有這樣的結(jié)構(gòu)的除去處理部32將移動(dòng)部32a移動(dòng)配置以使其與不需成膜 區(qū)域el~e4對(duì)置的狀態(tài)下使除去液供給機(jī)構(gòu)5及除去液回收機(jī)構(gòu)6動(dòng)作，能夠在防止除去液 8向不需成膜區(qū)域的外側(cè)流出的同時(shí)、將除去液8向不需成膜區(qū)域吐出并將除去液8回收。
[0136] 在移動(dòng)部32b的情況下，例如如圖1(d)所示，只要在將移動(dòng)部32b移動(dòng)配置以使不 需成膜區(qū)域e5~e7與除去處理部32對(duì)置的狀態(tài)下使除去液供給機(jī)構(gòu)5及除去液回收機(jī)構(gòu)6 動(dòng)作就可以。
[0137] (動(dòng)作及其他）
[0138]接著，說(shuō)明上述實(shí)施方式的動(dòng)作。
[0139] 首先，如圖1所示，用高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量基板1的表面與移動(dòng)部32a的中央部的距 離h〇
[0140] 并且，高度調(diào)整裝置13根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，使移動(dòng)部32a升降、傾 斜，以使得與移動(dòng)部32a的兩端部的基板1的表面的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。
[0141]然后，以向成膜在基板1上的涂敷膜2接近的方式，例如使移動(dòng)部32a對(duì)置配置。接 著，從除去液供給部5b經(jīng)由除去液供給口 5a將除去液8向基板1上吐出，以使得在移動(dòng)部32a 與成膜有涂敷膜2的基板1的間隙中保持一定量的除去液8,將該狀態(tài)保持規(guī)定時(shí)間。
[0142] 然后，與第1實(shí)施方式的情況同樣，使除去液回收部6b動(dòng)作，經(jīng)由除去液回收口 6a 將基板1上的除去液8回收。
[0143] 被設(shè)定為上述設(shè)定值的距離hl、h2優(yōu)選的是，根據(jù)除去液8的粘度及表面張力等特 性，將移動(dòng)部32a與成膜有涂敷膜2的基板1之間的除去液8以一定寬度保持。
[0144] 這樣，通過(guò)使移動(dòng)部32a、32b動(dòng)作，如圖1(d)所示，僅基板1的不需成膜區(qū)域el~e7 的涂敷膜2被除去。
[0145] 實(shí)施例2
[0146] 以下，通過(guò)各實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0147] (實(shí)施例2-1)
[0148] 作為第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置102的一實(shí)施例，對(duì)在有機(jī)EL顯示器的空穴輸 送層的成膜工序中、在基板1上用狹縫模涂敷形成空穴輸送層的有機(jī)材料、將作為需成膜范 圍的發(fā)光區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0149] 作為涂敷的空穴輸送層材料而使用聚（3，4)亞乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸 (PED0T/PSS)，作為除去液8而使用純水。
[0150] 基板1使用無(wú)堿玻璃0A-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0.7mm，嘗試了將需 成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)的外周四邊的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0151 ]首先，在已洗凈的基板1上將上述空穴輸送層材料以90mm X 90mm的范圍用狹縫模 涂敷后，通過(guò)在減壓干燥下以180°C干燥1小時(shí)，得到了 lOOnm的涂敷膜2。
[0152] 在基板1中使用無(wú)堿玻璃0A-10(日本電氣硝子制）120mmX120mmX0.7mm，嘗試了 設(shè)需成膜范圍為80mmX80mm時(shí)的將外周四邊的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0153] 將空穴輸送層材料的涂敷范圍的中心附近80mmX80mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11的 范圍，將其外周四邊使用圖8所示那樣的具有除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6的涂敷 膜除去裝置主體3進(jìn)行了涂敷膜2的選擇的除去。另外，作為涂敷膜除去裝置主體3,使用除 去處理部32的底面的大小在較短方向上為10mm、在長(zhǎng)邊方向上為100mm的結(jié)構(gòu)。
[0154]此外，作為除去液供給機(jī)構(gòu)5的除去液供給部5b使用注射栗而能夠定量吐出，從而 將被保持在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間的除去液8調(diào)整為除去液8不從除去處理部 32溢出之程度的適當(dāng)量。
[0155] 此外，基板1的表面與除去液供給口 5a的距離hi、和基板1的表面與除去液回收口 6a的距離h2在表1中記載的條件下實(shí)施。另外，根據(jù)安裝在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的附近的度盤式指示表的各自的計(jì)測(cè)值，調(diào)整涂敷膜除去裝置主體3的高度及傾斜，以使 距離hi、h2分別成為設(shè)定值。
[0156] [表 1]
[0157]
[0158] 以下，將上述距離條件下的評(píng)價(jià)結(jié)果表示在表2及表3中。
[0159] [表 2]
[0160]
[0161]距離的液膜形狀的狀況:◎…良好?…尚可(稍稍漫開(kāi)）X:較大地漫開(kāi)
[0162] [表 3]
[0163]
[0164] 除去液回收的狀況:〇…良好Λ:液體回收時(shí)間較長(zhǎng)X:液體回收殘留
[0165] 表2是向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的距離間供給除去液8、評(píng)價(jià)形成液 膜時(shí)的液膜形狀的結(jié)果。
[0166] 如表2中所示，隨著除去液供給口 5a與基板1的表面的距離變大，通過(guò)基板1側(cè)的除 去液8浸潤(rùn)擴(kuò)散，成為下部漫開(kāi)的形狀。該下部漫開(kāi)的形狀在由除去液回收機(jī)構(gòu)6進(jìn)行的回 收時(shí)成為除去液殘留的原因，成為不能得到可靠地將除去液8回收的期望的狀態(tài)的原因。此 外，鑒于除去液8的液膜的形狀，除去液供給口 5a與基板1的表面的距離優(yōu)選的是3.0mm以 下，更優(yōu)選為2.0mm以下。
[0167] 表3是評(píng)價(jià)將向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的間隙供給除去液8而形成 的液膜用噴射器罐吸引時(shí)的除去液8的回收的狀況的結(jié)果。
[0168] 如表3所示，不論基板1的表面與除去液供給口 5a的距離如何，通過(guò)在除去液供給 口 5a及除去液回收口 6a的與基板1的表面的距離的大小上設(shè)置差異，能夠良好地進(jìn)行除去 液8的回收。但是，鑒于在上述距偏差較小的情況下回收較慢而需要時(shí)間這一點(diǎn)，需要適度 的距偏差，具體而言，0.1mm以上可以說(shuō)是更優(yōu)選的條件。
[0169] 此外，在本實(shí)施例中，作為高度計(jì)測(cè)裝置4而使用度盤式指示表，但并不限定于此， 作為高度計(jì)測(cè)裝置4,例如使用激光變位計(jì)等的非接觸方式的計(jì)測(cè)器在傷痕及異物抑制這 一點(diǎn)上更為優(yōu)選。
[0170]此外，除去液回收機(jī)構(gòu)6取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間保持期望 的時(shí)間、并溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，確認(rèn)了保持時(shí)間只要是30秒以上 就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收完而殘留 的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0171] 如上述那樣，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3的掃描，再將掃描方向切換 90度，將需成膜范圍的外周四邊的不需成膜區(qū)域的不需要涂敷膜依次處理，得到了在80mm X80mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)沒(méi)有除去液8向需成膜范圍 的飛散而為期望的狀態(tài)。
[0172] (實(shí)施例2-2)
[0173] 在實(shí)施例2-2中，在實(shí)施例2-1中的表1的（5)所示的條件下，除去液8的溫度條件是 24°C，相對(duì)于此，將該除去液8的溫度條件從24°C變更為30°C，同樣進(jìn)行了涂敷膜2的除去。 另外，除了除去液8的溫度條件以外的其他條件與實(shí)施例2-1的條件相同。
[0174]結(jié)果，相對(duì)于當(dāng)除去液8的溫度為24°C時(shí)能夠?qū)⑼糠竽?以大約30秒除去，當(dāng)除去 液8的溫度為30°C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需要的所需時(shí)間縮短到大約20秒，確認(rèn)了除 去性能的提尚。此外，在將除去液8的溫度進(jìn)一步提尚的情況下，確認(rèn)了除去性能的進(jìn)一步 提尚。
[0175] 但是，如果使溫度比40°C高，則除去性能提高的差異不大，效果變小，而另一方面， 從擔(dān)心蒸氣的影響的方面看，在溫度條件的采用時(shí)需要關(guān)于裝置、材料的考慮。
[0176] (實(shí)施例2-3)
[0177] 在實(shí)施例2-3中，在實(shí)施例2-2中的條件、即實(shí)施例2-1中的表1的（5)所示的條件 下，將除去液8的溫度條件設(shè)為30°C，再一邊通過(guò)作為超聲波振動(dòng)施加裝置14的超聲波振子 對(duì)除去液8施加超聲波振動(dòng)，一邊進(jìn)行由涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行的涂敷膜2的除去。另 外，超聲波振動(dòng)的輸出為50~300W左右，振動(dòng)頻率為30~100kHz左右。
[0178] 結(jié)果，相對(duì)于當(dāng)沒(méi)有施加超聲波振動(dòng)時(shí)能夠?qū)⑼糠竽?以大約20秒除去，通過(guò)施加 超聲波振動(dòng)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需要的所需時(shí)間縮短到15秒，確認(rèn)了除去性能的提 尚。
[0179]因而，由于像這樣能夠可靠地將有機(jī)發(fā)光像素外周部的涂敷膜2除去，所以能夠進(jìn) 行在不需要按照空穴輸送層及空穴注入層等的像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜中采用成膜 簡(jiǎn)單且均勻的涂敷法的高分子有機(jī)EL面板的生產(chǎn)。
[0180]以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例2-1~2-3進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施例限制。 在上述說(shuō)明中，對(duì)有機(jī)EL顯示器進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限定于此。例如，與上述第1實(shí)施方式的 情況同樣，也可以對(duì)液晶用濾色片等別的用途的成膜基板應(yīng)用。
[0181]此外，涂敷膜2并不限定于以空穴輸送層為代表的有機(jī)EL用途的材料，也可以對(duì)感 光性抗蝕劑等別的用途的材料應(yīng)用。
[0182] 此外，除去液8也可以適當(dāng)選擇與該涂敷膜2的材料對(duì)應(yīng)者，堿性顯影液、有機(jī)溶 劑、蝕刻液等也為對(duì)象。
[0183] 〈第3實(shí)施方式〉
[0184] 以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第3實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置103。
[0185] (涂敷膜除去裝置103的整體結(jié)構(gòu)）
[0186] 圖1是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置103的概略結(jié)構(gòu)圖。此外，圖2 是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第3實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置103的動(dòng)作的一例的立體圖。另外，在 圖1(d)中，省略了第3實(shí)施方式的除去液供給口5a及除去液回收口6a的記載。
[0187] 如圖1所示，涂敷膜除去裝置103的結(jié)構(gòu)與第2實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置102的結(jié) 構(gòu)大致相同。即，涂敷膜除去裝置103具備涂敷膜除去裝置主體3、吸附保持將涂敷膜2除去 的對(duì)象的基板1的臺(tái)座10和高度調(diào)整裝置13。此外，第3實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體3與 第2實(shí)施方式的情況同樣，具備移動(dòng)部33a和移動(dòng)部33b。
[0188] 此外，在第3實(shí)施方式的移動(dòng)部33a、33b中，與第2實(shí)施方式的情況同樣，分別設(shè)有 除去處理部33。但是，第3實(shí)施方式的除去處理部33和第2實(shí)施方式的除去處理部32相比，圖 1(d)的Ba-Bb截面中的構(gòu)造不同（參照?qǐng)D9)。
[0189]所以，在第3實(shí)施方式中，主要說(shuō)明除去處理部33的構(gòu)造，與在上述各實(shí)施方式中 說(shuō)明的部分實(shí)質(zhì)上相同的部分省略其說(shuō)明。此外，關(guān)于與在上述各實(shí)施方式中說(shuō)明的動(dòng)作 及工序?qū)嵸|(zhì)上相同的動(dòng)作及工序也省略其說(shuō)明。
[0190] (除去處理部33的結(jié)構(gòu)）
[0191] 圖9是圖1(d)所示的除去處理部33的Ba-Bb截面圖的一例。如圖9所示，除去處理部 33具備除去液供給機(jī)構(gòu)5、除去液回收機(jī)構(gòu)6和除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c。
[0192] 除去液供給機(jī)構(gòu)5具備除去液供給口 5a和向除去液供給口 5a供給除去液的除去液 供給部5b。另外，第3實(shí)施方式的除去液供給部5b由吐出栗構(gòu)成，是非容積栗和容積栗的哪 種都沒(méi)有問(wèn)題。但是，如果考慮包括除去液檢測(cè)后的停止時(shí)的時(shí)滯及閥開(kāi)閉等的誤差，則除 去液供給部5b優(yōu)選為能夠調(diào)整吐出速度。
[0193] 此外，在連續(xù)除去時(shí)，即使是容積栗那樣的定量吐出的供給，也因高度調(diào)整的精度 及除去液8的表面張力粘度而在需要吐出量上發(fā)生偏差。因此，吐出量?jī)?yōu)選的是通過(guò)基于除 去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c的檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行供給量控制來(lái)防止供給過(guò)多、供給不足。
[0194] 作為控制部的控制裝置15接受除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c的兩者檢測(cè)到除去液8時(shí)的 信號(hào)，控制裝置15基于檢測(cè)信號(hào)發(fā)出除去液8的供給停止指令，將供給停止。
[0195] 除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c只要在除去液供給口 5a和除去液回收口 6a的附近的兩端最 少設(shè)置兩個(gè)部位就可以，但也可以為了確認(rèn)液體經(jīng)過(guò)狀況等而設(shè)置兩個(gè)部位以上。
[0196] 此外，除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c通常是紅外線反射器等，但只要是能夠進(jìn)行除去液檢 測(cè)的設(shè)備就可以，并不限于此。
[0197] 除去液回收機(jī)構(gòu)6具備以與基板1上的不需成膜區(qū)域(例如el)對(duì)置的方式配置的 除去液回收口 6a和除去液回收部6b。
[0198] 除去液回收口 6a例如配置在除去處理部33的長(zhǎng)邊方向側(cè)端部附近。
[0199] 除去液回收部6b例如具備栗、噴射器罐等的吸引設(shè)備，通過(guò)使除去液回收部6b動(dòng) 作，將基板1上的除去液8經(jīng)由除去液回收口 6a向除去液回收部6b回收。
[0200] 控制裝置15進(jìn)行通過(guò)噴射器的除去液回收口 6a的回收，直到確認(rèn)到由除去液檢測(cè) 機(jī)構(gòu)5c、6c進(jìn)行的除去液檢測(cè)信號(hào)的解除，在接收到除去液不在的信號(hào)后，發(fā)出除去液8的 回收停止指令而將回收停止。
[0201 ]除去液8的回收量也可以由定量栗或定時(shí)器控制而定量地回收，但優(yōu)選的是用除 去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c確認(rèn)除去液8的有無(wú)。通過(guò)這樣，能夠掌握除去液8的位置，能夠防止液 體殘留及除去液8過(guò)度吸取到除去液供給口 5a，能夠避免連續(xù)除去的除去性的不勻。
[0202](動(dòng)作及其他）
[0203]接著，說(shuō)明上述實(shí)施方式的動(dòng)作。
[0204]首先，如圖1所示，通過(guò)高度計(jì)測(cè)裝置4,測(cè)量基板1表面與移動(dòng)部33a的中央部的距 離h〇
[0205] 并且，高度調(diào)整裝置13根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，使移動(dòng)部33a升降、傾 斜，以使移動(dòng)部33a的兩端部的與基板1的表面的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。
[0206] 然后，以與成膜在基板1上的涂敷膜2接近的方式，例如使移動(dòng)部33a對(duì)置配置。接 著，從除去液供給部5b經(jīng)由除去液供給口 5a將除去液8向基板1上吐出，以在移動(dòng)部33a與成 膜有涂敷膜2的基板1的間隙中保持一定量的除去液8,在由除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c檢測(cè)到除 去液8后將液體吐出停止，將該狀態(tài)保持規(guī)定時(shí)間。
[0207]然后，與上述各實(shí)施方式的情況同樣，將基板1上的除去液8通過(guò)除去液回收機(jī)構(gòu)6 回收。
[0208] 即，控制裝置15使除去液回收部6b動(dòng)作，經(jīng)由除去液回收口6a將基板1上的除去液 8回收。此外，控制裝置15在回收時(shí)間確認(rèn)由除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c得到的除去液檢測(cè)的信 號(hào)為OFF后，將回收停止。
[0209]這樣，通過(guò)使移動(dòng)部33a、33b動(dòng)作，如圖1(d)所示，僅將基板1的不需成膜區(qū)域el~ e7的涂敷膜2除去。
[0210] 實(shí)施例3
[0211] 以下，通過(guò)各實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0212] (實(shí)施例3-1)
[0213] 作為第3實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置103的一實(shí)施例，對(duì)在有機(jī)EL顯示器的空穴輸 送層的成膜工序中、在基板1上用狹縫模涂敷形成空穴輸送層的有機(jī)材料、將作為需成膜范 圍的發(fā)光區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0214]作為涂敷的空穴輸送層材料而使用聚（3，4)亞乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸 (PED0T/PSS)，作為除去液8而使用純水。
[0215] 基板1使用無(wú)堿玻璃0A-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0 · 7mm，嘗試了設(shè)需 成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)的將外周4邊的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0216]首先，在已洗凈的基板1上將上述空穴輸送層材料以90mm X 90mm的范圍用狹縫模 涂敷后，通過(guò)在減壓干燥下以180°C干燥1小時(shí)，得到lOOnm的涂敷膜2。
[0217]將空穴輸送層材料的涂敷范圍的中心附近8〇mmX8〇 mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11的 范圍，將其外周4邊使用圖9所示那樣的具有除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6的涂敷膜 除去裝置主體3進(jìn)行涂敷膜2的有選擇的除去。另外，作為涂敷膜除去裝置主體3,使用除去 處理部33的底面的大小在較短方向?yàn)? Omm、長(zhǎng)邊方向?yàn)?00mm的結(jié)構(gòu)。
[0218] 作為除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c，在除去液供給口 5a內(nèi)側(cè)及除去液回收口 6a內(nèi)側(cè)分別 設(shè)置1點(diǎn)紅外傳感器。設(shè)想因除去液供給部5b和除去液回收部6b的閥開(kāi)閉帶來(lái)的液量變化， 為了防止液量供給過(guò)多，最好在除去液供給口 5a和除去液回收口 6a的內(nèi)側(cè)設(shè)置傳感器。此 外，傳感器的數(shù)量并不限于供給和回收各1點(diǎn)，也可以為了觀測(cè)除去液8的經(jīng)過(guò)狀態(tài)而設(shè)置 多點(diǎn)。
[0219] 此外，作為除去液供給機(jī)構(gòu)5的除去液供給部5b而使用注射栗，將保持在基板1與 涂敷膜除去裝置103的間隙中的除去液8吐出，直到除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)5c、6c的兩者檢測(cè)到并 輸出信號(hào)。控制裝置15在接受到檢測(cè)信號(hào)的同時(shí)將除去液8的供給停止，保持規(guī)定時(shí)間。 [0220]此外，基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的除去液供給口 5a側(cè)的底面的距離 hl、以及與除去液回收口 6a側(cè)的底面的距離h2在表4中記載的條件下實(shí)施。供給間隙是距離 hi，回收間隙是距離h2。另外，根據(jù)安裝在涂敷膜除去裝置主體3的除去液供給口 5a及除去 液回收口 6a附近的度盤式指示表的各自的計(jì)測(cè)值，調(diào)整涂敷膜除去裝置主體3的高度及傾 斜，以使距離hl、h2分別成為設(shè)定值。將供給間隙、供給間隙與回收間隙的差的各自的實(shí)施 條件表不在表4中。
[0221][表 4]
[0222]
[0223] 以下，將上述間隙條件下的評(píng)價(jià)結(jié)果表示在表5及表6中。
[0224] [表 5]
[0225]
[0226] 間隙的液膜形狀的狀況:◎…良好?…尚可(下部稍稍漫開(kāi)）X:下部漫開(kāi)較大
[0227] [表 6]
[0228]
[0229] 除去液回收的狀況:〇…良好Λ:液體回收時(shí)間較長(zhǎng)X:液體回收殘留
[0230] 表5是向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的底面的間隙供給除去液8、評(píng)價(jià)形 成液膜時(shí)的液膜形狀的結(jié)果。通過(guò)隨著除去液供給口 5a側(cè)的基板1的表面的間隙變大而基 板1側(cè)的除去液8浸潤(rùn)擴(kuò)散，成為下部漫開(kāi)的形狀。該下部漫開(kāi)的形狀在由除去液回收機(jī)構(gòu)6 進(jìn)行的回收時(shí)成為除去液殘留的原因，成為不能得到可靠地將除去液8回收的期望的狀態(tài) 的原因。
[0231] 鑒于除去液8的液膜的形狀，由表5可知，除去液供給口 5a的與基板1的表面的間隙 可以說(shuō)優(yōu)選的是3.0mm以下，更優(yōu)選的是2.0mm以下。
[0232] 表6是評(píng)價(jià)向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的底面的間隙供給除去液8而 形成的液膜用噴射器罐吸引時(shí)的除去液8的回收的狀況的結(jié)果。不論除去液供給口 5a的與 基板1的表面的間隙如何，通過(guò)在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的與基板1的表面的間 隙的尺寸的寬度上設(shè)置差異，都能夠良好地進(jìn)行除去液8的回收。但是，如果鑒于在上述間 隙差較小的情況下回收較慢而需要時(shí)間這一點(diǎn)，則需要適度的間隙差，0.1mm以上可以說(shuō)是 更優(yōu)選的條件。
[0233] 此外，在本實(shí)施例中，作為高度計(jì)測(cè)裝置4而使用度盤式指示表，但并不限定于此， 作為高度計(jì)測(cè)裝置4,例如使用激光變位計(jì)等的非接觸方式的計(jì)測(cè)器在傷痕及異物抑制的 方面更為優(yōu)選。
[0234]此外，除去液回收機(jī)構(gòu)6取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間保持了期 望的時(shí)間、并且溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，已經(jīng)確認(rèn)到保持時(shí)間只要是 30秒以上就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收 完而殘留的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0235] 如上述那樣，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行的掃描，再將掃描方向 切換90度，將需成膜范圍的外周4邊的不需成膜區(qū)域的不需要涂敷膜依次處理，得到在80mm X80mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)也沒(méi)有除去液8向需成膜范 圍的飛散而為期望的狀態(tài)。
[0236] (實(shí)施例3-2)
[0237] 在實(shí)施例3-2中，在實(shí)施例3-1中的表4的（5)所示的條件下，除了除去液8的溫度條 件以外的其他條件是與實(shí)施例3-1的相同條件，同樣進(jìn)行涂敷膜2的除去。將結(jié)果表示在表7 中。
[0238] [表 7]
[0239]
[0240] 根據(jù)表7可知，當(dāng)除去液8的溫度為24°C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?以大約30秒除去，相對(duì) 于此，當(dāng)除去液8的溫度為30°C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需要的所需時(shí)間縮短到大約20 秒，確認(rèn)了除去性能的提高。此外，在進(jìn)一步提高了除去液8的溫度的情況下，確認(rèn)了除去性 能的進(jìn)一步的提高。但是，如果使溫度變得比40°C高，則除去性能提高的差異不大，效果變 小，而另一方面，從擔(dān)心蒸氣的影響的方面看，在溫度條件的采用時(shí)需要關(guān)于裝置、材料的 考慮。因而，由于像這樣能夠可靠地將有機(jī)發(fā)光像素外周部的涂敷膜2除去，所以能夠進(jìn)行 在不需要按照空穴輸送層及空穴注入層等的像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜中采用成膜簡(jiǎn) 單且均勻的涂敷法的高分子有機(jī)EL面板的生產(chǎn)。
[0241] 以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例3-1、3-2進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施例限制。 在上述中對(duì)有機(jī)EL顯示器進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限定于此。例如，與上述第1實(shí)施方式的情況 同樣，也可以對(duì)液晶用濾色片等別的用途的成膜基板應(yīng)用。
[0242] 此外，涂敷膜2并不限定于以空穴輸送層為代表的有機(jī)EL用途的材料，也可以對(duì)感 光性抗蝕劑等別的用途的材料應(yīng)用。
[0243] 此外，除去液8也可以選擇與該涂敷膜2的材料對(duì)應(yīng)者，堿性顯影液、有機(jī)溶劑、蝕 刻液等也為對(duì)象。
[0244] 〈第4實(shí)施方式〉
[0245] 以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置104。
[0246](涂敷膜除去裝置104的整體結(jié)構(gòu)）
[0247] 圖1是表示本發(fā)明的第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置104的概略結(jié)構(gòu)圖。此外，圖2 是用來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置104的動(dòng)作的一例的立體圖。另外，在 圖1(d)中，省略了第4實(shí)施方式的除去液供給口5a及除去液回收口6a的記載。
[0248] 如圖1所示，涂敷膜除去裝置104的結(jié)構(gòu)與第1至第3的各實(shí)施方式的涂敷膜除去裝 置101至103的結(jié)構(gòu)大致相同。即，涂敷膜除去裝置104具備涂敷膜除去裝置主體3、吸附保持 將涂敷膜2除去的對(duì)象的基板1的臺(tái)座10和高度調(diào)整裝置13。此外，第4實(shí)施方式的涂敷膜除 去裝置主體3與上述各實(shí)施方式的情況同樣，具備移動(dòng)部34a和移動(dòng)部34b。
[0249] 另外，第4實(shí)施方式的高度調(diào)整裝置13是能夠?qū)⒊ヒ汗┙o口 5a側(cè)的移動(dòng)部34a、 34b的底面19與基板1的表面之間的距離h 1、和除去液回收口 6a側(cè)的底面19與基板1的表面 之間的距離h2分別變更的間隙尺寸調(diào)整裝置。
[0250] 該涂敷膜除去裝置104在具備控制部20這一點(diǎn)上與涂敷膜除去裝置101至103不同 (參照?qǐng)D10)。所以，在第4實(shí)施方式中，主要對(duì)控制部20進(jìn)行說(shuō)明，關(guān)于與在上述各實(shí)施方式 中說(shuō)明的部分實(shí)質(zhì)上相同的部分省略其說(shuō)明。此外，關(guān)于與在上述各實(shí)施方式中說(shuō)明的動(dòng) 作及工序?qū)嵸|(zhì)上相同的動(dòng)作及工序也省略其說(shuō)明。
[0251] (控制部20的結(jié)構(gòu)）
[0252] 圖10是用來(lái)說(shuō)明第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置104的動(dòng)作的一例的立體圖。此 外，圖11是圖1 (d)所示的除去處理部34的Ba-Bb截面圖的一例。
[0253] 如圖10及圖11所示，當(dāng)至少在涂敷膜除去裝置104的底面19與基板1的表面之間存 在除去液8時(shí)，控制部20使高度調(diào)整裝置13對(duì)涂敷膜除去裝置104的底面19進(jìn)行調(diào)整，以使 底面19相對(duì)于基板1的表面在底面19與基板1的表面的對(duì)置方向上成為0.05度以上的傾斜。 另外，底面19是指位于除去液供給口 5a與除去液回收口 6a之間的底面。
[0254] 此外，控制部20可以是，當(dāng)至少在底面19與基板1的表面之間存在除去液8時(shí)，經(jīng)由 高度調(diào)整裝置13將底面19與基板1的表面的間隙設(shè)為3.0mm以下。
[0255] 此外，控制部20可以是，當(dāng)至少在底面19與基板1的表面之間存在除去液8時(shí)，經(jīng)由 高度調(diào)整裝置13對(duì)底面19將底面19相對(duì)于基板1的表面的傾斜變更1次以上。
[0256]此外，控制部20可以是，還具備計(jì)測(cè)基板1的表面與底面19的距離的高度計(jì)測(cè)裝置 4,經(jīng)由高度調(diào)整裝置13根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4的計(jì)測(cè)值來(lái)調(diào)整基板1的表面與底面19的間隙。 [0257]此外，可以具有具備以下部分的控制部20:第1處理部，在從除去液供給口 5a供給 除去液8之前，相對(duì)地將除去液供給口 5a側(cè)的底面19與基板1的表面之間的距離hi設(shè)定得比 除去液回收口 6a側(cè)的底面19與基板1的表面之間的距離h2大;第2處理部，如果判定為從除 去液供給口 5a吐出了除去液8，則以預(yù)先設(shè)定的次數(shù)，對(duì)底面19將底面19相對(duì)于基板1的表 面的傾斜交替地改變傾斜度;第3處理部，如果判定為從除去液回收口 6a將除去液8回收，則 相對(duì)地將除去液供給口 5a側(cè)的底面19與基板1的表面之間的距離hi設(shè)定得比除去液回收口 6a側(cè)的底面19與基板1的表面之間的距離h2小。
[0258] 另外，除去液供給部5b與上述各實(shí)施方式同樣，由能夠定量吐出的注射栗等構(gòu)成。 此外，在第4實(shí)施方式中，使用除去液供給部5b將一定量的除去液8經(jīng)由除去液供給口5a向 基板1上吐出以成為液滴形狀。
[0259] (動(dòng)作及其他）
[0260]接著，說(shuō)明上述實(shí)施方式的動(dòng)作。
[0261 ]首先，如圖1所示，由高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量基板1的表面與移動(dòng)部34a的中央部的距 離h。高度調(diào)整裝置13根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，使移動(dòng)部34a升降、傾斜，以使移 動(dòng)部34a的兩端部的與基板1的表面的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。然后，例如使移動(dòng)部 34a對(duì)置配置以接近于成膜在基板1上的涂敷膜2。接著，從除去液供給部5b經(jīng)由除去液供給 口 5a將除去液8向基板1上吐出而成為液滴形狀，以在移動(dòng)部34a與成膜有涂敷膜2的基板1 的間隙中保持一定量的除去液8。
[0262]被設(shè)定為上述設(shè)定值的距離hl、h2優(yōu)選的是，根據(jù)除去液8的粘度及表面張力等特 性，將移動(dòng)部34a與成膜有涂敷膜2的基板1之間的除去液8以一定寬度保持液滴(3mm以下）。
[0263] 此時(shí)，被吐出的液滴形狀的除去液8從間隙尺寸較寬的hi朝向間隙尺寸較窄的h2 移動(dòng)。
[0264] 除去液8到達(dá)除去液回收口 6a，在經(jīng)過(guò)了所設(shè)定的一定時(shí)間后，通過(guò)與剛才相反地 使除去液供給口 5a的高度下降h2、相反使除去液回收口6a的高度上升hi，除去液8進(jìn)一步在 涂敷膜除去裝置104的寬度方向（X軸方向）上流動(dòng)，使不需要涂敷膜的溶解性或剝離性提 高。此時(shí)，除去液供給口 5a的高度和除去液回收口 6a的高度沒(méi)有被規(guī)定為預(yù)先設(shè)定的hi和 h2,只要以蹺蹺板狀交替地改變高度而使其具有傾斜就可以，不需要設(shè)為相同的高度。
[0265] 將該動(dòng)作多次重復(fù)交替地改變，如果經(jīng)過(guò)了推測(cè)涂敷膜2會(huì)溶解或剝離的時(shí)間，則 將在移動(dòng)部34a與基板1之間與涂敷膜2混合的除去液8通過(guò)除去液回收機(jī)構(gòu)6回收并排出。 即，使除去液回收部6b動(dòng)作，經(jīng)由除去液回收口6a將基板1上的除去液8回收。
[0266] 由此，進(jìn)行存在于基板1上的不需成膜區(qū)域el~e7中的涂敷膜2的除去，能夠得到 更潔凈的基板1的表面。此外，與吐出除去液8而成為液膜、在放置一定時(shí)間后將除去液8回 收的方法相比能夠減少除去液量。
[0267] 這樣，通過(guò)使移動(dòng)部34a、34b動(dòng)作，如圖1(d)所示那樣僅將基板1的不需成膜區(qū)域 el~e7的涂敷膜2除去。
[0268] 另外，第4實(shí)施方式的除去液回收工序與在上述各實(shí)施方式中說(shuō)明的工序是同樣 的。
[0269] 實(shí)施例4
[0270] 以下，通過(guò)各實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0271](實(shí)施例4-1)
[0272]作為第4實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置104的一實(shí)施例，對(duì)在有機(jī)EL顯示器的空穴輸 送層的成膜工序中、在基板1上用狹縫模涂敷形成空穴輸送層的有機(jī)材料、將作為需成膜范 圍的發(fā)光區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0273]作為涂敷的空穴輸送層材料而使用聚（3，4)亞乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸 (PED0T/PSS)，作為除去液8而使用純水。
[0274] 基板1使用無(wú)堿玻璃0A-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0.7mm，嘗試了將需 成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)的外周4邊的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0275] 首先，通過(guò)在已洗凈的基板1上將空穴輸送層材料以90mm X 90mm的范圍通過(guò)狹縫 模涂敷后，在減壓干燥下以180°C干燥1小時(shí)，得到100nm的涂敷膜2。
[0276] 將空穴輸送層材料的涂敷范圍的中心附近80mmX80mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11的 范圍，將其外周4邊通過(guò)圖11所示那樣的具有除去液供給機(jī)構(gòu)5和除去液回收機(jī)構(gòu)6的涂敷 膜除去裝置主體3進(jìn)行了涂敷膜2的有選擇的除去。另外，涂敷膜除去裝置主體3使用除去處 理部34的底面的大小在較短方向?yàn)? Omm、在長(zhǎng)邊方向?yàn)?00mm的結(jié)構(gòu)。
[0277] 此外，作為除去液供給機(jī)構(gòu)5的除去液供給部5b而使用能夠定量吐出的注射栗，調(diào) 整為0.4ml的吐出量，以使保持在基板1與涂敷膜除去裝置主體3的間隙中的除去液8成為液 滴。
[0278]此外，基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的除去液供給口 5a下端的距離hl、以 及與除去液回收口 6a下端的距離h2在表8中記載的條件下實(shí)施。另外，根據(jù)安裝在涂敷膜除 去裝置主體3的除去液供給口 5a及除去液回收口 6a附近的度盤式指示表的各自的計(jì)測(cè)值調(diào) 整涂敷膜除去裝置主體3的高度、傾斜，以分別成為距離hl、h2的設(shè)定值，在從除去液供給口 5a吐出液滴后，將距離hi和距離h2的高度替換，使液滴移動(dòng)。并且，再次使除去液供給口 5a、 除去液回收口 6a的距離回到hi、h2后，使除去液8回收。
[0279] [表 8]
[0280]
[0281 ]以下，將上述間隙條件下的評(píng)價(jià)結(jié)果表示在表9及表10中。
[0282][表 9]
[0283]
[0284] 清洗性：〇…良好X:較差
[0285] [表 10]
[0286]
[0287] 間隙的液膜形狀的狀況:◎…良好?…尚可(下部稍稍漫開(kāi)）X:下部漫開(kāi)較大
[0288] 表9是評(píng)價(jià)將向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的間隙供給除去液8而形成 的液膜用噴射器罐吸引時(shí)的除去液8的回收的狀況的結(jié)果。根據(jù)表9可知，不論除去液供給 口 5a的與基板1的表面的間隙如何，通過(guò)在除去液供給口 5a及除去液回收口 6a的與基板1的 表面的間隙的大小上設(shè)置差異，都能夠良好地進(jìn)行除去液8的回收。但是，鑒于在上述間隙 差較小的情況下回收較慢而需要時(shí)間這一點(diǎn)，需要適度的間隙差，具體而言，0.1mm以上可 以說(shuō)是更優(yōu)選的條件。
[0289] 表10是評(píng)價(jià)向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的間隙供給除去液8而形成液 膜時(shí)的液膜形狀的結(jié)果。根據(jù)表10可知，通過(guò)隨著除去液供給口 5a側(cè)的基板1的表面的間隙 變大而基板1側(cè)的除去液8浸潤(rùn)擴(kuò)散，成為下部漫開(kāi)的形狀。該下部漫開(kāi)的形狀在由除去液 回收機(jī)構(gòu)6進(jìn)行的回收時(shí)成為除去液殘留的原因，成為不能得到可靠地將除去液8回收的期 望的狀態(tài)的原因。鑒于除去液8的液膜的形狀，除去液供給口5a處的基板1的表面的間隙可 以說(shuō)優(yōu)選的是3.0mm以下，更優(yōu)選的是2.0mm以下。
[0290] 此外，在本實(shí)施例中，作為高度計(jì)測(cè)裝置4而使用度盤式指示表，但并不限定于此， 使用激光變位計(jì)等的非接觸方式的計(jì)測(cè)器在傷痕及異物抑制的方面更為優(yōu)選。
[0291] 此外，除去液回收機(jī)構(gòu)6取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間保持了期 望的時(shí)間并溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，確認(rèn)了保持時(shí)間只要是30秒以上 就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收完而殘留 的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0292]通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3的掃描，再將掃描方向切換90度，將需成 膜范圍的外周4邊的不需成膜區(qū)域的不需要涂敷膜依次處理，得到在80mmX80mm的需成膜 范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)也沒(méi)有除去液8向需成膜范圍的飛散而為期 望的狀態(tài)。
[0293] (實(shí)施例4-2)
[0294] 在實(shí)施例4-2中，相對(duì)于在實(shí)施例4-1的表8的（5)所示的條件下除去液8的溫度條 件是24°C，將該除去液8的溫度條件從24°C變更為30°C而同樣進(jìn)行了涂敷膜2的除去。另外， 除了除去液8的溫度條件以外的其他條件與實(shí)施例4-1的條件相同。
[0295] 結(jié)果，相對(duì)于當(dāng)除去液8的溫度為24°C時(shí)能夠?qū)⑼糠竽?以大約30秒除去，當(dāng)除去 液8的溫度為30°C時(shí)，能夠?qū)⑼糠竽?的除去所需要的所需時(shí)間縮短到大約20秒，確認(rèn)了除 去性能的提尚。此外，在將除去液8的溫度進(jìn)一步提尚的情況下，確認(rèn)了除去性能的進(jìn)一步 提高。但是，如果使溫度比40°C高，則除去性能提高的差異不大，效果變小，而另一方面，從 擔(dān)心蒸氣的影響的方面看，在溫度條件的采用時(shí)需要關(guān)于裝置、材料的考慮。
[0296] 因而，由于像這樣能夠可靠地將有機(jī)發(fā)光像素外周部的涂敷膜2除去，所以能夠進(jìn) 行在不需要按照空穴輸送層及空穴注入層等的像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜中采用成膜 簡(jiǎn)單且均勻的涂敷法的高分子有機(jī)EL面板的生產(chǎn)。
[0297] 以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例4-1，4_2進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施例限制。 在上述中對(duì)有機(jī)EL顯示器進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限定于此。例如，與上述第1實(shí)施方式的情況 同樣，也可以對(duì)液晶用濾色片等別的用途的成膜基板應(yīng)用。
[0298] 此外，涂敷膜2并不限定于以空穴輸送層為代表的有機(jī)EL用途的材料，也可以對(duì)感 光性抗蝕劑等別的用途的材料應(yīng)用。
[0299] 此外，除去液也可以選擇與該涂敷膜2的材料對(duì)應(yīng)者，堿性顯影液、有機(jī)溶劑、蝕刻 液等也為對(duì)象。
[0300] 〈第5實(shí)施方式〉
[0301] 以下，參照【附圖說(shuō)明】本發(fā)明的第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置105。
[0302](涂敷膜除去裝置105的整體結(jié)構(gòu)）
[0303] 圖12是說(shuō)明第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖。此外，圖13是表示第 5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體的正視圖，俯視圖及側(cè)視圖。此外，圖14是用來(lái)說(shuō)明第5實(shí) 施方式的涂敷膜除去裝置的動(dòng)作的一例的立體圖。此外，圖15是說(shuō)明第5實(shí)施方式的涂敷膜 除去裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。
[0304] 如圖12(a)及圖14所示，涂敷膜除去裝置105分別具備涂敷膜除去裝置主體3、將被 除去涂敷膜2的基板1吸附保持的臺(tái)座10、高度計(jì)測(cè)裝置4和高度調(diào)整裝置13。此外，涂敷膜 除去裝置主體3由在圖12(a)中沿著臺(tái)座10的X軸方向移動(dòng)而對(duì)基板1將Y軸方向和X軸方向 的涂敷膜2除去的移動(dòng)部35a、和在圖12 (a)中在臺(tái)座10的Y軸方向上移動(dòng)、將基板1的X軸方 向和Y軸方向的涂敷膜2除去的移動(dòng)部35b構(gòu)成。
[0305]移動(dòng)部35a以在Y軸方向上橫跨被吸附保持在臺(tái)座10上的基板1的方式沿著臺(tái)座10 的Y軸方向配置。移動(dòng)部35a的表面的形狀(平面形狀）由于需要成膜區(qū)域11形成為格狀，所 以如圖12(a)、圖13及圖14所示，在X-Y平面中呈與X軸方向及Y軸方向平行地正交的L字型。 即，呈能夠?qū)⒕匦蔚男枰赡^(qū)域11的4邊中的2邊同時(shí)涂敷膜除去處理的形狀。
[0306]移動(dòng)部35a如圖15(a)及圖15(b)所示，具備除去液供給機(jī)構(gòu)51、52和除去液回收機(jī) 構(gòu)61。
[0307]除去液供給機(jī)構(gòu)51、52分別具備除去液供給口 5 la、52a和向除去液供給口 5 la、52a 供給除去液8的除去液供給部51b、52b。此外，除去液回收機(jī)構(gòu)61具備除去液回收口 61a和經(jīng) 由除去液回收口 6 la將除去液8回收的除去液回收部6 lb。
[0308]除去液供給口 51a、52a如圖13所示，分別設(shè)在移動(dòng)部35a的以L字正交的邊的端部 附近。此外，除去液回收口61a設(shè)在移動(dòng)部35a的以L字正交的角部附近。除去液供給口 51a、 52a及除去液回收口 61a對(duì)置于基板1、以在Z軸方向上將除去處理部35貫通的方式設(shè)置。 [0309]此外，如圖13所示，除去液供給口 5 la和除去液回收口 61 a以移動(dòng)部35a的底面?zhèn)?(圖14所示的Z軸負(fù)方向側(cè)）的開(kāi)口部具有XI的角度的傾斜的方式設(shè)置。進(jìn)而，除去液供給口 51a和除去液回收口 61a以移動(dòng)部35a的底面?zhèn)鹊拈_(kāi)口部具有X2的角度的傾斜的方式設(shè)置。 這樣的除去處理部35的底面的傾斜遍及移動(dòng)部35a的底面整體設(shè)置。即，在移動(dòng)部35a的L字 型形狀中，在X軸方向上延伸的較短的邊的底面相對(duì)于X-Y平面在X軸方向上具有XI的傾斜， 在Y軸方向上延伸的較長(zhǎng)的邊的底面相對(duì)于X-Y平面在Y軸方向上具有X2的傾斜。此時(shí)，如圖 15(a)所示，設(shè)定角度XI，以使移動(dòng)部35a的Y軸負(fù)方向側(cè)端部的底面與涂敷有涂敷膜2的基 板1的表面的距離h2相對(duì)于移動(dòng)部35a的Y軸正方向側(cè)端部的底面與涂敷有涂敷膜2的基板1 的表面的距離hi較小。同樣，設(shè)定角度X2,以使移動(dòng)部35a的X軸正方向側(cè)端部的底面與涂敷 有涂敷膜2的基板1的表面的距離h3相對(duì)于移動(dòng)部35a的X軸負(fù)方向側(cè)端部的底面與涂敷有 涂敷膜2的基板1的表面的距離h2較小。
[0310]除去液供給部51b、52b由能夠定量吐出的注射栗等構(gòu)成，將一定量的除去液8經(jīng)由 除去液供給口 51 a、52a向基板1上吐出。此外，除去液回收部61 b具備噴射器罐等的吸引設(shè) 備，通過(guò)使該除去液回收部61b動(dòng)作，基板1上的除去液8經(jīng)由除去液回收口61a被除去液回 收部61b回收。移動(dòng)部35a通過(guò)除去液供給部51b、52b動(dòng)作，將除去液8從除去液供給部51b、 52b向除去液供給口 51a、52a供給，從除去液供給口 51a、52a的基板1側(cè)的開(kāi)口端將除去液8 向基板1上吐出。此外，移動(dòng)部35a通過(guò)除去液回收部61b動(dòng)作，將從除去液供給部51b、52b吐 出的除去液8從除去液回收口 6 la回收。
[0311]高度計(jì)測(cè)裝置4被移動(dòng)部35a的Y軸方向中央的X軸正方向側(cè)端部支承，測(cè)量基板1 表面與移動(dòng)部35a的X軸方向中央部的底面的距離h。
[0312] 高度調(diào)整裝置13設(shè)在移動(dòng)部35a的Y軸方向兩端部，根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的 距離h使移動(dòng)部35a升降，以使移動(dòng)部35a的Y軸方向兩端部的與基板1的表面的距離h2、h3成 為預(yù)先設(shè)定的值。
[0313] 移動(dòng)部35a與上述各實(shí)施方式的移動(dòng)部31a~34a同樣，例如通過(guò)在臺(tái)座10的Y軸方 向的兩側(cè)沿著X軸方向配置的導(dǎo)引部及升降機(jī)構(gòu)（都未圖示）而在X軸方向及Z軸方向上移 動(dòng)。由此，例如如圖14及圖15所示，在將基板1的表面和移動(dòng)部35a保持規(guī)定的距離h的狀態(tài) 下，移動(dòng)部35a在基板1的X軸方向上移動(dòng)。另外，在第5實(shí)施方式中，升降機(jī)構(gòu)構(gòu)成高度調(diào)整 裝置13。升降機(jī)構(gòu)也可以配置在移動(dòng)部35a的沿著Y軸的直線部分的Y軸方向的兩側(cè)，構(gòu)成高 度調(diào)整裝置13。
[0314] 移動(dòng)部35b形成為，相對(duì)于移動(dòng)部35a，X_Y平面中的L字型的形狀為反轉(zhuǎn)的狀態(tài)，但 關(guān)于其以外的結(jié)構(gòu)與移動(dòng)部35a是同樣的。即，如圖12(a)所示，移動(dòng)部35a形成為，在X-Y平 面中，較長(zhǎng)的邊從L字型的角部向Y軸負(fù)方向延伸，較短的邊從L字型的角部向X軸正方向側(cè) 延伸。相對(duì)于此，移動(dòng)部35b形成為，在X-Y平面中，較長(zhǎng)的邊從L字型的角部向X軸負(fù)方向延 伸，較短的邊從L字型的角部向Y軸正方向側(cè)延伸。
[0315] 在第5實(shí)施方式中，矩形的需要成膜區(qū)域11配置為格狀。與此匹配，移動(dòng)部35b在俯 視中在與移動(dòng)部35a反轉(zhuǎn)的方向上配置。即，移動(dòng)部35b以跨過(guò)吸附保持在臺(tái)座10上的基板1 的方式，沿著臺(tái)座10的X軸方向配置。并且，在涂敷膜除去處理時(shí)，基于由固定在移動(dòng)部35a 上的高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h，支承移動(dòng)部35b的高度調(diào)整裝置13使移動(dòng)部35b升降， 以使基板1的表面與移動(dòng)部35b的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。移動(dòng)部35b例如通過(guò)在臺(tái)座 10的X軸方向的兩側(cè)沿著Y軸方向配置的導(dǎo)引部及升降機(jī)構(gòu)(都未圖示)在Y軸方向及Z軸方 向上移動(dòng)。由此，移動(dòng)部35b在基板1的Y軸方向上掃描。即，移動(dòng)部35a、35b只要能夠在X軸方 向及Y軸方向的兩方向上移動(dòng)就可以。另外，本實(shí)施方式中的升降機(jī)構(gòu)與上述各實(shí)施方式的 升降機(jī)構(gòu)是同樣的。
[0316] 移動(dòng)部35a、35b通過(guò)未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置沿著基板1移動(dòng)。移動(dòng)部35a、35b沿著基板1 移動(dòng)，使移動(dòng)部35a、35b重疊在各不需成膜區(qū)域上，將重疊的不需成膜區(qū)域el~e7的涂敷膜 2分別除去。
[0317] 圖12(b)表示移動(dòng)部35a依次移動(dòng)到與不需成膜區(qū)域e3及不需成膜區(qū)域e4的一部 分對(duì)應(yīng)的位置的狀態(tài)。此外，圖12(d)表示由移動(dòng)部35a、35b將不需成膜區(qū)域el~e7除去后 的狀態(tài)。
[0318] 另外，使用移動(dòng)部35a、35b的涂敷膜2的除去工序與在上述各實(shí)施方式中說(shuō)明的涂 敷膜2的除去工序是同樣的。
[0319] 此外，移動(dòng)部35a、35b具有相同結(jié)構(gòu)，但也可以為基板1的表面與移動(dòng)部35a、35b之 間的距離hl、h2不同的設(shè)定。
[0320] 這樣，第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置主體3通過(guò)在移動(dòng)配置為使不需成膜區(qū)域el ~e7的一部分與除去處理部35對(duì)置的狀態(tài)下使除去液供給機(jī)構(gòu)51、52及除去液回收機(jī)構(gòu)61 動(dòng)作，能夠防止除去液8流出到不需成膜區(qū)域el~e7的外側(cè)，同時(shí)將除去液8向不需成膜區(qū) 域el~e7吐出并將除去液8回收。
[0321] (動(dòng)作及其他）
[0322]接著，說(shuō)明上述實(shí)施方式的動(dòng)作。
[0323] 首先，如圖12(a)所示，由高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量基板1的表面與移動(dòng)部35a的中央部 的距離h。高度調(diào)整裝置13根據(jù)高度計(jì)測(cè)裝置4測(cè)量出的距離h使移動(dòng)部35a升降，以使移動(dòng) 部35a的Y軸方向的兩端部的與基板1的表面的距離hl、h2成為預(yù)先設(shè)定的值。另外，距離hl、 h2優(yōu)選的是設(shè)為將移動(dòng)部35a與成膜有涂敷膜2的基板1之間的除去液8根據(jù)除去液8的粘度 及表面張力等的特性以一定寬度保持的距離。
[0324] 接著，例如使移動(dòng)部35a對(duì)置于基板1配置，以使其與成膜在基板1上的涂敷膜2接 近。然后，從除去液供給部5 lb、52b經(jīng)由除去液供給口 5 la、52a將除去液8向基板1上分別吐 出，以在移動(dòng)部35a與成膜有涂敷膜2的基板1的間隙中保持一定量的除去液8，將該狀態(tài)保 持規(guī)定時(shí)間。另外，所謂規(guī)定時(shí)間，是涂敷膜2足以通過(guò)除去液8溶解或剝離的時(shí)間。
[0325] 進(jìn)而，通過(guò)在各不需成膜區(qū)域el~e7上將除去液8保持規(guī)定時(shí)間，涂敷膜2溶解或 剝離。并且，如果經(jīng)過(guò)了推測(cè)涂敷膜2溶解或剝離的時(shí)間，則將在移動(dòng)部35a與基板1之間與 涂敷膜2混合的除去液8通過(guò)除去液回收部61b回收并排出。即，使除去液回收部61b動(dòng)作，經(jīng) 由除去液回收口 61a將基板1上的除去液8回收。通過(guò)反復(fù)進(jìn)行這樣的除去液8的供給和回 收，進(jìn)行存在于基板1上的不需成膜區(qū)域el~e7中的涂敷膜2的除去，能夠得到更潔凈的基 板表面。
[0326] 然后，將該操作如圖12(a)及圖12(b)所示那樣，一邊使移動(dòng)部35a在左右方向上移 動(dòng)一邊在各地點(diǎn)也同樣進(jìn)行。由此，由移動(dòng)部35a進(jìn)行的在基板1的前后方向上延伸的不需 成膜區(qū)域el~e4的涂敷膜2的除去結(jié)束(參照?qǐng)D16)。
[0327] 接著，如圖12(c)所示，一邊使移動(dòng)部35b在Y軸方向上移動(dòng)，一邊在各地點(diǎn)對(duì)基板1 的不需成膜區(qū)域e5~e7的涂敷膜2以同樣的次序進(jìn)行涂敷膜2的除去。
[0328]這樣，通過(guò)使移動(dòng)部35a、35b動(dòng)作，如圖12(d)所示，僅將基板1的不需成膜區(qū)域el ~e7的涂敷膜2除去。
[0329] 此外，通過(guò)使吐出的除去液8的溫度為30°C以上40°C以下的范圍內(nèi)，能夠使涂敷膜 2效率良好地溶解，能夠?qū)崿F(xiàn)處理時(shí)間的縮短和更可靠的涂敷膜2的除去。
[0330] (變形例）
[0331] 以上，參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不限 定于這樣的例子。應(yīng)了解的是，只要是具有本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域中的通常的知識(shí)的人，就 顯然能夠在權(quán)利要求書(shū)所記載的技術(shù)思想的范疇內(nèi)想到各種變更例或修正例，關(guān)于這些也 當(dāng)然屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍。
[0332] 例如，在上述實(shí)施方式中，除去液供給口 51a、52a配置在除去處理部35的端部，除 去液回收口 61a配置在除去處理部35的角部，但除去液供給口 51a、52a及除去液回收口 61a 的位置和個(gè)數(shù)并不限定于這樣的例子。即，只要滿足除去處理部35的底面和基板1的表面的 間隙的條件，例如也可以在與圖13不同的位置裝備多個(gè)部位。
[0333]此外，角度XI和角度X2也可以設(shè)定不同的設(shè)定。
[0334] 此外，高度計(jì)測(cè)裝置4也可以不固定在移動(dòng)部35a的除去處理部35上，而固定在移 動(dòng)部35b的除去處理部35上。進(jìn)而，例如也可以以將在臺(tái)座10的Y軸方向的兩側(cè)沿著X軸方向 配置的導(dǎo)引部(未圖示)作為導(dǎo)引在X軸方向上移動(dòng)的方式獨(dú)立地掃描。此外，例如也可以以 將在臺(tái)座10的X軸方向的兩側(cè)沿著Y軸方向配置的導(dǎo)引部(未圖示)作為導(dǎo)引在Y軸方向上移 動(dòng)的方式掃描。即，只要如以下這樣構(gòu)成就可以：測(cè)量移動(dòng)部35a、35b的除去處理部35與基 板1的表面(涂敷膜表面)的距離h，能夠基于該測(cè)量值由高度調(diào)整裝置13進(jìn)行高度調(diào)整以使 與基板1的表面的距離hi、h2成為設(shè)定值。
[0335] 此外，除去液供給部51b、52b及除去液回收部61b也可以與除去處理部35分體地設(shè) 置，經(jīng)由可變形的除去液供給用管將除去液供給部51b與除去液供給口 51a連接。與此同樣， 也可以經(jīng)由可變形的除去液回收用管將除去液供給部52b與除去液供給口 52a連接、將除去 液回收部61b與除去液回收口61a連接。此外，也可以將這些除去液供給部51b、52b及除去液 回收部61b與涂敷膜除去裝置主體3另外地設(shè)置。
[0336] 此外，在上述實(shí)施方式中，除去處理部35在X-Y平面中具有L字型的形狀，但本發(fā)明 并不限定于這樣的例子。例如，也可以是在X軸或Y軸的某個(gè)方向上延伸的形狀。此時(shí)，除去 液供給機(jī)構(gòu)51、52及除去液回收機(jī)構(gòu)61也可以在長(zhǎng)邊方向的兩端部附近分別各設(shè)置1個(gè)部 位。
[0337] 實(shí)施例5
[0338] 以下，通過(guò)各實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。
[0339] (實(shí)施例5-1)
[0340]作為第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置105的一實(shí)施例，對(duì)在有機(jī)EL顯示器的空穴輸 送層的成膜工序中、在基板1上用狹縫模涂敷形成空穴輸送層的有機(jī)材料、將作為需成膜范 圍的發(fā)光區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜2除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0341]作為涂敷的空穴輸送層材料而使用聚（3，4)亞乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸 (PED0T/PSS)，作為除去液而使用純水。
[0342] 基板1使用無(wú)堿玻璃0Α-10 (日本電氣硝子制）120mm X 120mm X 0.7mm，嘗試了將需 成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)的外周4邊的不需要的涂敷膜2有選擇地除去。
[0343] 首先，通過(guò)在已洗凈的基板1上將空穴輸送層材料以90mm X 90mm的范圍用狹縫模 涂敷后，在減壓干燥下以180°C干燥1小時(shí)，得到了 100nm的涂敷膜2。
[0344] 將空穴輸送層材料的涂敷范圍的中心附近80mmX80mm設(shè)想為需要成膜區(qū)域11的 范圍，將該4邊的外周的涂敷膜2使用涂敷膜除去裝置主體3有選擇地除去。本實(shí)施例的涂敷 膜除去裝置主體3具備向一方向延伸的除去處理部35。除去處理部35如圖17(a)所示，在長(zhǎng) 邊方向的兩端部分別各具有1個(gè)部位的除去液供給口 51a和除去液回收口 61a。在除去液供 給口 51a及除去液回收口 61a的上側(cè)(Z軸正方向側(cè)），例如如圖18所示，分別設(shè)有除去液供給 部51b及除去液回收部61b，形成除去液供給機(jī)構(gòu)51及除去液回收機(jī)構(gòu)61。除去處理部35使 用較短方向?yàn)? 〇_、長(zhǎng)邊方向?yàn)? 〇〇_的結(jié)構(gòu)。
[0345] 此外，通過(guò)作為除去液供給機(jī)構(gòu)51的除去液供給部5 lb而使用注射栗，通過(guò)能夠定 量吐出，將保持在基板1與涂敷膜除去裝置主體3的間隙中的除去液8調(diào)整為除去液8不從除 去處理部35溢出之程度的適當(dāng)量。
[0346]此外，基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的除去液供給口 51a下端的距離hl、以 及與除去液回收口 61a下端的距離h2在表11中記載的條件下實(shí)施。另外，根據(jù)安裝在涂敷膜 除去裝置主體3的除去液供給口51a及除去液回收口61a附近的度盤式指示表的各自的計(jì)測(cè) 值調(diào)整涂敷膜除去裝置主體3的高度、傾斜，以分別成為距離hl、h2的設(shè)定值。
[0347][表 11]
[0348]
[0349] 以下，將上述間隙條件下的評(píng)價(jià)結(jié)果表示在表12及表13中。
[0350] [表 12]
[0351]
[0352] 間隙的液膜形狀的狀況:◎…良好?…尚可(下部稍稍漫開(kāi)）X:下部漫開(kāi)較大
[0353] [表 13]
[0354]
[0355] 除去液回收的狀況:〇…良好Λ:液體回收時(shí)間較長(zhǎng)X:液體回收殘留
[0356] 表12是評(píng)價(jià)向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的間隙供給除去液8而形成液 膜時(shí)的液膜形狀的結(jié)果。通過(guò)隨著除去液供給口 51a處的基板1的表面的間隙變大而基板1 側(cè)的除去液8浸潤(rùn)擴(kuò)散，成為下部漫開(kāi)的形狀。該下部漫開(kāi)的形狀在由除去液回收機(jī)構(gòu)61進(jìn) 行的回收時(shí)成為除去液殘留的原因，成為不能得到可靠地將除去液8回收的期望的狀態(tài)的 原因。鑒于除去液8的液膜的形狀，除去液供給口51a處的基板1的表面的間隙可以說(shuō)優(yōu)選的 是3. Omm以下，更優(yōu)選的是2. Omm以下。
[0357] 表13是評(píng)價(jià)將向基板1的表面與涂敷膜除去裝置主體3的間隙供給除去液8而形成 的液膜通過(guò)噴射器罐吸引時(shí)的除去液8的回收的狀況的結(jié)果。不論除去液供給口 51a處的基 板1的表面的間隙如何，通過(guò)在除去液供給口 51a及除去液回收口 61a處的基板1的表面的間 隙的大小上設(shè)置差異，都能夠良好地進(jìn)行除去液8的回收。但是，鑒于在上述間隙差較小的 情況下回收較慢而需要時(shí)間這一點(diǎn)，需要適度的間隙差，0.1mm以上可以說(shuō)是更優(yōu)選的條 件。
[0358] 此外，在本實(shí)施例中作為高度計(jì)測(cè)裝置4而使用度盤式指示表，但并不限定于此， 使用激光變位計(jì)等的非接觸方式的計(jì)測(cè)器在傷痕及異物抑制的方面更為優(yōu)選。
[0359] 此外，除去液回收機(jī)構(gòu)61取排氣，將在基板1與涂敷膜除去裝置主體3之間被以期 望的時(shí)間保持、溶解了空穴輸送層材料的除去液8回收。另外，確認(rèn)了保持時(shí)間只要是30秒 以上就能大體上將涂敷膜2除去，但通過(guò)將同樣的動(dòng)作再重復(fù)1次，能夠?qū)](méi)有被回收完而 殘留的材料可靠地去除，能夠期待更良好的潔凈度。
[0360]使涂敷膜除去裝置主體3如圖17(a)及圖17(b)所示，在除去處理部35的長(zhǎng)邊方向 與X軸為平行的狀態(tài)下平行于Y軸方向反復(fù)掃描，進(jìn)而在設(shè)為除去處理部35的長(zhǎng)邊方向與Y 軸為平行的狀態(tài)后，平行于X軸方向而反復(fù)掃描。這樣，通過(guò)將由圖20(a)及圖20(b)的斜線 區(qū)域表示的需成膜范圍的外周4邊的不需成膜區(qū)域^、^、 65、66的不需要的涂敷膜2依次處 理，得到在80mmX 80mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)也沒(méi)有除去 液8向需要成膜區(qū)域11的飛散而為期望的狀態(tài)。
[0361] (實(shí)施例5-2)
[0362] 在實(shí)施例5-2中，由于需要成膜區(qū)域11是長(zhǎng)方形形狀，所以通過(guò)具有與能夠?qū)蓚€(gè) 邊同時(shí)除去的除去處理部35(與圖13及圖14同樣的L字型形狀)的表面形狀的涂敷膜除去裝 置主體3進(jìn)行涂敷膜2的除去。此時(shí)的涂敷膜除去裝置主體3的除去處理部35的底面的大小 使從L字型的角部分別延伸的兩邊分別為100mm，使各邊的寬度為1 Omm。此外，除去液供給口 51a、52a和除去液回收口61a各自與基板1的距離hi~3基于實(shí)施例5-1的表11的（5)所示的 條件。
[0363] 與實(shí)施例5-1同樣，在基板1中使用無(wú)堿玻璃0A-10(日本電氣硝子制）120mmX 120mm XO. 7mm，嘗試了使需成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)將的外周4邊的不需要的涂敷膜2匹配 于除去處理部35的形狀將兩邊同時(shí)除去。
[0364] 通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3的掃描、再將掃描方向切換180度、將需 成膜范圍的外周4邊的不需成膜區(qū)域61、 62、65^6的不需要的涂敷膜2依次處理，得到在 80mm X 80mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)也沒(méi)有除去液8向需成 膜范圍的飛散而為期望的狀態(tài)。
[0365] 在本實(shí)施例中，通過(guò)能夠?qū)⑿璩赡し秶耐庵?邊的不需成膜區(qū)域61、62、65、 66的 不需要的涂敷膜2兩邊同時(shí)處理，能夠?qū)?個(gè)需成膜范圍用兩次處理完成，所以能夠確認(rèn)能 夠?qū)崿F(xiàn)處理時(shí)間的縮短。
[0366] (實(shí)施例5-3)
[0367] 在實(shí)施例5-3中，相對(duì)于在實(shí)施例5-1的表11的（5)所示的條件下除去液8的溫度條 件是24°C，將該除去液8的溫度條件從24°C變更為30°C，同樣進(jìn)行涂敷膜2的除去。另外，除 了除去液8的溫度條件以外的其他條件與實(shí)施例5-1的條件相同。
[0368] 結(jié)果，相對(duì)于當(dāng)除去液8的溫度為24°C時(shí)能夠?qū)⑼糠竽?以大約30秒除去，當(dāng)除去 液8的溫度為30°C時(shí)，能夠?qū)⒃谕糠竽?的除去中需要的所需時(shí)間縮短到大約20秒，確認(rèn)了 除去性能的提高。此外，在進(jìn)一步提高了除去液8的溫度的情況下，確認(rèn)了除去性能的進(jìn)一 步提高。但是，如果使溫度比40°C高則除去性能不再大幅提高，確認(rèn)了效果變小。而另一方 面，從擔(dān)心蒸氣的影響的方面看，在溫度條件的采用時(shí)需要關(guān)于裝置、材料的考慮。
[0369] 因而，由于這樣能夠可靠地將有機(jī)發(fā)光像素外周部的涂敷膜2除去，所以能夠進(jìn)行 在不需要按照空穴輸送層及空穴注入層等的像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜中采用成膜簡(jiǎn) 單且均勻的涂敷法的高分子有機(jī)EL面板的生產(chǎn)。
[0370] (實(shí)施例5-4)
[0371] 作為第5實(shí)施方式的涂敷膜除去裝置105的不同的一實(shí)施例，對(duì)在液晶顯示器用濾 色片的感光性樹(shù)脂層的成膜工序中在基板1上用狹縫模涂敷形成感光性樹(shù)脂層的有機(jī)材 料、將作為需成膜范圍的像素區(qū)域的外周的不需要的涂敷膜除去的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0372]作為涂敷的感光性樹(shù)脂材料而使用東京應(yīng)化工業(yè)(株）制0FPR-800,作為除去液8 而使用30 °C的1.0重量％碳酸鈉水溶液。
[0373] 另外，除去處理與實(shí)施例5-2同樣，通過(guò)具有能夠?qū)蓚€(gè)邊同時(shí)除去的除去處理部 35(與圖13及圖14同樣的L字型形狀)的表面形狀的涂敷膜除去裝置主體3進(jìn)行涂敷膜2的除 去。此時(shí)的涂敷膜除去裝置主體3的除去處理部35的底面的大小使從L字型的角部分別延伸 的兩邊分別為100mm，使各邊的寬度為10mm。此外，除去液供給口 51a、52a和除去液回收口 61a各自與基板1的距離hi~3基于實(shí)施例5-1的表11的(5)所示的條件。
[0374] 與實(shí)施例5-2同樣，在基板1中使用無(wú)堿玻璃0A-10(日本電氣硝子制）120mmX 120mm X0.7mm，嘗試了使需成膜范圍為80mm X 80mm時(shí)的將外周4邊的不需要的涂敷膜2匹配 于除去處理部35的形狀將兩邊同時(shí)除去。
[0375] 通過(guò)反復(fù)進(jìn)行通過(guò)涂敷膜除去裝置主體3的掃描，再將掃描方向切換180度，將需 成膜范圍的外周4邊的不需成膜區(qū)域61、 62、65^6的不需要的涂敷膜2依次處理，得到在 80mm X 80mm的需成膜范圍的外周沒(méi)有殘留涂敷膜的狀態(tài)，能夠確認(rèn)也沒(méi)有除去液8向需成 膜范圍的飛散而為期望的狀態(tài)。
[0376] 在本實(shí)施例中，通過(guò)能夠?qū)⑿璩赡し秶耐庵?邊的不需成膜區(qū)域61、62、65、 66的 不需要的涂敷膜2兩邊同時(shí)處理，能夠?qū)?個(gè)需成膜范圍以兩次的處理完成，所以能夠確認(rèn) 能夠?qū)崿F(xiàn)處理時(shí)間的縮短。
[0377] 以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例5-1~5-4進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施例限制。 在上述中對(duì)有機(jī)EL顯示器和液晶顯示器用濾色片進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限定于此。此外，涂敷 膜2并不限定于以空穴輸送層為代表的有機(jī)EL用途的材料、或在液晶用顯示器用濾色片中 使用的感光性樹(shù)脂材料等，也可以對(duì)別的用途的材料應(yīng)用。此外，除去液8也可以選擇與該 涂敷膜2的材料對(duì)應(yīng)者，例如有機(jī)溶劑、蝕刻液等也為對(duì)象。
[0378](關(guān)于有機(jī)EL元件）
[0379]在第1至第5的各實(shí)施方式中，主要舉有機(jī)EL顯示面板的制造為例說(shuō)明了各實(shí)施 例。所以，以下對(duì)該有機(jī)EL顯示面板的結(jié)構(gòu)等、特別是在有機(jī)EL顯示面板中包含的有機(jī)EL元 件的結(jié)構(gòu)等簡(jiǎn)單地說(shuō)明。
[0380]有機(jī)EL元件是通過(guò)對(duì)導(dǎo)電性的有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層施加電壓而使注入的電子與空穴 再結(jié)合、在該再結(jié)合時(shí)使有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層中包含的構(gòu)成有機(jī)發(fā)光層的有機(jī)發(fā)光材料發(fā)光的 元件。在有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層的兩側(cè)，為了向有機(jī)發(fā)光層施加電壓并將光向外部取出，設(shè)有第一 電極和第二電極。
[0381]該有機(jī)EL元件在透明基板上依次層疊第一電極、有機(jī)發(fā)光層、第二電極（對(duì)置電 極)而構(gòu)成。此外，通常形成在基板上的第一電極被作為陽(yáng)極、形成在有機(jī)發(fā)光層上的對(duì)置 電極被作為陰極利用。
[0382] 進(jìn)而，因?yàn)槭拱l(fā)光效率增大等的目的，通過(guò)分別在陽(yáng)極與有機(jī)發(fā)光層之間適當(dāng)選 擇設(shè)置空穴輸送層及空穴注入層、在有機(jī)發(fā)光層與陰極之間適當(dāng)選擇設(shè)置電子輸送層及電 子注入層而構(gòu)成為有機(jī)EL元件的情況較多。并且，將上述有機(jī)發(fā)光層、空穴輸送層、空穴注 入層、電子輸送層、電子注入層加在一起的層疊構(gòu)造被稱作有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層。
[0383] 構(gòu)成該有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層而發(fā)揮功能的物質(zhì)（發(fā)光介質(zhì)材料)通常是低分子的化合 物。此外，各層以lnm以上100nm以下的范圍內(nèi)左右的厚度通過(guò)電阻加熱方式等的真空蒸鍍 法等層疊。因此，為了制造使用低分子材料的有機(jī)EL元件，需要將多個(gè)蒸鍍釜連結(jié)的真空蒸 鍍裝置，有生產(chǎn)性變低而制造成本變高的情況。
[0384] 對(duì)此，有作為有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層而使用涂敷型材料的EL元件。
[0385] 作為發(fā)光介質(zhì)層，使用在甲苯、二甲苯等的溶媒中溶解了低分子發(fā)光色素的材料， 在聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯咔唑等的高分子中溶解了低分子的發(fā)光色素的材 料，或聚對(duì)苯乙炔電介體(PPV )、聚烷基芴電介體(PAF)等的高分子材料的發(fā)光體。在使用這 些涂敷型材料的EL元件中，通過(guò)將材料溶解或分散到溶劑中，能夠用涂敷法或印刷法等的 濕式法形成作為有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層的各層的涂敷膜。因此，使用涂敷型材料的EL元件與上述 使用真空蒸鍍法的EL元件相比，能夠進(jìn)行大氣壓下的膜形成(各層的形成），有設(shè)備成本較 便宜的優(yōu)點(diǎn)。
[0386] 此外，作為上述濕式法、例如涂敷法，有旋涂法、棒涂法、狹縫涂法、浸涂法等，在不 需要特別高精細(xì)的布圖的情況下，成膜簡(jiǎn)便且均勻的這樣的涂敷法是有效的。此外，這樣的 濕式法對(duì)于空穴輸送層或空穴注入層等不需要按照像素區(qū)分涂敷的共通層的成膜是有效 的。
[0387] 另一方面，在需要高精細(xì)的布圖或RGB的3色區(qū)分涂敷的情況下，通過(guò)凹版印刷法、 凸版印刷法、平版印刷法、網(wǎng)版印刷法、噴墨法等的印刷法的薄膜形成是最有效的。
[0388] 接著，關(guān)于作為在層疊的有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層之上形成陰極后的工序的封固工序進(jìn)行 說(shuō)明。
[0389] 在有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層之上形成有陰極的狀態(tài)的原狀下，特別容易受到水分(水蒸氣） 及氧的影響，通過(guò)發(fā)光特性的下降或金屬電極的劣化而發(fā)生稱作暗點(diǎn)的非發(fā)光不良狀況。 因此，通常在將水分及氧抑制到極限的腔室內(nèi)，使用在與顯示區(qū)域?qū)χ玫牟糠痔幣渲糜形?濕劑的封固玻璃基板封固。
[0390] 在形成有有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層的基板上形成封固玻璃基板的情況下，需要用來(lái)將形成 有有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層的基板與封固玻璃基板粘接的一定的粘接寬度(封固空間）。此時(shí)，為了 充分得到封固性能，希望在封固空間中不涂敷構(gòu)成有機(jī)發(fā)光介質(zhì)層的有機(jī)材料。但是，在將 空穴輸送層及空穴注入層通過(guò)涂敷法成膜的情況下，由于有機(jī)材料被成膜到封固空間，所 以有封固性能受損的情況。
[0391] 作為其對(duì)策，有在不需要布圖的空穴輸送層及空穴注入層的成膜中采用印刷法、 僅將需要范圍成膜的方法等。
[0392] 此外，作為將成膜在不需成膜區(qū)域中的覆膜除去的方法，例如還有使涂敷有不需 要的覆膜的部分(例如基板端部)浸漬到儲(chǔ)存有用來(lái)將覆膜的溶劑的儲(chǔ)存部中來(lái)除去的方 法等(例如，專利文獻(xiàn)1、2)。
[0393] 此外，在以往技術(shù)的涂敷法中，在成膜的簡(jiǎn)便性、均勻性及印刷材料的選擇性等的 方面有問(wèn)題，在本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域中，關(guān)于這些方面希望有更好的涂敷法的應(yīng)用。
[0394] 以上，參照特定的實(shí)施方式說(shuō)明了本發(fā)明，但并不是要由這些說(shuō)明限定發(fā)明。通過(guò) 參照本發(fā)明的說(shuō)明，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，公開(kāi)的實(shí)施方式的各種各樣的變形例以及 本發(fā)明的其他實(shí)施方式也是顯而易見(jiàn)的。因而，應(yīng)理解的是權(quán)利要求的范圍也涵蓋本發(fā)明 的范圍及主旨中包含的這些變形例或?qū)嵤┓绞健＜?，本發(fā)明也可以是將各實(shí)施方式組合的 形態(tài)。具體而言，本發(fā)明的涂敷膜除去裝置也可以是將第1實(shí)施方式與第2至第5的各實(shí)施方 式組合的形態(tài)。
[0395] 標(biāo)號(hào)說(shuō)明
[0396] 1 基板
[0397] 2涂敷膜
[0398] 3涂敷膜除去裝置主體
[0399] 3a、3b 移動(dòng)部
[0400] 4高度計(jì)測(cè)裝置
[0401] 5除去液供給機(jī)構(gòu) [0402] 5a除去液供給口 [0403] 5b除去液供給部 [0404] 5c除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)
[0405] 6除去液回收機(jī)構(gòu)
[0406] 6a除去液回收口 [0407] 6b除去液回收部 [0408] 6c除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)
[0409] 7氣體供給裝置
[0410] 7a氣體供給口
[0411] 7b氣體供給部
[0412] 8除去液
[0413] 9超聲波振動(dòng)施加裝置
[0414] 1〇 臺(tái)
[0415] 11需要成膜區(qū)域
[0416] 12疏水外廓部
[0417] 13高度調(diào)整裝置
[0418] 14超聲波振動(dòng)施加機(jī)構(gòu)
[0419] 15控制裝置
[0420] 19 底面
[0421] 20控制部
[0422] 21 導(dǎo)軌
[0423] 30~35除去處理部
[0424] 31a~35a移動(dòng)部
[0425] 31b~35b移動(dòng)部
[0426] 51、52除去液供給機(jī)構(gòu)
[0427] 51a、52a除去液供給口
[0428] 51b、52b除去液供給部
[0429] 61除去液回收機(jī)構(gòu)
[0430] 61a除去液回收口
[0431] 61b除去液回收部
[0432] 100~105涂敷膜除去裝置
[0433] el~e7不需成膜區(qū)域
[0434] wl 寬度
[0435] hi~h3 距離
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種涂敷膜除去裝置，其特征在于，具備： 涂敷膜除去裝置主體，具有朝向基板上的涂敷膜中的處于預(yù)先設(shè)定的位置的涂敷膜除 去部從吐出口吐出除去液的除去液供給機(jī)構(gòu)、以及將吐出的上述除去液從回收口回收的除 去液回收機(jī)構(gòu)；以及 處理間隙調(diào)整裝置，調(diào)整上述基板表面和處于上述涂敷膜除去裝置主體的上述吐出口 與上述回收口之間的平坦的底面之間的距離。2. 如權(quán)利要求1所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 還具備處理間隙計(jì)測(cè)裝置，該處理間隙計(jì)測(cè)裝置計(jì)測(cè)上述基板表面與上述涂敷膜除去 裝置主體的底面之間的距離； 上述處理間隙調(diào)整裝置根據(jù)處理間隙計(jì)測(cè)裝置的計(jì)測(cè)值來(lái)調(diào)整上述距離。3. 如權(quán)利要求1或2所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 在上述除去液供給機(jī)構(gòu)的上述除去液的吐出口及上述除去液回收機(jī)構(gòu)的上述除去液 的回收口的外周側(cè)，具備實(shí)施了疏水處理的疏水外廓部。4. 如權(quán)利要求3所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述疏水外廓部的水接觸角是90度以上。5. 如權(quán)利要求3或4所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 還具備氣體供給裝置，該氣體供給裝置以將上述疏水外廓部包圍的方式配置且具有朝 向基板噴出氣體的氣體供給口； 通過(guò)從上述氣體供給口吐出的氣體阻止上述除去液向上述涂敷膜除去部外流出。6. 如權(quán)利要求5所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述氣體供給裝置噴出氮?dú)庾鳛樯鲜鰵怏w。7. -種涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備涂敷膜除去裝置主體，該涂敷膜除去裝置主體具有朝向基板上的涂敷膜中的處于 預(yù)先設(shè)定的位置的涂敷膜除去部吐出除去液的除去液供給機(jī)構(gòu)、以及將吐出的上述除去液 回收的除去液回收機(jī)構(gòu)， 上述除去液供給機(jī)構(gòu)具有用來(lái)吐出上述除去液的1處以上的吐出口， 上述除去液回收機(jī)構(gòu)具有用來(lái)回收上述除去液的1處以上的回收口。8. 如權(quán)利要求7所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 在上述涂敷膜除去裝置主體上，設(shè)有上述回收口和兩處上述吐出口， 上述涂敷膜除去裝置主體的平面形狀是L字型形狀。9. 如權(quán)利要求7或8所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 以第1距離和第2距離不同的方式，上述底面相對(duì)于上述基板表面在高度方向上具有傾 斜地配置，上述第1距離是上述涂敷膜除去裝置主體的上述吐出口側(cè)的底面與上述基板表 面之間的距離，上述第2距離是上述涂敷膜除去裝置主體的上述回收口側(cè)的底面與上述基 板表面之間的距離。10. -種涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備涂敷膜除去裝置主體，該涂敷膜除去裝置主體具有朝向基板上的涂敷膜中的處于 預(yù)先設(shè)定的位置的涂敷膜除去部從吐出口吐出除去液的除去液供給機(jī)構(gòu)、以及將吐出的上 述除去液從回收口回收的除去液回收機(jī)構(gòu)， 上述涂敷膜除去裝置主體具有位于上述吐出口與上述回收口之間的平坦的底面， 第1距離和第2距離不同，上述第1距離是上述基板表面與上述涂敷膜除去裝置主體的 上述吐出口側(cè)的底面之間的距離，上述第2距離是上述基板表面與上述涂敷膜除去裝置主 體的上述回收口側(cè)的底面之間的距離。11. 如權(quán)利要求9或10所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述第1距離比上述第2距離長(zhǎng)。12. 如權(quán)利要求9~11中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述涂敷膜除去裝置主體的底面相對(duì)于上述基板表面在高度方向上傾斜0.05度以上。13. 如權(quán)利要求9~12中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述第1距離是3mm以下。14. 如權(quán)利要求9~13中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述第1距離是2mm以下。15. 如權(quán)利要求9~14中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備調(diào)整上述第1距離和上述第2距離的處理間隙調(diào)整裝置。16. 如權(quán)利要求15所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備處理間隙計(jì)測(cè)裝置，該處理間隙計(jì)測(cè)裝置計(jì)測(cè)上述基板表面與上述涂敷膜除去裝 置主體的底面之間的距離， 上述處理間隙調(diào)整裝置根據(jù)上述處理間隙計(jì)測(cè)裝置的計(jì)測(cè)值調(diào)整上述距離。17. 如權(quán)利要求9~16中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述第1距離比上述第2距離長(zhǎng)0.1mm以上。18. 如權(quán)利要求15所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備控制部，至少在上述涂敷膜除去裝置主體的底面與上述基板表面之間存在上述除 去液時(shí)，該控制部使上述處理間隙調(diào)整裝置進(jìn)行調(diào)整，以使得上述底面相對(duì)于上述基板表 面在高度方向上傾斜0.05度以上。19. 如權(quán)利要求18所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備控制部，至少在上述涂敷膜除去裝置主體的底面與上述基板表面之間存在上述除 去液時(shí)，該控制部使上述處理間隙調(diào)整裝置進(jìn)行調(diào)整，以使得上述底面與上述基板表面之 間的距離成為3. Omm以下。20. 如權(quán)利要求18或19所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備控制部，至少在上述涂敷膜除去裝置主體的底面與上述基板表面之間存在上述除 去液時(shí)，該控制部使上述處理間隙調(diào)整裝置將上述底面相對(duì)于上述基板表面的傾斜變更1 次以上。21. 如權(quán)利要求18~20中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 還具備處理間隙計(jì)測(cè)裝置，該處理間隙計(jì)測(cè)裝置計(jì)測(cè)上述基板表面與上述底面之間的 距離， 上述控制部使上述處理間隙調(diào)整裝置根據(jù)上述處理間隙計(jì)測(cè)裝置的計(jì)測(cè)值調(diào)整上述 基板表面與上述底面之間的距離。22. 如權(quán)利要求18~21中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述控制部具備： 第1處理部，在從上述吐出口供給除去液之前，相對(duì)地將上述第1距離設(shè)定得比上述第2 距離長(zhǎng)； 第2處理部，如果判定為從上述吐出口吐出了除去液，則以預(yù)先設(shè)定的次數(shù)，使上述底 面相對(duì)于上述基板表面的傾斜交替地改變;以及 第3處理部，如果判定為從上述回收口回收除去液，則相對(duì)地將上述第1距離設(shè)定得比 上述第2距離短。23. 如權(quán)利要求9~22中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于，具備： 高度調(diào)整機(jī)構(gòu)，進(jìn)行調(diào)整以使上述第1距離與上述第2距離不同；以及 除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)，配置在上述涂敷膜除去裝置主體中，分別檢測(cè)上述吐出口側(cè)和上述 回收口側(cè)的上述除去液。24. 如權(quán)利要求23所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備控制部，該控制部基于上述除去液檢測(cè)機(jī)構(gòu)的檢測(cè)控制除去液供給量和除去液回 收量。25. 如權(quán)利要求23或24所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述高度調(diào)整機(jī)構(gòu)由分別調(diào)整上述第1距離和上述第2距離的處理間隙調(diào)整裝置構(gòu)成。26. 如權(quán)利要求25所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備處理間隙計(jì)測(cè)裝置，該處理間隙計(jì)測(cè)裝置計(jì)測(cè)上述基板表面與上述涂敷膜除去裝 置主體的底面之間的距離， 上述處理間隙調(diào)整裝置根據(jù)上述處理間隙計(jì)測(cè)裝置的計(jì)測(cè)值調(diào)整上述第1距離及第2 距離的至少一方的距離。27. 如權(quán)利要求1~26中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 自除去液從上述吐出口吐出起經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)定的保持時(shí)間后，由上述除去液回收機(jī)構(gòu)進(jìn) 行上述除去液的回收。28. 如權(quán)利要求1~27中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 具備對(duì)吐出到上述涂敷膜除去部的除去液施加超聲波振動(dòng)的超聲波振動(dòng)施加裝置。29. 如權(quán)利要求1~28中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 向上述涂敷膜除去部吐出的除去液的溫度處于30 °C以上40°C以下的范圍內(nèi)。30. 如權(quán)利要求1~29中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述吐出口和上述回收口能夠沿著上述基板的面移動(dòng)； 使上述吐出口和上述回收口移動(dòng)，在不需成膜區(qū)域的各涂敷膜除去部進(jìn)行處理間隙計(jì) 測(cè)、處理間隙調(diào)整、除去液的吐出及回收。31. 如權(quán)利要求1~30中任一項(xiàng)所述的涂敷膜除去裝置，其特征在于， 上述除去液供給機(jī)構(gòu)還具有向上述吐出口供給上述除去液的除去液供給部； 上述除去液回收機(jī)構(gòu)還具有從上述回收口將上述除去液回收的除去液回收部。
【文檔編號(hào)】H01L51/50GK105935005SQ201580005468
【公開(kāi)日】2016年9月7日
【申請(qǐng)日】2015年1月23日
【發(fā)明人】久保祐治, 上林塁, 福原智朗, 伊藤裕猛
【申請(qǐng)人】凸版印刷株式會(huì)社