線圈盤(pán)及電磁爐的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及家用電器領(lǐng)域，尤其涉及一種線圈盤(pán)及電磁爐。
【背景技術(shù)】
[0002]電磁爐是一種常見(jiàn)的用于進(jìn)行烹飪及加熱的家用電器。電磁爐在工作時(shí)，自身內(nèi)部的線圈盤(pán)通過(guò)電磁感應(yīng)產(chǎn)生電渦流，從而對(duì)電磁爐上設(shè)置的鍋具進(jìn)行加熱。
[0003]目前，因?yàn)橐话愠Ｓ缅伨叩撞繛榛⌒?，?dāng)線圈盤(pán)表面的線圈為平面時(shí)，只有一部分線圈在較小的區(qū)域中對(duì)鍋具底部進(jìn)行加熱，而另一部分線圈離鍋具距離較遠(yuǎn)，鍋具感應(yīng)到的磁力線過(guò)少，不能正常加熱，這樣造成了加熱不均現(xiàn)象。同時(shí)，鍋具底面與線圈盤(pán)之間泄漏的磁力線也會(huì)污染周?chē)沫h(huán)境。為了避免加熱不均勻的現(xiàn)象。申請(qǐng)?zhí)枮?01220249157.8的中國(guó)實(shí)用新型專(zhuān)利提出了一種電磁爐線圈盤(pán)，包括支架、磁條和其安全，支架包括沿徑向分布的若干支撐架，支撐架上表面設(shè)有卡線槽，線圈被設(shè)置在卡線槽中，其支撐架所形成的形狀為凹形，因而可以保證線圈與鍋具底部的距離一致，減少加熱不均現(xiàn)象。
[0004]然而，現(xiàn)有技術(shù)中，支撐架上的線圈所產(chǎn)生的磁力線的分布也并不均勻，線圈產(chǎn)生磁力線較密的地方，其電磁加熱產(chǎn)生的熱量較多，而磁力線較為稀疏的地方，產(chǎn)生熱量較少，因而仍然存在有加熱不均勻的現(xiàn)象。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為了解決【背景技術(shù)】中提到的至少一個(gè)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種線圈盤(pán)及電磁爐，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)鍋具底部的均勻加熱，且線圈不易損壞。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，一方面，本實(shí)用新型提供一種線圈盤(pán)，包括盤(pán)架和線圈，線圈繞設(shè)在所述盤(pán)架上，盤(pán)架上表面為弧面，線圈包括至少兩個(gè)由內(nèi)向外依次環(huán)繞設(shè)置的線圈環(huán)，線圈的最內(nèi)側(cè)線圈環(huán)和與最內(nèi)側(cè)線圈環(huán)相鄰的次內(nèi)側(cè)線圈環(huán)之間形成環(huán)狀間隙帶，環(huán)狀間隙帶的外徑小于等于120mm，且環(huán)狀間隙帶的內(nèi)徑大于等于40mm。因?yàn)樵谠摲秶鷥?nèi)的線圈產(chǎn)生交變磁場(chǎng)時(shí)，磁力線的切割作用最為明顯對(duì)鍋具等導(dǎo)磁物體所產(chǎn)生的加熱作用也最大，為了防止該區(qū)域產(chǎn)生的熱量過(guò)大，將最靠近線圈盤(pán)中心的兩個(gè)線圈環(huán)所斷開(kāi)的區(qū)域保持在該范圍內(nèi)，以避免磁力線過(guò)于密集，保證了在加熱時(shí)的均勻性。
[0007]可選的，相鄰兩個(gè)線圈環(huán)之間的間距在8_20mm之間。這樣可以保證每個(gè)線圈環(huán)與磁條之間均存在2mm的間隙，同時(shí)因?yàn)橄噜弮蓚€(gè)線圈環(huán)之間間距不超過(guò)20mm，對(duì)線圈盤(pán)的能耗影響也較小。
[0008]可選的，環(huán)狀間隙帶的外徑小于等于120mm，且環(huán)狀間隙帶的內(nèi)徑大于等于40mm。因?yàn)樵诰€圈盤(pán)Φ40-Φ 120mm范圍內(nèi)的區(qū)域磁力線較為密集，所以最靠近線圈盤(pán)中心的兩個(gè)線圈環(huán)所斷開(kāi)的區(qū)域也應(yīng)保持在該范圍內(nèi)，以保證在加熱時(shí)的均勻性。
[0009]可選的，環(huán)狀間隙帶的外徑小于等于90mm，且環(huán)狀間隙帶的內(nèi)徑大于等于70mm。因?yàn)榫€圈盤(pán)位于Φ 70-Φ 90mm范圍內(nèi)的區(qū)域磁力線最為密集，所以最靠近線圈盤(pán)中心的兩個(gè)線圈環(huán)所斷開(kāi)的區(qū)域最好位于該范圍中，能夠最大程度地避免磁力線不均勻的情況出現(xiàn)。
[0010]可選的，線圈的內(nèi)緣與線圈外緣的高度差在5-30mm之間。這樣可以讓線圈的弧度與鍋具底面形狀盡可能保持一致，既可使線圈與鍋具底面之間距離均勻一致，以起到較好的均勻加熱效果，也可以防止鍋具底面周邊的磁力線泄漏，避免環(huán)境污染。
[0011]可選的，盤(pán)架上設(shè)置有用于設(shè)置磁條的孔槽;線圈盤(pán)還包括磁條，磁條設(shè)置在線圈的下方，且磁條穿設(shè)在孔槽中。磁條可以改變線圈的磁場(chǎng)方向，以降低線圈的磁場(chǎng)外泄，從而使線圈盤(pán)的磁場(chǎng)能量能夠集中進(jìn)行加熱，提高線圈盤(pán)的能量利用效率。
[0012]可選的，線圈與盤(pán)架之間通過(guò)粘接劑連接。
[0013]可選的，盤(pán)架上具有散熱孔。這樣可以加強(qiáng)整個(gè)線圈盤(pán)的散熱。
[0014]另一方面，本實(shí)用新型還提供一種電磁爐，包括加熱面板、外殼以及如上所述的線圈盤(pán)。電磁爐的加熱面板設(shè)置在外殼頂部，線圈盤(pán)設(shè)置在外殼內(nèi)，且位于加熱面板下方。線圈盤(pán)可以對(duì)加熱面板上放置的鍋具進(jìn)行均勻加熱，且線圈盤(pán)的壽命長(zhǎng)，不易損壞。
[0015]本實(shí)用新型的構(gòu)造以及它的其他目的及有益效果將會(huì)通過(guò)結(jié)合附圖而對(duì)優(yōu)選實(shí)施例的描述而更加明顯易懂。
【附圖說(shuō)明】
[0016]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的線圈盤(pán)的截面示意圖；
[0017]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的線圈盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]附圖標(biāo)記說(shuō)明:
[0019]盤(pán)架一I;線圈一2;環(huán)狀間隙帶一3;磁條一4;
[0020]孔槽一11;最內(nèi)側(cè)線圈環(huán)一21、次內(nèi)側(cè)線圈環(huán)一22。
【具體實(shí)施方式】
[0021 ] 實(shí)施例一
[0022]線圈盤(pán)應(yīng)用于電磁爐中，可以在交變電流的作用下產(chǎn)生交替變化的磁場(chǎng)，從而對(duì)磁場(chǎng)范圍內(nèi)的鍋具等導(dǎo)磁物體產(chǎn)生磁力線的切割作用，從而加熱導(dǎo)磁物體內(nèi)部分子，使鍋具等導(dǎo)磁物體溫度升高，實(shí)現(xiàn)電磁加熱效果。圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的線圈盤(pán)的截面示意圖。圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例一提供的線圈盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1和圖2所示，本實(shí)施例提供的線圈盤(pán)，包括盤(pán)架I和線圈2，線圈2繞設(shè)在盤(pán)架I上，且盤(pán)架I上表面為弧面，線圈2包括至少兩個(gè)由內(nèi)向外依次環(huán)繞設(shè)置的線圈環(huán)，線圈2的最內(nèi)側(cè)線圈環(huán)21和與最內(nèi)側(cè)線圈環(huán)21相鄰的次內(nèi)側(cè)線圈環(huán)22之間形成環(huán)狀間隙帶3，環(huán)狀間隙帶3的外徑小于等于120mm，且環(huán)狀間隙帶3的內(nèi)徑大于等于40_。
[0023]因?yàn)楸P(pán)架I的上表面為弧面，所以線圈2繞設(shè)在盤(pán)架I上時(shí)，同樣也會(huì)形成一個(gè)弧面形狀。該弧面形狀通常與鍋具的弧形底面形狀以及磁力線的分布規(guī)律相匹配，這樣當(dāng)鍋具放置在線圈盤(pán)上時(shí)，鍋具底面與線圈2表面的形狀近似或一致，從而使得線圈2與鍋具底面之間的距離均勻一致。具體的，線圈2與盤(pán)架I之間可以利用環(huán)氧樹(shù)脂等粘接劑連接。盤(pán)架I可以設(shè)置有散熱孔等，以保證對(duì)線圈的散熱。
[0024]其中，線圈2為密繞而成，即采用密繞工藝緊密繞制在盤(pán)架I上，線圈2在繞制時(shí)，采用的是一圈挨一圈地纏繞方式，線圈匝數(shù)較多。這樣密繞而成的線圈2，可以有效增加單位面積的繞線長(zhǎng)度，保證加熱的均勻性，同時(shí)線圈2的電阻較小，進(jìn)行加熱時(shí)，線圈2產(chǎn)生的熱量也較少，不易產(chǎn)生損壞。
[0025]在線圈2繞制在盤(pán)架I上時(shí)，通常會(huì)根據(jù)磁力線的分布情況進(jìn)行分段式設(shè)計(jì)。具體的，線圈2可以包括至少兩個(gè)線圈環(huán)，多個(gè)線圈環(huán)由內(nèi)向外依次環(huán)繞設(shè)置。