專利名稱：?jiǎn)谓裹c(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及了一種超聲波發(fā)射裝置，特別是一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的超聲波發(fā)射裝置的發(fā)射基座通常采用凹面，發(fā)射振元裝在該凹面內(nèi)，為了使 所有的發(fā)射振元聚焦于一點(diǎn)，對(duì)發(fā)射基座凹面的加工精度要求很高，在超聲波發(fā)射裝置 生產(chǎn)過程中，凹面發(fā)射基座的成品率較低。并且這種超聲波發(fā)射裝置不能進(jìn)行相位控制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中凹球面發(fā)射基座成品率較低和不能進(jìn)行相位控制的 缺點(diǎn)，而提供一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案-
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，它包括；發(fā)射基座、若干個(gè)發(fā)射振 元、若干個(gè)功率超聲電源和計(jì)算機(jī)，若干個(gè)發(fā)射振元裝在發(fā)射基座上，每個(gè)發(fā)射振元分 別與每個(gè)功率超聲電源的一端相連，所有功率超聲電源的另一端分別與計(jì)算機(jī)相連，其 中所述發(fā)射基座為平面階梯狀斜面的發(fā)射基座，每個(gè)發(fā)射振元裝在發(fā)射基座的一個(gè)斜
面上，相鄰的發(fā)射振元裝在發(fā)射基座的不同斜面上，使得所有發(fā)射振元的發(fā)射面的中垂
線相交于一個(gè)焦點(diǎn)，所述超聲波發(fā)射裝置還包括相位差發(fā)生器，所有功率超聲電源的 另一端分別與相位差發(fā)生器相連，相位差發(fā)生器和計(jì)算機(jī)彼此相連；
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其中所述發(fā)射基座斜面的個(gè)數(shù)大 于或等于發(fā)射振元的個(gè)數(shù)；
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其中所述的發(fā)射振元的發(fā)射面為 環(huán)形；
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其中所述的發(fā)射振元為相控超聲 發(fā)射振元，相鄰的功率超聲電源將不同的相位控制信號(hào)傳輸給其對(duì)應(yīng)的發(fā)射振元；
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其中所述的發(fā)射振元的數(shù)目與功率超 聲電源的數(shù)目相同。
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其中所述的發(fā)射振元的數(shù)目為5-500個(gè)。
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置與現(xiàn)有的超聲波發(fā)射裝置相比，具有 加工方便，聚焦精度高，實(shí)現(xiàn)了相位控制等優(yōu)點(diǎn)，用平面階梯斜面取代大型凹球面設(shè)計(jì)， 可有效進(jìn)行單個(gè)環(huán)形壓電片的相位控制。


圖1為本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置的示意圖。
具體實(shí)施例方式
如圖1所示，本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，它包括；發(fā)射基座l、
若干個(gè)發(fā)射振元2、若干個(gè)功率超聲電源4、相位差發(fā)生器5和計(jì)算機(jī)6，若干個(gè)發(fā)射振 元2裝在發(fā)射基座1上，每個(gè)發(fā)射振元2分別與每個(gè)功率超聲電源4的一端相連，所有 功率超聲電源4的另一端分別與相位差發(fā)生器5和計(jì)算機(jī)6相連，相位差發(fā)生器5和計(jì) 算機(jī)6彼此相連。發(fā)射基座1為平面階梯狀斜面的發(fā)射基座，每個(gè)發(fā)射振元2裝在發(fā)射 基座1的一個(gè)斜面上，相鄰的發(fā)射振元2裝在發(fā)射基座1的不同斜面上，使得所有發(fā)射 振元2的發(fā)射面的中垂線相交于一個(gè)焦點(diǎn)3，即發(fā)射振元2的環(huán)形片的開角峰值交于一個(gè) 焦點(diǎn)3，發(fā)射基座1斜面的個(gè)數(shù)大于或等于發(fā)射振元2的個(gè)數(shù)。
發(fā)射振元2的發(fā)射面為環(huán)形，發(fā)射振元2為相控超聲發(fā)射振元，它的數(shù)目與功率超聲 電源的數(shù)目相同， 一般為5-100個(gè)，相鄰的功率超聲電源4將不同的相位控制信號(hào)傳輸給 其對(duì)應(yīng)的發(fā)射振元2。
以上實(shí)施例只是對(duì)本發(fā)明的解釋，不是對(duì)發(fā)明的限定，本發(fā)明所限定的范圍參見權(quán) 利要求，在不違背本發(fā)明的精神的情況下，本發(fā)明可以作任何形式的修改。
權(quán)利要求
1. 一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，它包括；發(fā)射基座(1)、若干個(gè)發(fā)射振元(2)、若干個(gè)功率超聲電源(4)和計(jì)算機(jī)(6)，若干個(gè)發(fā)射振元(2)裝在發(fā)射基座(1)上，每個(gè)發(fā)射振元(2)分別與每個(gè)功率超聲電源(4)的一端相連，所有功率超聲電源(4)的另一端分別與計(jì)算機(jī)(6)相連，其特征在于所述發(fā)射基座(1)為平面階梯狀斜面的發(fā)射基座，每個(gè)發(fā)射振元(2)裝在發(fā)射基座(1)的一個(gè)斜面上，相鄰的發(fā)射振元(2)裝在發(fā)射基座(1)的不同斜面上，使得所有發(fā)射振元(2)的發(fā)射面的中垂線相交于一個(gè)焦點(diǎn)(3)，所述超聲波發(fā)射裝置還包括相位差發(fā)生器(5)，所有功率超聲電源(4)的另一端分別與相位差發(fā)生器(5)相連，相位差發(fā)生器(5)和計(jì)算機(jī)(6)彼此相連。
2. 如權(quán)利要求1所述的單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其特征在于所述發(fā)射 基座(1)斜面的個(gè)數(shù)大于或等于發(fā)射振元(2)的個(gè)數(shù)。
3. 如權(quán)利要求2所述的單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其特征在于:所述的發(fā) 射振元(2)的發(fā)射面為環(huán)形。
4. 如權(quán)利要求3所述的單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其特征在于所述的發(fā) 射振元(2)為相控超聲發(fā)射振元。
5. 如權(quán)利要求4所述的單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其特征在于所述的發(fā) 射振元(2)的數(shù)目與功率超聲電源(4)的數(shù)目相同，相鄰的功率超聲電源(4)將不同 的相位控制信號(hào)傳輸給其對(duì)應(yīng)的發(fā)射振元(2)。
6. 如權(quán)利要求5所述的單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，其特征在于所述的發(fā) 射振元(2)的數(shù)目為5-100個(gè)。
全文摘要
本發(fā)明的一種單焦點(diǎn)相控聚焦超聲波發(fā)射裝置，它包括；發(fā)射基座、若干個(gè)發(fā)射振元、若干個(gè)功率超聲電源和計(jì)算機(jī)，若干個(gè)發(fā)射振元裝在發(fā)射基座上，每個(gè)發(fā)射振元分別與每個(gè)功率超聲電源的一端相連，所有功率超聲電源的另一端分別與計(jì)算機(jī)相連，發(fā)射基座為平面階梯狀斜面的發(fā)射基座，每個(gè)發(fā)射振元裝在發(fā)射基座的一個(gè)斜面上，相鄰的發(fā)射振元裝在發(fā)射基座的不同斜面上，使得所有發(fā)射振元的發(fā)射面的中垂線相交于一個(gè)焦點(diǎn)，超聲波發(fā)射裝置還包括相位差發(fā)生器，所有功率超聲電源的另一端分別與相位差發(fā)生器相連，相位差發(fā)生器和計(jì)算機(jī)彼此相連，本發(fā)明由于采用環(huán)形片發(fā)射；功率源數(shù)值大幅減少，實(shí)現(xiàn)了相位控制等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H04B11/00GK101471733SQ200810112479
公開日2009年7月1日 申請(qǐng)日期2008年5月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月23日
發(fā)明者何申戌 申請(qǐng)人:何申戌