專利名稱：電子元件晶片模塊及制造、電子元件模塊和電子信息裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子元件晶片模塊，其中在保護(hù)多個(gè)電子元件的蓋 玻璃上設(shè)置有光學(xué)濾波器層； 一種用于制造電子元件晶片模塊的方法； 一種通過(guò)將電子元件晶片模塊切割成片而形成的電子元件模塊； 一種其 上還附著有光學(xué)元件的電子元件模塊；以及一種電子信息裝置，例如數(shù) 碼相機(jī)(例如，數(shù)碼攝像機(jī)和數(shù)碼靜拍相機(jī))，圖像輸入相機(jī)，掃描儀， 傳真機(jī)，和配備有相機(jī)的移動(dòng)電話裝置，其具有用于其圖像采集部件中 的作為圖像輸入裝置的任何電子元件模塊。
背景技術(shù)：
使用起到電子元件模塊作用的傳感器模塊作為其圖像采集部件中 的圖像輸入裝置的數(shù)碼相機(jī)和攝像機(jī)在常規(guī)情況下已獲得廣泛應(yīng)用。
當(dāng)前，例如利用固態(tài)圖像采集元件芯片、用于容納該固態(tài)圖像采集 元件芯片的陶乾封裝、和用于包封該封裝的透明蓋玻璃形成通常使用的 傳感器模塊，在該固態(tài)圖像采集元件芯片中固態(tài)圖像采集元件設(shè)置在硅 半導(dǎo)體基片上。通過(guò)用引線結(jié)合將設(shè)置在固態(tài)圖像采集元件芯片上的電 極焊盤與封裝的連接端子電連接起來(lái)，并且通過(guò)將封裝的外部連接端子 安裝到印刷電路板上，則容納在封裝中的固態(tài)圖像采集元件芯片連接到 印刷電路板上的電路。
將固態(tài)圖像采集元件作為電子元件安裝到小型電子信息裝置(例如 移動(dòng)電話裝置和電子筆記本)中以添加攝影(photographing)功能也是可 行的。為了便于將攝影功能安裝到小型電子信息裝置內(nèi)，預(yù)先將光學(xué)單 元和其上設(shè)置有控制電路的印刷電路板裝配起來(lái)并且使用它們，從而提
供具有這種配置的相機(jī)模塊；該光學(xué)單元包括安裝到其中的固態(tài)圖像采 集元件和圖像采集光學(xué)系統(tǒng)。
6對(duì)比文件l披露出一種常規(guī)的相機(jī)模塊，其中安裝有紅外線截止濾
波器和光學(xué)低通濾波器，以便改善圖片質(zhì)量。圖10圖示出這樣一種常
規(guī)相機(jī)模塊。
圖IO是示意性地圖示出對(duì)比文件1中所披露的常規(guī)相機(jī)模塊的一
個(gè)實(shí)例的基本部分縱向截面圖。
在圖10中，常規(guī)的固態(tài)圖像采集裝置100包括固態(tài)圖像采集元 件芯片103，其中多個(gè)固態(tài)圖像采集元件102設(shè)置在半導(dǎo)體基片IOI(半 導(dǎo)體晶片)上；框架部件104,用以包圍用于形成固態(tài)圖像采集元件102 的區(qū)域，該框架部件104設(shè)置在固態(tài)圖像采集元件芯片103的固態(tài)圖像 采集元件102側(cè)；蓋玻璃105,其設(shè)置在框架部件104上起到透明支撐 基片的作用，密封每個(gè)固態(tài)圖像采集元件102;紅外線截止濾波器基片 106，其附著到蓋玻璃105的上面用以改善圖片質(zhì)量；以及光學(xué)低通濾 波器基片107,其附著到紅外線截止濾波器基片106上。
紅外線截止濾波器基片106和光學(xué)低通濾波器基片107被定位成覆 蓋固態(tài)圖像采集元件102。通用的紅外線截止濾波器包括鈦氧化物膜或 鉭氧化物膜和硅氧化物膜的層壓結(jié)構(gòu)。
另一方面，對(duì)比文件2披露出一種作為用于紅外線截止濾波器的材 料的鈮氧化物膜(Nb205)。
對(duì)比文件1:日本公開(kāi)號(hào)2006-32886
對(duì)比文件2:日本〃>開(kāi)號(hào)2006-35161
發(fā)明內(nèi)容
當(dāng)蓋玻璃105 (其中紅外線截止濾波器基片106和光學(xué)低通濾波器 基片107全都附著在蓋玻璃105上)被附著到半導(dǎo)體基片101 (半導(dǎo)體 基片IOI是其上設(shè)置有多個(gè)固態(tài)圖像采集元件102的半導(dǎo)體晶片)時(shí)， 上述的常規(guī)結(jié)構(gòu)存在著蓋玻璃105與半導(dǎo)體基片101的層壓結(jié)構(gòu)發(fā)生翹 曲的問(wèn)題。
本發(fā)明旨在解決上述的常規(guī)問(wèn)題。本發(fā)明的目的是提供一種電子元 件晶片模塊，當(dāng)作為電子元件晶片的半導(dǎo)體基片與附著有諸如紅外線截 止濾波器這樣的光學(xué)濾波器的蓋玻璃被層壓到一起時(shí)，該電子元件晶片
模塊能夠減少翹曲； 一種用于制造電子元件晶片模塊的方法；通過(guò)將電 子元件晶片模塊制成片(piece)而形成的電子晶片模塊； 一種電子元件模塊，其上還附著有光學(xué)元件；以及一種電子信息裝置(例如配備有相 機(jī)的移動(dòng)電話裝置)，其具有用于其圖像采集部件中的作為圖像輸入裝 置的任何電子元件模塊。
在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，將用于覆蓋和保護(hù)多個(gè)電子 元件的半透明支撐基片附著到其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶 片上，并且對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件而形 成光學(xué)濾波器，其中沿著用于將電子元件晶片模塊單獨(dú)(individually)劃 分(divide)為多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除光學(xué) 濾波器以減輕翹曲，由此實(shí)現(xiàn)上述目的。在此情況下，所有劃片線形成 沿著劃片線的柵格形式(lattice form)。另外， 一部分劃片線可以是沿 著劃片線的柵格形式(例如，劃片線中每隔一條或者每隔兩條線)；然 而，不限于此，可以包括其它形式。總之，在半透明支撐基片附著到電 子元件晶片的情況下，可以沿著一部分劃片線移除濾波器，這能實(shí)現(xiàn)減 輕附著結(jié)構(gòu)(模塊)的翹曲。
在根據(jù)本發(fā)明的一種電子元件晶片模塊中，將用于覆蓋和保護(hù)多個(gè) 電子元件的半透明支撐基片附著到其上形成有多個(gè)電子元件的電子元 件晶片上，并且對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件 而形成光學(xué)濾波器，其中濾波器是紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替 地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜，由此實(shí)現(xiàn)上述目 的。
在根據(jù)本發(fā)明的一種電子元件晶片模塊中，將用于覆蓋和保護(hù)多個(gè) 電子元件的半透明支撐基片附著到其上形成有多個(gè)電子元件的電子元 件晶片上，并且對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件 而形成光學(xué)濾波器，其中使得其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片 與電子元件晶片附著到一起以形成層壓體，從而電子元件晶片的翹曲方 向與半透明支撐基片的翹曲方向是彼此反向的以減少電子元件晶片的 翹曲，由此實(shí)現(xiàn)上述目的。
優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的一種電子元件晶片模塊中，將其上形成有 光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子元件晶片附著到一起以形成層壓 體，從而使得電子元件晶片的翹曲方向與半透明支撐基片的翹曲方向是 彼此反向的以減少電子元件晶片的翹曲。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，光學(xué)濾波器是紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制 成的介電多層膜。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，沿著用于單獨(dú)劃 分多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，將光學(xué)低通濾波 器形成為光學(xué)濾波器。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，以板的形式、薄
層(sheet)的形式、膜的形式和分層的形式中的至少任一種而形成光學(xué) 濾波器。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，半透明支撐晶片 是由玻璃、晶體、鈮酸鋰(niobium oxide lithium )、合成樹(shù)脂和/或它們 的組合而構(gòu)造成的。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，光學(xué)濾波器是紅 外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈦氧化物膜而制 成的介電多層膜。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊中，光學(xué)濾波器是紅 外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鉭氧化物膜而制 成的介電多層膜。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片^t塊中，以及在電子元件 晶片中，為每個(gè)電子元件設(shè)置在前表面上的布線部件或焊盤部件經(jīng)由通 孔電極而電連接到后表面上的外部連接端子。
一種根據(jù)本發(fā)明的用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括在透
明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué)濾波器的光學(xué)濾波器形成步驟； 沿著用于單獨(dú)劃分多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除
光學(xué)濾波器以減輕翹曲的光學(xué)濾波器部分移除步驟；以及將其上形成有 多個(gè)電子元件的半導(dǎo)體晶片與透明支撐基片附著的基片附著步驟，其中 在該透明支撐基片中沿著一部分或全部劃片線而移除了光學(xué)濾波器，由 此實(shí)現(xiàn)上述目的。
一種根椐本發(fā)明的用于制造電子元件晶片;f莫塊的方法，包括在透
明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué)濾波器的光學(xué)濾波器形成步驟； 將其上形成有多個(gè)電子元件的半導(dǎo)體晶片與其上形成有光學(xué)濾波器的 透明支撐基片附著在一起的基片附著步驟；以及沿著用于單獨(dú)劃分多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器以減輕翹曲 的光學(xué)濾波器部分移除步驟，由此實(shí)現(xiàn)上述目的。
一種根據(jù)本發(fā)明的用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括形成
紅外線截止濾波器的光學(xué)濾波器形成步驟，該紅外線截止濾波器包括通
過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜；以及將其 上形成有紅外線濾波器的半透明支撐基片附著到其上形成有多個(gè)電子
元件的電子元件晶片的基片附著步驟，由此實(shí)現(xiàn)上述目的。
一種根據(jù)本發(fā)明的用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括在透
明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué)濾波器的光學(xué)濾波器形成步驟； 和將其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子元件晶片附著到 一起的基片附著步驟，從而使得其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶 片的翹曲方向和其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片的翹曲方向 是彼此反向的以減少電子元件晶片的翹曲，由此實(shí)現(xiàn)上述目的。優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的用于制造電子元件晶片模塊的方法中，基 片附著步驟將其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子元件晶 片附著到一起以形成層壓體，從而使得電子元件晶片的翹曲方向與半透 明支撐基片的翹曲方向是彼此反向，以減少電子元件晶片的翹曲。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明用于制造電子元件晶片的方法中，該光學(xué) 濾波器形成步驟形成作為光學(xué)濾波器的紅外線截止濾波器，其包括通過(guò) 在透明支撐基片的至少一個(gè)表面上交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物 膜而制成的介電多層膜。
更優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明用于制造電子元件晶片模塊的方法還包括沿 著用于單獨(dú)(individual)劃分多個(gè)電子元件;f莫塊的一部分或者全部劃片 線而移除在光學(xué)濾波器形成步驟中所形成的光學(xué)濾波器以減輕光學(xué)濾 波器的翹曲的光學(xué)濾波器部分移除步驟。
通過(guò)沿著劃片線的中心線為每個(gè)電子元件切割半導(dǎo)體晶片以及其 上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐晶片，由根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片 模塊單獨(dú)劃分出電子元件模塊。
優(yōu)選地，根椐本發(fā)明的電子元件模塊包括根據(jù)本發(fā)明的電子元件模 塊，和被定位到電子元件模塊的電子元件上的光學(xué)系統(tǒng)，或者其中嵌入 有光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)單元。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件模塊中，電子元件是圖像采集元件，其包括多個(gè)光接收部件，用于執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換并且采集來(lái)自對(duì)象的 光的圖像的圖像。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件才莫塊中，電子元件包括用于生 成輸出光的光發(fā)射元件和用于接收入射光的光接收元件。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件模塊中，光學(xué)系統(tǒng)是透鏡模塊 并且電子元件是圖像采集元件。
更優(yōu)選地，在根據(jù)本發(fā)明的電子元件模塊中，光學(xué)系統(tǒng)是棱鏡模塊 或者全息元件模塊，并且電子元件是光發(fā)射元件和光接收元件。
一種根據(jù)本發(fā)明的電子信息裝置包括在其圖像采集部件中作為傳
感器模塊根椐本發(fā)明的電子元件模塊。
一種根據(jù)本發(fā)明的電子信息裝置包括在其信息記錄和再現(xiàn)部件中
根據(jù)本發(fā)明的電子元件模塊。
在下文中將說(shuō)明具有上述結(jié)構(gòu)的本發(fā)明的功能。
根椐本發(fā)明，沿著用于形成多個(gè)獨(dú)立切割的電子元件模塊的部分或 全部(柵格形式)的劃片線而移除被附著到半透明支撐基片的光學(xué)濾波 器，以減少翹曲。此外，附著到半透明支撐基片的光學(xué)濾波器是紅外線 截止濾波器，其是通過(guò)減薄利用交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而 制成的介電多層膜而形成。此外，為了減少電子元件晶片的翹曲，將其 上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片和電子元件晶片附著到一起以 形成層壓體，從而通過(guò)在相反的翹曲方向上相互附著相應(yīng)翹曲面，減輕 電子元件晶片的翹曲和半透明支撐基片的翹曲。
如上所述，沿著一部分或全部劃片線而將光學(xué)濾波器劃分為部件以 減輕翹曲應(yīng)力，通過(guò)使用介電多層膜將光學(xué)濾波器的厚度減半以減輕翹 曲應(yīng)力，該介電多層膜是通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而形 成的，并且半透明支撐基片被附著到半導(dǎo)體晶片，該半導(dǎo)體晶片的翹曲 方向與半透明支撐基片的翹曲方向相反以抵消相應(yīng)的應(yīng)力。結(jié)果，有可 能進(jìn)一步減少當(dāng)電子元件晶片與其上附著有諸如紅外線截止濾波器這
樣的光學(xué)濾波器的半透明支撐基片被層壓到一起時(shí)發(fā)生的翹曲。
如上所述根據(jù)本發(fā)明，沿著一部分或全部(柵格形式)的劃片線而 將光學(xué)濾波器劃分為部件以減輕翹曲應(yīng)力，通過(guò)使用介電多層膜將光學(xué) 濾波器的厚度減半以減輕翹曲應(yīng)力，該介電多層膜是通過(guò)交替地層壓硅 氧化物膜和鈮氧化物膜而形成的，并且半透明支撐基片被附著到半導(dǎo)體
11晶片，該半導(dǎo)體晶片的翹曲方向與半透明支撐基片的翹曲方向相反以抵 消相應(yīng)的應(yīng)力，從而使得有可能進(jìn)一步減少當(dāng)電子元件晶片與其上附著 有諸如紅外線截止濾波器這樣的光學(xué)濾波器的半透明支撐基片被層壓 到一起時(shí)發(fā)生的翹曲。
的這:和其它優(yōu)點(diǎn)將:^顯而易見(jiàn)。、〃 、

圖l是圖示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1的電子元件晶片模塊的示例性
結(jié)構(gòu)的基本部分縱向截面圖，其中圖l(a)是圖示出其中沿著劃片線沒(méi)有 移除光學(xué)濾波器、并且將具有相反翹曲方向的半導(dǎo)體和玻璃基片相互附 著的一種情況的基本部分縱向截面圖，并且圖l(b)是圖示出其中沿著劃 片線移除光學(xué)濾波器的一種情況的基本部分縱向截面圖。
圖2(a)至圖2(f)各自是圖示出通過(guò)切割圖l(b)中的電子元件晶片模 塊而制造的傳感器模塊的每個(gè)制造過(guò)程的基本部分縱向截面圖。
圖3(a)是表示柵格形式的劃片線D的光學(xué)濾波器的平面圖，并且圖 3(b)是用于說(shuō)明劃片線D與對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之間關(guān)系的光學(xué)濾波器的平面圖。
圖4是圖示出圖la中的其上附著有紅外線截止濾波器基片的玻璃 基片以及半導(dǎo)體基片的翹曲狀態(tài)的基本部分縱向截面圖。
圖5是列出每種材料的線性膨脹系數(shù)的圖表。
圖6是圖示出圖1的電子元件晶片模塊的變型的基本部分縱向截面圖。
圖7(a)是圖示出柵格劃片線D與光學(xué)濾波器層的移除區(qū)域H的光學(xué) 濾波器的平面圖，并且圖7(b)和7(c)各自是用于說(shuō)明劃片線D與光學(xué)濾 波器層的移除區(qū)域H、以及對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之間關(guān)系的光學(xué)濾波器的平面圖。
圖8是圖示出根椐本發(fā)明的實(shí)施例2的傳感器模塊的示例性基本結(jié) 構(gòu)的縱向截面圖。
圖9是圖示出本發(fā)明的實(shí)施例3的電子信息裝置的示例性概略結(jié)構(gòu) 的框圖，該電子信息裝置包括用于圖像采集部件中的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施 例1的傳感器模塊或者根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊中的任意模塊。
圖10是示意性地圖示出對(duì)比文件1中所披露的常規(guī)相機(jī)模塊的一 個(gè)實(shí)例的基本部分縱向截面圖。附圖標(biāo)記
I, IA 電子元件晶片模塊
II, llA傳感器模塊
2 半導(dǎo)體基片
21 固態(tài)圖像采集元件
22 電極焊盤
23 通孔
24 布線
25 外部連接端子
3 間隔件
4 蓋玻璃(玻璃基片)
5 紅外線截止濾波器基片 5a 紅外線截止濾波器層
6 粘合劑
7 光學(xué)低通濾波器基片 7a光學(xué)低通濾波器層 A,A'對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記
D 劃片線 Da 中心線
H光學(xué)濾波器層的移除部分
50 傳感器模塊
51 通孔晶片
51a圖像采集元件(電子元件) 51b通孔(通孔電極)
52 樹(shù)脂粘合劑層 531玻璃板
532紅外線截止濾波器基片 533光學(xué)低通濾波器基片 54,541至543透鏡板 551,552透鏡粘合劑層 56 光屏蔽元件90 電子信息裝置
91 固態(tài)圖像采集裝置
92 存儲(chǔ)部件
93 顯示部件
94 通信部件
95 圖像輸出部件
具體實(shí)施例方式
在下文中，根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊、用于制造電子元件晶 片模塊的方法和通過(guò)將電子元件晶片模塊切割成片而形成的作為電子 元件模塊的傳感器模塊的實(shí)例將被作為實(shí)施例1而加以說(shuō)明；其中進(jìn)一 步在其上附著光學(xué)元件的作為電子元件模塊的傳感器模塊的實(shí)例將被 作為實(shí)施例2而加以說(shuō)明；以及電子信息裝置的實(shí)例將被作為實(shí)施例3 而加以說(shuō)明，該電子信息裝置例如配備有相機(jī)的移動(dòng)電話裝置，具有用 于其圖像采集部件中的作為圖像輸入裝置的任何傳感器模塊，每個(gè)都將 參考附圖加以詳細(xì)說(shuō)明。
(實(shí)施例1 )
圖l是圖示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1的電子元件晶片模塊的示例性 結(jié)構(gòu)的基本部分縱向截面圖。圖l(a)是圖示出其中沿著劃片線沒(méi)有移除 光學(xué)濾波器、并且將具有相反翹曲方向的半導(dǎo)體和玻璃基片相互附著 (attach)的情形的基本部分縱向截面圖。圖l(b)是圖示出其中沿著劃片 線移除光學(xué)濾波器的情形的基本部分縱向截面圖。應(yīng)注意的是能夠沿著 劃片線移除圖l(a)情況下的光學(xué)濾波器。
在圖l(a)和l(b)中，根據(jù)實(shí)施例1的電子元件晶片模塊包括半導(dǎo) 體基片2，其上形成有作為電子元件的多個(gè)固態(tài)圖像采集元件21;框架 狀間隔件3，其附著在半導(dǎo)體基片2上從而包圍固態(tài)圖像采集元件21; 蓋玻璃4(玻璃基片)，其作為透明支撐基片附著在間隔件3上面以覆 蓋并且密封固態(tài)圖像采集元件21;以及紅外線截止濾波器基片5，其附 著在蓋玻璃4上以形成光學(xué)濾波器基片。
半導(dǎo)體基片2是還沒(méi)有被劃分為矩形和芯片狀片的硅半導(dǎo)體晶片， 并且在半導(dǎo)體基片2上以矩陣形式形成多個(gè)固態(tài)圖像采集元件21。每個(gè)固態(tài)圖像采集元件21例如以矩陣形式布置并且包括很大數(shù)目的光接收 元件(多個(gè)光接收部件)用于對(duì)對(duì)象(subject)光(入射光)執(zhí)行光電 轉(zhuǎn)換；以及電荷耦合裝置(CCD;電荷轉(zhuǎn)移部件)用于在垂直和水平方 向上轉(zhuǎn)移在光接收元件中積聚的信號(hào)電荷。此外，RGB彩色濾波器和光 聚焦(light-focusing)微透鏡被層壓到其上并設(shè)置在多個(gè)光接收元件的上 方。CMOS圖像傳感器能夠代替CCD圖像傳感器被用作固態(tài)圖像采集 元件21。在用作電子元件的固態(tài)圖像采集元件21的周邊設(shè)置電極焊盤 22作為布線部件或端子部件。電極焊盤22穿過(guò)通孔23連接到后表面上 的布線24，并且布線24連接到外部連接端子25。多個(gè)外部連接端子25 設(shè)置在固態(tài)圖像采集元件21的周邊部分。
間隔件3具有帶正方形或矩形開(kāi)口 31的框架形狀，該開(kāi)口 31形成 在用于固態(tài)圖像采集元件21的其中間元件區(qū)域內(nèi)，間隔件3附著在半 導(dǎo)體基片2的上表面上、以及固態(tài)圖像采集元件21的外周(outer circumference)部分處從而包圍中間元件區(qū)域。例如，間隔件3是由諸 如硅的無(wú)機(jī)材料形成。在蓋玻璃4的底表面和前表面?zhèn)鹊墓虘B(tài)圖像采集 元件21之間由間隔件3創(chuàng)造出密封的空間，由此防止前表面上的固態(tài) 圖像采集元件21的微透鏡與蓋玻璃4的底表面發(fā)生物理干擾 (interfering)。
蓋玻璃4附著在間隔件3上，從而覆蓋間隔件3的開(kāi)口 31。防止低 a射線穿透的低a射線玻璃用于蓋玻璃4以防止固態(tài)圖像采集元件21的 每個(gè)光接收元件(每個(gè)光接收部件)被a射線毀壞。
設(shè)置紅外線截止濾波器基片5以改善傳感器模塊2所采集圖像的質(zhì) 量。紅外線截止濾波器基片5截除特定波長(zhǎng)區(qū)中的紅外線以防止由于紅 外線引起的重影(ghost)和起霧(fog)。
在下文中，將用上述結(jié)構(gòu)說(shuō)明操作。
在下文中，將參考圖2(a)至2(f)中每個(gè)過(guò)程的截面圖，將詳細(xì)說(shuō)明 用于制造傳感器晶片模塊的方法，該方法作為用于制造電子元件晶片模 塊l的方法；并且進(jìn)一步地，說(shuō)明一種用于制造傳感器模塊的方法，該 傳感器模塊作為電子元件模塊從傳感器晶片模塊全都一起切割下來(lái)。
圖2(a)至圖2(f)每個(gè)都是圖示出通過(guò)切割圖l(b)中的電子元件晶片 模塊1而制造的傳感器模塊的每個(gè)制造過(guò)程的基本部分縱向截面圖。
首先，在第一過(guò)程中，執(zhí)行光學(xué)濾波器基片的形成(其他形式的基片可以包括薄層形式或膜形式)。光學(xué)濾波器基片被附著在將作為蓋玻
璃4的基底的玻璃基片上。如圖2(a)中所示，光學(xué)濾波器基片的形成使 得基本上與玻璃基片一樣大的紅外線截止濾波器基片5通過(guò)粘合劑6附 著在玻璃基片(指的是具有相同附圖標(biāo)記的玻璃基片4)上，該玻璃基 片將作為蓋玻璃4的基底。
例如，使用在固化后變?yōu)橥该鞯腢V粘合劑作為粘合劑6用以附著 玻璃基片4與紅外線截止濾波器基片5。粘合劑6被很薄地施加到玻璃 基片4上，具有均一厚度。因?yàn)閳?zhí)行了玻璃基片4與紅外線截止濾波器 基片5的附著，從而使得沒(méi)有空氣進(jìn)入其間，例如在真空中執(zhí)行該處理， 并且玻璃基片4和紅外線截止濾波器基片5在粘附之后被真空壓力緊密 地相互粘合。隨后，通過(guò)將紫外線穿過(guò)玻璃基片4輻射到粘合劑6上來(lái) 固化粘合劑6,從而使得玻璃基片4和紅外線截止濾波器基片5牢固地 相互粘合。
接下來(lái)，在第二過(guò)程即光學(xué)濾波器部分移除過(guò)程中，關(guān)于如圖2(b) 所示設(shè)置在玻璃基片4上方的光學(xué)濾波器(紅外線截止濾波器基片5 )， 保留的光學(xué)濾波器包括或覆蓋中間部分的固態(tài)圖像采集元件區(qū)域(圖像 采集區(qū)域)，其是作為切割之后的傳感器模塊11所必需的，而從對(duì)應(yīng) 于部分或全部的劃片線D的一部分移除光學(xué)濾波器(例如，圖3中對(duì)應(yīng) 于部分或全部的柵格狀劃片線D的一部分)。移除方法包括常用的光刻 和刻蝕工藝?？傊?，僅紅外線截止濾波器基片5會(huì)被激光束或作為另一 移除方法的劃片刀劃分為柵格形式。
隨后，在第三過(guò)程即間隔件形成過(guò)程中，很大數(shù)目的間隔件3被形 成在玻璃基片4的底表面?zhèn)纫园鼑虘B(tài)圖像采集元件21，如圖2(c)中所 示。例如，以下列步驟來(lái)執(zhí)行間隔件3的形成。首先，用于間隔件的硅 晶片被粘合劑粘合到玻璃基片4側(cè)的底表面上。接下來(lái)，通過(guò)光刻而在 用于間隔件的晶片上形成間隔件3形狀(具有用于每個(gè)芯片中間部分的 開(kāi)口 31的形狀)的抗蝕劑掩模。此外，用等離子體刻蝕移除沒(méi)有被掩 模覆蓋的部分，從而在玻璃基片4上形成很大數(shù)目的間隔件3 (為每組 固態(tài)圖像采集元件21形成包圍固態(tài)圖像采集元件21的間隔件3)。在 刻蝕之后，通過(guò)灰化等移除抗蝕劑掩沖莫。
隨后，在第四過(guò)程即基片附著過(guò)程中，如圖2(d)中所示執(zhí)行玻璃基 片4和半導(dǎo)體基片2的附著。半導(dǎo)體基片2是其上形成有很大數(shù)目的固
16態(tài)圖像采集元件21的半導(dǎo)體晶片。對(duì)準(zhǔn)粘合設(shè)備用于附著。利用圖3(a) 的柵格劃片線D作為基準(zhǔn)而又使用玻璃基片4和作為半導(dǎo)體晶片的半導(dǎo) 體基片2的每個(gè)定位平面(flat)或凹口(notch)作為基準(zhǔn)點(diǎn)，對(duì)準(zhǔn)粘合設(shè) 備執(zhí)行如圖3(b)所示設(shè)置在半導(dǎo)體基片2側(cè)的四個(gè)水平和垂直正方形 (或矩形)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A的對(duì)準(zhǔn)。在此情況下，通過(guò)使用紅外線光(其 還使得粘合劑層可見(jiàn))并且借助于相機(jī)放大劃片線D以在顯示屏上確認(rèn) 位置從而使得相交的劃片線D被定位在四個(gè)水平和垂直正方形(或矩 形)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A之間，在X和Y方向上并且在其旋轉(zhuǎn)方向(rotating direction)上執(zhí)行玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2的位置調(diào)整。此外，將玻 璃基片4和半導(dǎo)體基片2疊置起來(lái)并且施壓，從而使得玻璃基片4和半 導(dǎo)體基片2 (即半導(dǎo)體晶片)精確地相互附著。通過(guò)玻璃基片4與半導(dǎo) 體基片2的附著，通過(guò)間隔件3和玻璃基片4覆蓋和包圍半導(dǎo)體基片2 上的每個(gè)固態(tài)圖像采集元件21，并且因此，在后面的過(guò)程中將要形成的 塵埃不會(huì)附著到固態(tài)圖像采集元件21上。
此外，在第四過(guò)程即基片附著過(guò)程中，其上附著有紅外線截止濾波 器基片5的玻璃基片4向上凸起地翹曲，其上形成有很大數(shù)目的固態(tài)圖 像采集元件21的半導(dǎo)體基片2向下凸起地翹曲，如圖4所示。然而， 當(dāng)在相反方向上翹曲的玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2彼此附著時(shí)，所附著 的玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2的相應(yīng)翹曲在層壓體中相互抵消并且有所 減輕(基于材料的線性膨脹系數(shù)的差異而選擇材料)。在該過(guò)程中，用 如圖3(a)所示的柵格劃片線D將玻璃基片4上的紅外線截止濾波器基片 5劃分為部件。結(jié)果，盡管玻璃基片4的材料是二氧化硅(Si02)并且 紅外線截止濾波器基片5的材料是鈮氧化物(niobium oxide)(通過(guò)交 替地層壓硅氧化物膜(silicon oxide)和鈮氧化物膜而制成的介電多層 膜)，并且如圖5所示材料的線性膨脹系數(shù)存在差異，但是通過(guò)將紅外 線截止濾波器基片5精細(xì)劃分為柵格形式而減輕由玻璃基片4和紅外線 截止濾波器基片5所構(gòu)成的層壓體的翹曲。因此，還減輕了由玻璃基片 4和紅外線截止濾波器基片5所構(gòu)成的層壓體的翹曲。
此處，減少玻璃基片4與紅外線截止濾波器基片5、以及半導(dǎo)體基 片2的翹曲的實(shí)例，是通過(guò)形成玻璃基片4和紅外線截止濾波器基片5 以及半導(dǎo)體基片2的層壓體(其中每個(gè)都具有相反的翹曲方向，從而使 得玻璃基片4的翹曲和紅外線截止濾波器基片5以及半導(dǎo)體基片2的翹曲彼此抵消)、并且還通過(guò)用于減輕玻璃基片4和紅外線截止濾波器基 片5的翹曲的柵格劃片線D而執(zhí)行的。然而，不限于此，實(shí)例可以僅包 括通過(guò)利用具有相反翹曲方向的玻璃基片4和紅外線截止濾波器基片5 以及半導(dǎo)體基片2形成層壓體來(lái)減輕翹曲、以及通過(guò)用柵格劃片線D來(lái) 減輕玻璃基片4和紅外線截止濾波器基片5的層壓體的翹曲，其中的一 個(gè)，只要其有可能減輕玻璃基片4與紅外線截止濾波器基片5以及半導(dǎo) 體基片2的層壓體的翹曲即可。
此外，在第五過(guò)程即通孔電極和外部連接端子形成過(guò)程中，形成通 孔電極結(jié)構(gòu)以及連接到它的每個(gè)外部連接端子25，通孔電極結(jié)構(gòu)用于執(zhí) 行到元件的電路連接，貫穿半導(dǎo)體基片2的后表面到前表面形成的，如 圖2(e)中所示。為了形成通孔電極結(jié)構(gòu)和連接到它的每個(gè)外部連接端子 25，使用現(xiàn)有的光刻、刻蝕和電鍍技術(shù)。通過(guò)此過(guò)程，制造出傳感器晶 片模塊，作為起到半導(dǎo)體晶片作用的半導(dǎo)體基片2、其上附著的玻璃基 片4、以及附著在玻璃基片4上的紅外線截止濾波器基片5的層壓結(jié)構(gòu) 的電子元件晶片模塊1。
隨后在第六即劃片過(guò)程中，傳感器晶片模塊是起到半導(dǎo)體晶片作用 的半導(dǎo)體基片2、其上附著的玻璃基片4、以及附著在玻璃基片4上的 紅外線截止濾波器基片5的層壓結(jié)構(gòu)，利用劃片刀在劃片線D的中心線 Da處劃開(kāi)該傳感器晶片模塊，如圖2(f)所示。劃片帶被粘合到玻璃基片 4上用于保護(hù)玻璃基片4并且將附著的基片固定并設(shè)置于劃片設(shè)備。這 種劃片設(shè)備使用金屬樹(shù)脂砂輪等在對(duì)于每個(gè)固態(tài)圖像采集元件21的劃 片錢D的中心線Da處劃分傳感器晶片模塊，而同時(shí)向基片上傾注冷水， 該傳感器晶片模塊是起到半導(dǎo)體晶片作用的半導(dǎo)體基片2、其上附著的 玻璃基片4、以及附著在玻璃基片4上的紅外線截止濾波器基片5的層 壓結(jié)構(gòu)。例如，通過(guò)固化金剛石磨粒與樹(shù)脂而制成金屬樹(shù)脂砂輪。結(jié)果， 作為電子元件晶片模塊1的傳感器晶片模塊被劃分成片并且每個(gè)傳感器 模塊11被制造成單獨(dú)分開(kāi)的電子元件模塊。
當(dāng)傳感器模塊U由8英寸半導(dǎo)體晶片制造時(shí)，能夠同時(shí)從一個(gè)傳 感器晶片模塊制造大約2000片傳感器模塊11 如果每個(gè)紅外線截止濾 波器基片5被附著到這2000個(gè)傳感器模塊中的每個(gè)上，則將會(huì)需要極 大數(shù)目的制造過(guò)程和成本額。然而，通過(guò)上面的制造方法，能夠解決這 樣的成本問(wèn)題。然而，在單個(gè)過(guò)程中、特別是在笫四過(guò)程即基片附著過(guò)程中，通過(guò)
利用粘合劑6將紅外線截止濾波器基片5附著到玻璃基片4上，并且通 過(guò)將它們連同半導(dǎo)體基片2 —起沿著相鄰間隔件3之間的劃片線D的中 心線Da切割成片(如在實(shí)施例1中所述)，則有可能實(shí)現(xiàn)顯著減少過(guò) 程的數(shù)目和成本。此外，通過(guò)執(zhí)行從基片的后表面到固態(tài)圖像采集元件 21的電連接，則有可能減少傳感器模塊U的面積。
在通過(guò)功能性測(cè)試等之后，完成的傳感器模塊11與光學(xué)單元一起 被安裝到印刷電路板(其上附著具有電子部件的基片)上，并且組裝為 相機(jī)模塊(將在稍后在實(shí)施例3中加以說(shuō)明的固態(tài)圖像采集裝置)。
此外，相機(jī)模塊被構(gòu)建在將要在稍后加以說(shuō)明的實(shí)施例3的小型電 子信息裝置(例如移動(dòng)電話裝置)中作為包括有傳感器模塊的固態(tài)圖像 采集裝置。在根椐實(shí)施例1的傳感器模塊11中，紅外線截止濾波器基 片5被形成在起到蓋玻璃作用的玻璃基片4上，沒(méi)有單獨(dú)提供紅外線截 止濾波器基片5。結(jié)果，光學(xué)單元能夠是小型的，其有助于其中構(gòu)建有 傳感器模塊的小型電子信息裝置的小型化。
在實(shí)施例1中，沿著部分(具有每隔一條或者每隔兩條線的劃片線 的柵格形式)或全部(柵格形式)的劃片線D而移除光學(xué)濾波器。然而， 也有可能沿著不同于柵格形式的形狀(例如作為部分劃片線D的正方形 或矩形的兩個(gè)連續(xù)邊的重復(fù)形式)來(lái)移除光學(xué)濾波器。另外，在半透明支 撐基片附著到電子元件晶片的情況下，可能沿著一部分劃片線D移除光 學(xué)濾波器，這能實(shí)現(xiàn)減輕所附著結(jié)構(gòu)(模塊)的翹曲。
在實(shí)施例1中，玻璃基片4被用作半透明(translucent)支撐基片 (透明支撐基片)。然而，不限于此，除了玻璃以外，半透明支撐基片 的材料可以包括晶體、鈮酸鋰(niobium oxide lithium )、合成樹(shù)脂和 /或它們的組合。
在實(shí)施例1中，通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而形成介 電多層膜，并且使用這樣的介電多層膜用作紅外線截止濾波器基片5(或 稍后將要說(shuō)明的圖6的紅外線截止濾波器層5a)。然而，不限于此，紅 外線截止濾波器基片5 (或稍后將要說(shuō)明的圖6的紅外線截止濾波器層 5a)可以用通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈥氧化物(titanium oxide)膜 而形成的介電多層膜形成，或者用通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鉭氧化 物(tantalum oxide)膜而形成的介電多層膜形成。應(yīng)注意的是，對(duì)于通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈦氧化物膜而形成的介電多層膜、或者通過(guò)
交替地層壓硅氧化物膜和鉭氧化物膜而形成的介電多層膜而言，大約60 層的膜厚度是必要的，以便具有與通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化 物膜而形成的具有大約30層的膜厚度的介電多層膜相同的紅外線截止 功能。即，當(dāng)由硅氧化物膜和鈮氧化物膜的介電多層膜形成時(shí)，紅外線 截止濾波器基片5和紅外線截止濾波器層5a的厚度可以是較薄的。此 外，可以減輕基片的翹曲且應(yīng)力減半。因此，與硅氧化物膜和鈦氧化物 膜的介電多層膜、或者硅氧化物膜和鉭氧化物膜的介電多層膜相比，硅 氧化物膜和鈮氧化物膜的介電多層膜可以更好地減少其上附著有紅外 線截止濾波器基片5的玻璃基片4的翹曲。因此，當(dāng)使用硅氧化物膜和 鈮氧化物膜的介電多層膜作為紅外線截止濾波器基片5或者紅外線截止 濾波器層5a時(shí)，紅外錢截止濾波器基片5或者紅外線截止濾波器層5a 可以或者不必通過(guò)柵格劃片線D劃分為部件。
在實(shí)施例1中，紅外線截止濾波器基片5被附著在玻璃基片4上以 形成電子元件晶片模塊1中的光學(xué)濾波器基片。然而，不限于此，作為 電子元件晶片模塊1A，紅外線截止濾波器層5a和光學(xué)低通濾波器層7a 可以通過(guò)膜形成過(guò)程以此順序形成在起到蓋玻璃作用的玻璃基片4上， 如圖6中所示。當(dāng)然，作為電子元件晶片模塊1A,紅外線截止濾波器 基片5和光學(xué)低通濾波器基片7可以通過(guò)膜形成過(guò)程以此順序形成在起 到蓋玻璃作用的玻璃基片4上，作為基片結(jié)構(gòu)。光學(xué)低通濾波器基片7 和光學(xué)低通濾波器層7a用于防止彩色噪聲和假彩色。
在實(shí)施例1中，紅外線截止濾波器基片5被附著在玻璃基片4上， 并且在電子元件晶片模塊l中的紅外線截止濾波器基片5中形成柵格形 式的切口 (slit)。然而，不限于此，當(dāng)在玻璃基片4的表面上形成柵格 形式的切口時(shí)，紅外線截止濾波器層5a將不會(huì)連續(xù)地粘合在玻璃基片4 的柵格形式的切口上方。因此，玻璃基片4的切口將會(huì)具有與在紅外線 截止濾波器基片5中提供柵格形式切口相同的效果。
在玻璃基片4上形成光學(xué)濾波器層(紅外線截止濾波器層5a和光 學(xué)低通濾波器層7a)是通過(guò)成膜而執(zhí)行的，其類似于通過(guò)附著基片、通 過(guò)為玻璃基片4(其是蓋玻璃的基底材料)使用CVD設(shè)備和真空氣相淀 積設(shè)備的上述形成方法。隨后，類似于上述的實(shí)施例1的情況，如圖6 所示，執(zhí)行間隔件層3形成到玻璃基片4的底表面上的形成過(guò)程；執(zhí)行將其上形成有間隔件層3的玻璃基片4附著到半導(dǎo)體基片2上的附著過(guò) 程，該半導(dǎo)體基片是半導(dǎo)體晶片；以及執(zhí)行對(duì)于每個(gè)固態(tài)圖像采集元件 21的劃片過(guò)程。結(jié)果，將會(huì)從作為電子元件晶片模塊1A的傳感器晶片 模塊同時(shí)切割并制造出很大數(shù)目的傳感器模塊IIA。
同樣在通過(guò)上述的成膜過(guò)程而形成光學(xué)濾波器層(紅外線截止濾波 器層5a和光學(xué)低通濾波器層7a)的情況下，能夠同時(shí)為很大數(shù)目的固 態(tài)圖像采集元件21完成該成膜過(guò)程，使得與為很大數(shù)目的固態(tài)圖像采 集元件21中的每個(gè)提供成膜過(guò)程的情況相比，有可能實(shí)現(xiàn)顯著減少過(guò) 程的數(shù)目和成本。
此外，在實(shí)施例1中，在玻璃基片4被附著到半導(dǎo)體基片2以前執(zhí) 行移除一部分光學(xué)濾波器層，該半導(dǎo)體基片2是半導(dǎo)體晶片。然而，不 限于此，可以在玻璃基片4附著到半導(dǎo)體基片2之后執(zhí)行移除一部分光 學(xué)濾波器層(在圖3(a)中通過(guò)劃片線D形成的柵格)。此外，在實(shí)施例 1中，當(dāng)在玻璃基片4上方形成光學(xué)濾波器層之后將玻璃基片4附著到 半導(dǎo)體基片2。然而，在玻璃基片4附著到半導(dǎo)體基片2之后，紅外線 截止濾波器基片5與光學(xué)低通濾波器基片7可以被附著在玻璃基片4上， 或者可以通過(guò)紅外線截止濾波器層5a和光學(xué)低通濾波器層7a的成膜過(guò) 程而形成光學(xué)濾波器層。
此外，當(dāng)多個(gè)光學(xué)濾波器基片和光學(xué)濾波器層被形成到覆蓋固態(tài)圖 像采集元件21的玻璃基片4上時(shí)，可以將附著過(guò)程和成膜過(guò)程結(jié)合起 來(lái)。
在實(shí)施例1的第四過(guò)程中的玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2的附著過(guò)程 中，說(shuō)明了一種情況，即，當(dāng)對(duì)于如圖3(b)(半導(dǎo)體基片2和玻璃基片 4的對(duì)準(zhǔn))所示設(shè)置在半導(dǎo)體基片2側(cè)的四個(gè)水平和垂直正方形的對(duì)準(zhǔn) 標(biāo)記A與作為基準(zhǔn)點(diǎn)的圖3(a)的柵格劃片線D (從光學(xué)濾波器基片移除 掉一部分區(qū)域的部分)執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)時(shí)，在X和Y方向上并且在其旋轉(zhuǎn)方 向上執(zhí)行玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2的位置調(diào)整，而同時(shí)在顯示屏上放 大由紅外線相機(jī)攝取的圖像以確認(rèn)位置從而使得相交叉的劃片線D被 定位在四個(gè)水平和垂直正方形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A之間。然而，不限于此，當(dāng) 對(duì)如圖7(b)所示在半導(dǎo)體基片2側(cè)上設(shè)置的四個(gè)水平和垂直正方形的對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記A、與作為基準(zhǔn)的柵格劃片線D以及圖7(a)的正方形或矩形的光 學(xué)濾波器層(紅外線濾波器層5a和光學(xué)低通濾波器層7a)的移除區(qū)域H執(zhí)行對(duì)準(zhǔn)時(shí)，可以在X和Y方向上并且在其旋轉(zhuǎn)方向上執(zhí)行玻璃基片 4和半導(dǎo)體基片2的位置調(diào)整，而同時(shí)在顯示屏上放大由紅外線相機(jī)攝 取的圖^f象以確認(rèn)位置從而4吏得四個(gè)水平和垂直正方形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A的 外周被包含在光學(xué)濾波器層的移除區(qū)域H中、并且劃片線D的邊被定位 在四個(gè)水平和垂直正方形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A之間。在另一情況下，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 可以是具有四個(gè)直角三角形且它們的頂點(diǎn)彼此相對(duì)的菱形形式，如圖 7(c)中用對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A'所圖示的。在此情況下，當(dāng)對(duì)如圖7(c)所示在半導(dǎo) 體基片2側(cè)上設(shè)置的四個(gè)直角三角形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A、與作為基準(zhǔn)的劃片 線D的邊以及圖7(c)的光學(xué)濾波器層的菱形外部形式的移除區(qū)域H'執(zhí)行 對(duì)準(zhǔn)時(shí)，可以在X和Y方向上并且在其旋轉(zhuǎn)方向上執(zhí)行玻璃基片4和半 導(dǎo)體基片2的更精確的位置調(diào)整(玻璃基片4和半導(dǎo)體基片2的對(duì)準(zhǔn))， 而同時(shí)在顯示屏上放大由相機(jī)攝取的圖像以確認(rèn)位置從而使得四個(gè)直 角三角形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A'的外周被包含在光學(xué)濾波器層的移除區(qū)域H'中、 并且劃片線D的邊被定位在四個(gè)直角三角形的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A'之間。作為對(duì)實(shí)施例1的進(jìn)一步說(shuō)明， 一組微透鏡被形成在圖像采集元件 上，并且在該組微透鏡與起到透明支撐基片作用的玻璃基片4之間設(shè)置 空置(vacant)空間，該圖像采集元件是電子元件。間隔件3作為絕緣 粘合劑被填充在沒(méi)有覆蓋圖像采集元件的空置空間的周邊部分中。如上所迷，沿著劃片線D將用作光學(xué)濾波器的紅外線截止濾波器基 片5劃分為柵格形式，從而減輕基片翹曲的應(yīng)力；使用通過(guò)交替地層壓 硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜，從而將紅外線截止濾波 器基片5的厚度減半，以將基片翹曲的應(yīng)力減半；并且將起到透明支撐 基片作用的玻璃基片4、和起到半導(dǎo)體晶片作用且具有相反翹曲方向的 的半導(dǎo)體基片2相互附著從而抵消相應(yīng)的翹曲應(yīng)力。通過(guò)任何上述事項(xiàng) 或它們的組合，有可能進(jìn)一步減少當(dāng)將半導(dǎo)體基片2與起到透明支撐基 片作用且其上附著有紅外線截止濾波器基片5的玻璃基片4相附著時(shí)發(fā) 生的翹曲。在上述情況下，電子元件是圖像采集元件，其包括用于執(zhí)行光電轉(zhuǎn) 換并且采集來(lái)自對(duì)象的光的圖像的多個(gè)光接收部件。然而，不限于此， 電子元件可以是用于生成輸出光的光發(fā)射元件和用于接收入射光的光 接收元件。作為一個(gè)實(shí)例，作為電子元件模塊的根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊，22其中諸如透鏡板的光學(xué)元件被進(jìn)一步附著在起到根據(jù)實(shí)施例1的電子元件模塊作用的傳感器模塊11或UA上，將參考圖8說(shuō)明傳感器模塊的 一個(gè)實(shí)例。在傳感器模塊中，將半導(dǎo)體基片2和玻璃基片4以及一個(gè)或 多個(gè)透鏡模塊(在下列實(shí)施例中具有三個(gè)光學(xué)元件的透鏡板)層壓到一 起，該半導(dǎo)體基片2包括圖像采集元件(對(duì)應(yīng)于固態(tài)圖像采集元件21 ), 其具有多個(gè)光接收部件用于執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換并且采集來(lái)自對(duì)象的光的圖 像；該玻璃基片4包括每個(gè)都附著于其上的紅外線截止濾波器基片5和 光學(xué)低通濾波器基片7;該一個(gè)或多個(gè)透鏡模塊用于將入射光的圖像形 成到圖像采集元件上。(實(shí)施例2)圖8是圖示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例2的傳感器模塊的示例性基本結(jié) 構(gòu)的縱向截面圖。在圖8中，根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊50包括通孔晶片51(對(duì) 應(yīng)于從電子元件晶片模塊單獨(dú)分離開(kāi)的每個(gè)芯片)，其中起到電子元件 作用的圖像采集元件51a是由多個(gè)光接收部件構(gòu)成的并且被設(shè)置在芯片 表面上，該多個(gè)光接收部件是對(duì)應(yīng)于多個(gè)相應(yīng)像素的光電轉(zhuǎn)換部件(光電 二極管)，并且其中將通孔51b設(shè)置為在前表面與后表面之間作為布線將 它們電連接的通孔電極；樹(shù)脂粘合劑層52(對(duì)應(yīng)于圖3中的間隔件3), 形成在通孔晶片51的圖像采集元件51a的周邊；玻璃板531(對(duì)應(yīng)于圖 1中作為透明支撐基片的玻璃基片4),單獨(dú)分離開(kāi)作為蓋玻璃而覆蓋 樹(shù)脂粘合劑層52，并且具有附著在其表面上的紅外線截止濾波器基片532 (對(duì)應(yīng)于圖1中的紅外線截止濾波器基片5)和光學(xué)低通濾波器基片533 (對(duì)應(yīng)于光學(xué)低通濾波器基片7，特別是圖6中的光學(xué)低通濾波器層 7a);透鏡板54 (透鏡模塊)，其設(shè)置在玻璃板531、紅外線截止濾波 器基片532和光學(xué)低通濾波器基片533的層壓結(jié)構(gòu)上方，并且其中多個(gè) 透鏡板541至543起到用于將入射光聚焦到圖像采集元件51a上的光學(xué) 元件的作用；透鏡粘合劑層551和552,其用于粘合并且固定透鏡板541 至543;以及光屏蔽元件56，其用于在透鏡板541至543之中的最上面 的透鏡板541的中間部分提供開(kāi)口作為圓形光攝入口 (in-take)并且用 于屏蔽每個(gè)透鏡板541至543以及玻璃板531的其余表面部分和側(cè)表面 部分。此外，在通孔晶片51上方，通過(guò)樹(shù)脂粘合劑層52和透鏡粘合劑層551及552，將玻璃板531和透鏡板54以此順序?qū)?zhǔn)并垂直地粘合。總之，形成了根據(jù)實(shí)施例2作為電子元件模塊的傳感器模塊50,從 而使得用粘合劑層551和552將多個(gè)透鏡板541至543粘合在根據(jù)實(shí)施 例1的電子元件晶片模塊1或1A上，并使用此晶片模塊作為新的電子 元件晶片模塊，該晶片模塊被單獨(dú)地劃分成片，并且將光屏蔽元件56 附著到上面。結(jié)果，制造出根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊50。透鏡板54是透明樹(shù)脂或透明玻璃的透鏡板。透鏡板54是由透鏡功 能的透鏡區(qū)域、以及作為具有間隔件功能的間隔件部件的周邊凸緣形成 的。整個(gè)透鏡板構(gòu)造是用相同類型的玻璃或樹(shù)脂材料形成的。利用上述 結(jié)構(gòu)，有可能形成具有預(yù)定透鏡厚度的透鏡板541至543。在實(shí)施例2中，透鏡板54具有這樣的結(jié)構(gòu)，其中在透鏡凸緣處對(duì) 所形成透鏡板中的三個(gè)541至543進(jìn)^f亍層壓。粘合劑元件551和552用 于層壓，并且粘合劑元件551和552可以具有光屏蔽功能。作為光學(xué)元件由多個(gè)透鏡形成的透鏡板54包括像差矯正透鏡543、 擴(kuò)散透鏡542、和光聚焦透鏡541 (對(duì)于僅具有一個(gè)透鏡的情況，該透 鏡是光聚焦透鏡)。在透鏡板54中，在中間部分處設(shè)置透鏡區(qū)域并且 在透鏡區(qū)域的外周側(cè)設(shè)置透鏡凸緣，該透鏡凸緣具有預(yù)定厚度并且起到 間隔件部件的作用。這樣的透鏡、或間隔件部件，被設(shè)置在透鏡板54 的外周側(cè)，具有預(yù)定厚度。每個(gè)間隔件部件以此順序從底部開(kāi)始定位。 間隔件部件具有位置確定功能，并且該位置確定功能包括傾斜的凸出和 凹入部件、或者對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記A和A'。將三個(gè)透鏡板541至543粘合起來(lái)的 粘合劑層551和/或552，也可以具有光屏蔽功能，并且粘合劑層551和 552可以包括用于確定空間的固體物質(zhì)。接下來(lái)，作為如實(shí)施例3的使用傳感器模塊50作為電子元件模塊 的成品，將參考附圖詳細(xì)說(shuō)明一種電子信息裝置，其包括用在圖像采集 部件中的根據(jù)實(shí)施例1的傳感器模塊U或UA、或者根椐實(shí)施例2的 傳感器模塊50。(實(shí)施例3 )圖9是圖示出本發(fā)明的實(shí)施例3的電子信息裝置的示例性概略結(jié)構(gòu) 的框圖，該電子信息裝置包括用于圖像采集部件中的根椐本發(fā)明的實(shí)施 例1的傳感器模塊11或UA或者根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊50。在圖9中，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例3的電子信息裝置90包括固態(tài) 圖像采集裝置91，其用于對(duì)來(lái)自于根據(jù)實(shí)施例1的傳感器模塊U或 IIA、或者根據(jù)實(shí)施例2的傳感器模塊50的圖像采集信號(hào)執(zhí)行各種信號(hào) 處理從而獲得彩色圖像信號(hào)；存儲(chǔ)器件92 (例如記錄介質(zhì))，其用于在 為記錄而對(duì)來(lái)自于固態(tài)圖像采集裝置91的彩色圖像信號(hào)執(zhí)行預(yù)定的信 號(hào)處理之后，對(duì)彩色圖像信號(hào)進(jìn)行數(shù)據(jù)記錄；顯示部件93(例如液晶顯 示裝置)，其用于在為顯示而對(duì)來(lái)自于固態(tài)圖像采集裝置91的的彩色 圖像信號(hào)執(zhí)行預(yù)定的信號(hào)處理之后，在顯示屏(例如液晶顯示屏)上顯 示彩色圖像信號(hào)；通信部件94 (例如發(fā)送和接收裝置)，其用于在為通 信而對(duì)來(lái)自于固態(tài)圖像采集裝置91的彩色圖像信號(hào)執(zhí)行預(yù)定的信號(hào)處 理之后，來(lái)傳送彩色圖像信號(hào)；以及圖像輸出部件95(例如，打印機(jī))， 其用于在為打印而執(zhí)行預(yù)定的信號(hào)處理之后，打印來(lái)自于固態(tài)圖像采集 裝置91的彩色圖像信號(hào)。不限于此，除了固態(tài)圖像采集裝置91以外， 電子信息裝置90還可以包括存儲(chǔ)部件92、顯示部件93、通信部件94 和圖像輸出部件95中的任意部件。可將包括圖像輸入裝置的電子信息裝置想象為電子信息裝置90，諸 如數(shù)碼相機(jī)(digital camera)(例如，數(shù)碼揭/f象才幾(digital video camera)和 數(shù)碼l爭(zhēng)拍相才幾(digital still camera))， 圖4象輸入相才幾(iinage input camera) (例如，監(jiān)控相機(jī)、門口對(duì)講相機(jī)、配備在車輛中的相機(jī)(例如車輛中 配備的后視監(jiān)控相機(jī))、以及電視相機(jī))，掃描儀，傳真機(jī)，電視電話 裝置，配備有相機(jī)的移動(dòng)電話裝置，以及個(gè)人數(shù)字助理(PDA)。因此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例3，來(lái)自于固態(tài)圖像采集裝置91的彩色 圖像信號(hào)可以精細(xì)地顯示在顯示屏上，使用圖像輸出部件95而在紙 張上打印出來(lái)，經(jīng)由導(dǎo)線或無(wú)線電作為通信數(shù)據(jù)而精細(xì)地傳送，通過(guò)執(zhí) 行預(yù)定數(shù)據(jù)壓縮處理而在存儲(chǔ)部件92處精細(xì)地加以儲(chǔ)存；并且能夠精 細(xì)地執(zhí)行各種數(shù)據(jù)處理。不限于上述的根據(jù)實(shí)施例3的電子信息裝置90，電子信息裝置可能 是拾取裝置，其具有用在信息記錄和再現(xiàn)部件中的、根據(jù)本發(fā)明的電子 元件模塊。在此情況下的拾取裝置的光學(xué)元件是光學(xué)功能元件(晶片狀 態(tài)(wafer-state)的光學(xué)裝置例如，棱鏡模塊和全息元件模塊，或換句話 說(shuō)，全息光學(xué)元件和棱鏡光學(xué)元件)，用于推進(jìn)(advance)輸出光直接 輸出并且用于折射入射光以允許其在預(yù)定方向上進(jìn)入。另外，拾取裝置的電子元件包括用于產(chǎn)生輸出光的光發(fā)射元件(例如，半導(dǎo)體激光器元件或激光器芯片)和用于接收入射光的光接收元件(例如，光(photo)IC )。 如上所述，通過(guò)使用本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例1至3例證了本發(fā)明。然 而，不應(yīng)當(dāng)基于上述實(shí)施例1至3而單獨(dú)地解釋本發(fā)明。應(yīng)理解的是， 應(yīng)當(dāng)僅基于權(quán)利要求而解釋本發(fā)明的范圍。也應(yīng)當(dāng)理解到，本領(lǐng)域技術(shù) 人員能夠基于本發(fā)明的說(shuō)明和來(lái)自本發(fā)明的具體優(yōu)選實(shí)施例1至3的說(shuō) 明的常識(shí)而實(shí)現(xiàn)等效的技術(shù)范圍。此外，應(yīng)理解到，在本說(shuō)明書(shū)中引用 的任何專利、任何專利申請(qǐng)以及任何參考文件應(yīng)當(dāng)以內(nèi)容在本文中具體 說(shuō)明相同的方式通過(guò)引用并入本說(shuō)明書(shū)中。產(chǎn)業(yè)應(yīng)用本發(fā)明能夠應(yīng)用于電子元件晶片模塊的領(lǐng)域中，電子元件晶片模塊 中，在保護(hù)多個(gè)電子元件的蓋玻璃上設(shè)置有光學(xué)濾波器層； 一種用于制 造電子元件晶片模塊的方法; 一種通過(guò)將電子元件晶片切割成片而形成 的電子元件模塊； 一種其上還附著有光學(xué)元件的電子元件模塊；以及一 種電子信息裝置，例如數(shù)碼相機(jī)(例如，數(shù)碼攝像機(jī)和數(shù)碼靜拍相機(jī))， 圖像輸入相機(jī)，掃描儀，傳真機(jī)，和配備有相機(jī)的移動(dòng)電話裝置，其具 有在其圖像采集部件中使用的作為圖像輸入裝置的任何電子元件模塊。 根據(jù)本發(fā)明，沿著劃片線而將光學(xué)濾波器劃分為部件以減輕翹曲應(yīng)力， 通過(guò)使用介電多層膜將光學(xué)濾波器的厚度減半以減輕翹曲應(yīng)力，該介電 多層膜是通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而形成的，并且半透 明支撐基片被附著到半導(dǎo)體晶片，該半導(dǎo)體晶片的翹曲方向與半透明支 撐基片的翹曲方向相反以抵消相應(yīng)的應(yīng)力。結(jié)果，有可能進(jìn)一步減少當(dāng) 電子元件晶片與其上附著有諸如紅外線截止濾波器這樣的光學(xué)濾波器 的半透明支撐基片被層壓到一起時(shí)發(fā)生的翹曲。各種其它變形將會(huì)是對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見(jiàn)的并且能夠由 他們?nèi)菀椎刈鞒?，而不離開(kāi)本發(fā)明的范圍和精神。因此，其意圖并非是 將此處所附權(quán)利要求書(shū)的范圍局限于如本文中所闡明的說(shuō)明，而是廣義 地解釋權(quán)利要求書(shū)。
權(quán)利要求
1.一種電子元件晶片模塊，其中用于覆蓋和保護(hù)多個(gè)電子元件的半透明支撐基片附著在其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶片上，并且對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件，形成光學(xué)濾波器，其中沿著用于將電子元件晶片模塊單獨(dú)劃分為多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線，移除光學(xué)濾波器以減輕翹曲。
2. —種電子元件晶片模塊，其中用于覆蓋和保護(hù)多個(gè)電子元件的半 透明支撐基片附著在其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶片上，并且 對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件，形成光學(xué)濾波 器，其中光學(xué)濾波器是紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧 化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜。
3. —種電子元件晶片模塊，其中用于覆蓋和保護(hù)多個(gè)電子元件的半 透明支撐基片附著在其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶片上，并且 對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件，形成光學(xué)濾波器，其中將其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子元件晶片 附著到一起以形成層壓體，從而使得電子元件晶片的翹曲方向與半透明 支撐基片的翹曲方向是彼此反向的以減少電子元件晶片的翹曲。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的電子元件晶片模塊，其中將其上形成有光 學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子元件晶片附著到一起以形成層壓體， 從而使得電子元件晶片的翹曲方向與半透明支撐基片的翹曲方向是彼 此反向的以減少電子元件晶片的翹曲。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或3的電子元件晶片模塊，其中光學(xué)濾波器是紅 外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制 成的介電多層膜。
6. 根據(jù)權(quán)利要求2或3的電子元件晶片模塊，其中沿著用于單獨(dú)劃 分多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中光學(xué)低 通濾波器形成為光學(xué)濾波器。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中以板的形式、薄層的形式、膜的形式和分層的形式中的至少任一種而形成光學(xué) 濾波器。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中半透明 支撐基片是由玻璃、晶體、鈮酸鋰、合成樹(shù)脂和/或它們的組合而構(gòu)造的。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中光學(xué)濾 波器是紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈦氧化 物膜而制成的介電多層膜。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中光學(xué)濾 波器是紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鉭氧化 物膜而制成的介電多層膜。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊，其中，在電 子元件晶片中，為每個(gè)電子元件在前表面設(shè)置的布線部件或焊盤部件經(jīng) 由通孔電極而電連接到后表面上的外部連接端子。
13. —種用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括 光學(xué)濾波器形成步驟，在透明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué)濾波器；光學(xué)濾波器部分移除步驟，沿著用于單獨(dú)劃分多個(gè)電子元件模塊的 一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器以減輕翹曲；和基片附著步驟，將其上形成有多個(gè)電子元件的半導(dǎo)體晶片與其中的 光學(xué)濾波器沿著一部分或全部的劃片線移除掉的透明支撐基片附著到 一起。
14. 一種用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括 光學(xué)濾波器形成步驟，在透明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué)濾波器；基片附著步驟，將其上形成有多個(gè)電子元件的半導(dǎo)體晶片與其上形 成有光學(xué)濾波器的透明支撐基片附著到一起；和光學(xué)濾波器部分移除步驟，沿著用于單獨(dú)劃分多個(gè)電子元件模塊的 一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器以減輕翹曲。
15. —種用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括 光學(xué)濾波器形成步驟，形成紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)交替地層壓硅氧化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜；和基片附著步驟，將其上形成有紅外線截止濾波器的半透明支撐基片附著在其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶片上。
16,—種用于制造電子元件晶片模塊的方法，包括 光學(xué)濾波器形成步驟，在透明支撐基片的至少一個(gè)表面上形成光學(xué) 濾波器；和基片附著步驟，將其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與電子 元件晶片附著到一起，從而使得其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶是彼此反向的以減少電子元件晶片的翹曲。
17. 根據(jù)權(quán)利要求13至15中任一項(xiàng)的用于制造電子元件晶片模塊的 方法，其中基片附著步驟將其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片與 電子元件晶片附著到一起以形成層壓體，從而使得電子元件晶片的翹曲 方向與半透明支撐基片的翹曲方向是彼此反向，以減少電子元件晶片的 翹曲。
18. 根據(jù)權(quán)利要求13、 14和16中任一項(xiàng)的用于制造電子元件晶片模塊的方法，其中光學(xué)濾波器形成步驟形成作為光學(xué)濾波器的紅外線截止濾波器，其包括通過(guò)在透明支撐基片的至少一個(gè)表面上交替地層壓硅氧 化物膜和鈮氧化物膜而制成的介電多層膜。
19. 根據(jù)權(quán)利要求15或16的用于制造電子元件晶片模塊的方法，還 包括沿著用于單獨(dú)劃分多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而的翹曲的光學(xué)濾波器部分移除步驟。
20. —種電子元件模塊，其是通過(guò)沿著劃片線的中心線為每個(gè)電子元 件切割半導(dǎo)體晶片以及其上形成有光學(xué)濾波器的半透明支撐基片，而從 根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)的電子元件晶片模塊單獨(dú)劃分出的。
21. —種電子元件模塊，其包括根據(jù)權(quán)利要求20的電子元件模塊， 以及被定位在該電子元件模塊的電子元件上方的光學(xué)系統(tǒng)，或者其中嵌 入有該光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)單元。
22. 根椐權(quán)利要求20的電子元件模塊，其中電子元件是圖像采集元 件，其包括多個(gè)光接收部件，用于執(zhí)行光電轉(zhuǎn)換并且采集來(lái)自對(duì)象的光 的圖像。
23. 根椐權(quán)利要求20的電子元件模塊，其中電子元件包括用于生成 輸出光的光發(fā)射元件和用于接收入射光的光接收元件。
24. 根據(jù)權(quán)利要求21的電子元件;f莫塊，其中光學(xué)系統(tǒng)是透鏡模塊并 且電子元件是圖像采集元件。
25. 根據(jù)權(quán)利要求21的電子元件模塊，其中光學(xué)系統(tǒng)是棱鏡模塊或 者全息元件模塊，并且電子元件是光發(fā)射元件和光接收元件。
26. —種電子信息裝置，其包括在其圖像采集部件中作為傳感器模塊的根據(jù)權(quán)利要求22的電子元件模塊。
27. 一種電子信息裝置，其包括在其信息記錄和再現(xiàn)部件中根據(jù)權(quán)利要求23的電子元件模塊。
全文摘要
本發(fā)明涉及電子元件晶片模塊及制造、電子元件模塊和電子信息裝置。提供一種根據(jù)本發(fā)明的電子元件晶片模塊，其中將用于覆蓋和保護(hù)多個(gè)電子元件的半透明支撐基片附著到其上形成有多個(gè)電子元件的電子元件晶片上，并且對(duì)應(yīng)于在該半透明支撐基片至少一個(gè)表面上的電子元件而形成光學(xué)濾波器，其中沿著用于將電子元件晶片模塊單獨(dú)劃分為多個(gè)電子元件模塊的一部分或者全部劃片線而移除光學(xué)濾波器以減輕翹曲。
文檔編號(hào)H04N5/335GK101593762SQ20091014185
公開(kāi)日2009年12月2日 申請(qǐng)日期2009年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月29日
發(fā)明者井田徹, 平田榮一 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社