一種復(fù)合振膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種復(fù)合振膜，包括基材，所述基材表面至少設(shè)置有一層石墨炔層，由于本發(fā)明在基材上設(shè)置了石墨炔層，石墨炔是一種質(zhì)輕且剛性高的二維結(jié)構(gòu)材料，因此所制得的復(fù)合振膜可以兼具硬度、韌性與低密度等特性，實(shí)現(xiàn)耐用及可提供高清晰音質(zhì)等實(shí)用性目的。
【專利說明】一種復(fù)合振膜
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及揚(yáng)聲器領(lǐng)域，特別是一種復(fù)合振膜。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著數(shù)字媒體的普及與進(jìn)步，數(shù)字音樂不斷朝向高傳真(H1-Fi )發(fā)展，也帶動(dòng)各種專業(yè)揚(yáng)聲器的研發(fā)風(fēng)潮。為了追求更優(yōu)越的音頻輸出特性，揚(yáng)聲器的振膜為其中最關(guān)鍵的
零件之一。
[0003]在相同尺寸、外型的前提下，振膜必須要有足夠的硬度與韌性才能承受劇烈的反復(fù)運(yùn)動(dòng)，避免非彈性變形甚至破裂的問題。同時(shí)，振膜還必須要有較低的密度以便輕快地運(yùn)動(dòng),如此才有助于能量發(fā)散而提供高清晰的音質(zhì)。
[0004]因此，如何提供一種兼具硬度、韌性與低密度的振膜，實(shí)系本領(lǐng)域人士所應(yīng)思量的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種具有高硬度、高韌性、低重量的復(fù)合振膜。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種復(fù)合振膜，包括基材，其特征在于:所述基材表面至少設(shè)置有一層石墨炔層。
[0007]優(yōu)選地，所述基材包括中心部位的中心部、位于所述中心部四周的邊緣部。
[0008]進(jìn)一步優(yōu)選地，所述石墨炔層設(shè)置在所述中心部上表面。
[0009]進(jìn)一步優(yōu)選地，所述石墨炔層設(shè)置在所述中心部上表面和下表面。
[0010]進(jìn)一步優(yōu)選地，所述石墨炔層設(shè)置在所述邊緣部。
[0011]優(yōu)選地，所述石墨炔層為物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、涂布、轉(zhuǎn)印、黏貼或熔合制程其中的一種方式設(shè)置。
[0012]優(yōu)選地，所述基材的材料為金屬、高分子材料、布、絲、麻、紙及復(fù)合材料其中的一種。
[0013]優(yōu)選地，所述中心部和邊緣部的斷面均為弧形。
[0014]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0015]由于本發(fā)明在基材上設(shè)置了石墨炔層，石墨炔是一種質(zhì)輕且剛性高的二維結(jié)構(gòu)材料，因此所制得的復(fù)合振膜可以兼具硬度、韌性與低密度等特性，實(shí)現(xiàn)耐用及可提供高清晰音質(zhì)等實(shí)用性目的。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]附圖1為實(shí)施例一的截面示意圖；
[0017]附圖2為實(shí)施例二的截面示意圖；
[0018]附圖3為實(shí)施例三的截面示意圖；
[0019]附圖4為實(shí)施例四的截面示意圖。[0020]以上附圖中:10、復(fù)合振膜；20、基材；21、中心部；22、邊緣部；30、石墨炔層；40、復(fù)合振膜；50、基材；51、中心部；60、石墨炔層；70、復(fù)合振膜；80、基材；82、邊緣部；90、石墨炔層；100、復(fù)合振膜；110、基材；111、中心部；112、邊緣部；120石墨炔層。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面結(jié)合附圖所示的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步描述:
[0022]實(shí)施例一:參見附圖1所不,一種復(fù)合振膜10包括基材20和石墨炔層30。
[0023]基材20具有中心部21及設(shè)于中心部21外周的邊緣部22，其中，基材20所使用的材質(zhì)可選自金屬、高分子材料、布、絲、麻、紙及復(fù)合材料其中之一，中心部21及邊緣部22皆具有弧形斷面。
[0024]該石墨塊層30系設(shè)于基材20中心部21的上表面，石墨塊層30的材質(zhì)為石墨塊，石墨炔系同時(shí)以sp、sp2、sp3三種雜化態(tài)所形成的單原子層結(jié)構(gòu)，即石墨炔是一種二維平面網(wǎng)絡(luò)狀的全碳分子結(jié)構(gòu)，其中的碳-碳三鍵(即sp雜化態(tài))是構(gòu)成石墨炔結(jié)構(gòu)中的重要連接單元，由于它不會(huì)受順反異構(gòu)的變化影響，因此可以一直保持線性的狀態(tài)；其中，所述石墨炔可以具有下列式一至式四其中一種結(jié)構(gòu)式:
[0025]
【權(quán)利要求】
1.一種復(fù)合振膜，包括基材，其特征在于:所述基材表面至少設(shè)置有一層石墨炔層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述基材包括中心部位的中心部、位于所述中心部四周的邊緣部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述石墨炔層設(shè)置在所述中心部上表面。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述石墨炔層設(shè)置在所述中心部上表面和下表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述石墨炔層設(shè)置在所述邊緣部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述石墨炔層為物理氣相沉積、化學(xué)氣相沉積、涂布、轉(zhuǎn)印、黏貼或熔合制程其中的一種方式設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述基材的材料為金屬、高分子材料、布、絲、麻、紙及復(fù)合材料其中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種復(fù)合振膜，其特征在于:所述中心部和邊緣部的斷面均為弧形。
【文檔編號(hào)】H04R7/12GK103702266SQ201310749905
【公開日】2014年4月2日 申請(qǐng)日期:2013年12月31日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月31日
【發(fā)明者】林晴嵐, 楊宸貿(mào), 王文弘 申請(qǐng)人:美特科技(蘇州)有限公司